JP2011144360A - 光半導体素子封止用樹脂組成物及び当該組成物で封止した光半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】封止樹脂との屈折率の差が±0.03であり、且つ熱伝導率が0.5W/m・K以上のシリカ系フィラーを含有する樹脂組成物。
【選択図】図1
Description
近年では、ガス透過性の比較的小さい屈折率1.45以上のシリコーン硬化物を使用することにより、前述の銀メッキ表面の硫化問題を解決することが提案されているが、前述の発光素子の発光効率向上や高発熱化により、この種のシリコーン硬化物でも変色する不具合が発生している。
請求項1:
硬化性樹脂組成物に、この硬化性樹脂組成物の硬化物との屈折率の差が±0.03であり、且つ熱伝導率が0.5W/m・K以上のシリカ系フィラーを配合してなることを特徴とする光半導体素子封止用樹脂組成物。
請求項2:
更に、蛍光体を含有する請求項1記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
請求項3:
シリカ系フィラーの含有量が、硬化性樹脂組成物100質量部に対して5〜150質量部である請求項1又は2記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
請求項4:
シリカ系フィラーの屈折率が1.45〜1.55である請求項1〜3のいずれか1項記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
請求項5:
シリカ系フィラーがクリスタバライト構造を有する請求項1〜4のいずれか1項記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
請求項6:
クリスタバライト構造を有するシリカ系フィラーが粒度0.01〜75μm、球形度0.8〜1.0である請求項5記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
請求項7:
硬化性樹脂組成物が硬化性シリコーンゴム組成物である請求項1〜6のいずれか1項記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
請求項8:
硬化性シリコーンゴム組成物が付加硬化型シリコーンゴム組成物である請求項7記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
請求項9:
請求項1〜8のいずれか1項記載の光半導体素子封止用樹脂組成物の硬化物にて光半導体素子が封止された光半導体装置。
本発明に使用する硬化性組成物としては、脂環式エポキシ樹脂を主体とするエポキシ樹脂組成物やエポキシ樹脂とシリコーン樹脂の混成樹脂組成物、更には縮合硬化性や熱硬化性のシリコーンゴム組成物などが使用可能である。なかでも付加硬化型シリコーンゴム組成物が望ましいものである。付加硬化型シリコーンゴム組成物としては、(A)非共有結合性二重結合基を有する有機ケイ素化合物、特に一分子中に2個以上のアルケニル基を含有するアルケニル基含有オルガノポリシロキサン、(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサン、(C)白金系触媒、(D)反応抑制剤、及び(E)シランカップリング剤からなる付加硬化型シリコーンゴム組成物が好適に使用される。
(A)成分としては、下記一般式(1)
R1R2R3SiO−(R4R5SiO)a−(R6R7SiO)b−SiR1R2R3 (1)
(式中、R1は非共有結合性二重結合基含有一価炭化水素基を示し、R2〜R7はそれぞれ同一又は異種の一価炭化水素基を示し、このうちR4〜R7は、好ましくは脂肪族不飽和結合を有さない一価炭化水素基を示し、また、R6及び/又はR7は好ましくは芳香族一価炭化水素基を示し、0≦a+b≦500、好ましくは10≦a+b≦500の整数であり、0≦a≦500、好ましくは10≦a≦500、0≦b≦250、好ましくは0≦b≦150の整数である。)
で示されるオルガノポリシロキサンを使用することができる。
(式中、k,mは0≦k+m≦500を満足する整数であり、好ましくは5≦k+m≦250で、0≦m/(k+m)≦0.5を満足する整数である。)
(B)成分には、一分子中にケイ素原子に結合した水素原子を2個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンが用いられる。かかるオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、架橋剤として作用するもので、該成分中のSiH基と(A)成分のビニル基等の非共有結合性二重結合基(典型的にはアルケニル基)とが付加反応することにより、硬化物を形成するものである。
(C)成分には、白金系触媒が用いられる。白金系触媒には塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、キレート構造を有する白金錯体等が挙げられる。これらは単独でも、2種以上の組み合わせでも使用することができる。
これらの触媒成分の配合量は、硬化有効量であり、所謂触媒量でよく、通常、前記(A)及び(B)成分の合計量100質量部当り、白金族金属の質量換算で0.1〜500ppm、特に0.5〜100ppmの範囲で使用される。
(D)成分は、本発明の組成物に必要な保存性を当該組成物に与える反応抑制剤(硬化制御剤)である。所望の硬化条件以外で本発明の組成物が硬化するのを抑制することができる限り、(D)成分の構造に特に制限はない。その具体例としては、アセチレンアルコール系化合物、トリアリルイソシアヌレート系化合物、ビニル基含有ポリシロキサン、アルキルマレエート類、ハイドロパーオキサイド、テトラメチルエチレンジアミン、ベンゾトリアゾール又はこれらの混合物が挙げられる。これらの中でも、本発明組成物の硬化性を損なうことなく、特に優れた保存性を本発明組成物に与えることができるので、アセチレンアルコール系化合物及びトリアリルイソシアヌレート系化合物が好ましい。
(D)成分の配合量は、付加硬化型シリコーンゴム組成物全体の1〜10,000ppm、特に5〜5,000ppmである。
(E)成分のシランカップリング剤は、接着性等の点で必要に応じて配合されるもので、シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等や、トリメトキシシラン、テトラメトキシシラン及びそのオリゴマー等が挙げられる。これらのシランカップリング剤は、単独でも2種以上混合して使用することも可能である。
シランカップリング剤の配合量は、付加硬化型シリコーンゴム組成物全体の10質量%以下(0〜10質量%)、特に5質量%以下(0〜5質量%)配合することが好ましい。なお、配合する場合は0.1質量%以上とすることが好ましい。
本発明の封止樹脂組成物は、上記硬化性組成物、特に上記(A)〜(E)成分からなる付加硬化型シリコーンゴム組成物に対し、この硬化性組成物、特に上記付加硬化型シリコーンゴム組成物の硬化物との屈折率の差が±0.03であり、且つ熱伝導率が0.5W/m・K以上、好ましくは0.5〜2.0W/m・Kのシリカ系フィラーを(F)成分として配合する。
この場合、封止方法としては、光半導体の種類に応じた常法が採用されるが、本発明の封止樹脂組成物の硬化条件は、室温から200℃程度までの温度範囲で、数十秒から数日間程度の時間範囲とすることができるが、好ましくは80〜180℃の温度範囲で1分程度から10時間程度であることが好ましい。
粘度 :JIS K 6249に準じて測定した。
屈折率:Siウエハー上にシリコーン組成物をスピンコートして膜厚約10μmの皮膜を
作製し、150℃/4時間で硬化させた。この皮膜をメトリコン社製モデル名2
010プリズムカプラーにて屈折率を測定した。
シリコーン組成物として、下記式(I)
このシリコーン組成物の硬化物の屈折率は1.51であった。
前記シリコーン組成物100質量部に、屈折率1.53のクリスタバライト粉(平均粒径5μm)30質量部とYAG(蛍光体)5質量部を分散させ、図1に示すLEDパッケージに封止したものを実施例1とした。同様に前記シリコーン組成物に前記クリスタバライト粉50質量部とYAG5質量部を分散させ、LEDパッケージに封止したものを実施例2とした。
前記シリコーン組成物100質量部に、屈折率1.53のクリスタバライト粉10質量部とYAG5質量部を分散させ、LEDパッケージに封止したものを実施例3とした。同様に前記シリコーン組成物に前記クリスタバライト粉80質量部とYAG5質量部を分散させ、LEDパッケージに封止したものを実施例4とした。
前記シリコーン組成物のみでLEDパッケージに封止したものを比較例1とした。
前記シリコーン組成物100質量部に、YAG5質量部と屈折率1.46の球状シリカフィラー10質量部、50質量部を分散させ、LEDパッケージに封止したものを比較例2,3とした。
表面埃付着の評価法(表面のタック感):
上記のように硬化させた硬化物表面のタック性を指触にて確認した。更に、市販の銀粉(平均粒径5μm)中に硬化物を置き、取り出し後、エアーを吹き付けて表面に埃のように付着した銀粉が取れるか試験した。
2 導電性ワイヤー
3 銀メッキリードフレーム
4 封止樹脂組成物の硬化物
5 モールドパッケージ
6 シリカ系フィラー
7 蛍光体
Claims (9)
- 硬化性樹脂組成物に、この硬化性樹脂組成物の硬化物との屈折率の差が±0.03であり、且つ熱伝導率が0.5W/m・K以上のシリカ系フィラーを配合してなることを特徴とする光半導体素子封止用樹脂組成物。
- 更に、蛍光体を含有する請求項1記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
- シリカ系フィラーの含有量が、硬化性樹脂組成物100質量部に対して5〜150質量部である請求項1又は2記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
- シリカ系フィラーの屈折率が1.45〜1.55である請求項1〜3のいずれか1項記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
- シリカ系フィラーがクリスタバライト構造を有する請求項1〜4のいずれか1項記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
- クリスタバライト構造を有するシリカ系フィラーが粒度0.01〜75μm、球形度0.8〜1.0である請求項5記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
- 硬化性樹脂組成物が硬化性シリコーンゴム組成物である請求項1〜6のいずれか1項記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
- 硬化性シリコーンゴム組成物が付加硬化型シリコーンゴム組成物である請求項7記載の光半導体素子封止用樹脂組成物。
- 請求項1〜8のいずれか1項記載の光半導体素子封止用樹脂組成物の硬化物にて光半導体素子が封止された光半導体装置。
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