JP2011124564A5 - 真空処理装置及び真空処理装置の運転方法 - Google Patents

Description

本発明は、半導体処理装置の真空処理室と真空搬送室等との間で半導体被処理基板の搬送機構を備えた真空処理装置の構成、及び当該真空処理装置を用いた運転方法に関するものである。以下、本明細書においては、半導体被処理基板又はウエハ或いは基板状の試料等を含んで、単に「ウエハ」という。

さらに、本発明は、特に、複数の真空処理室を複数の真空搬送室内の搬送機構を介して直列的に配置した真空処理装置の構成及びその運転方法に関するものである。

上記課題を解決するために、本発明の真空処理装置は、複数のカセット台が前面側に配置され、前記複数のカセット台のうちの少なくとも１つの上に設置されたカセット内に収納された複数のウエハがその内部を搬送される大気搬送室と、該大気搬送室の後方に配置されて連結され内部に当該大気搬送室から搬送される前記ウエハを収納するロック室と、該ロック室の後方に連結されその内部で前記ウエハが搬送される第一の真空搬送室と、前記第一の真空搬送室の後方に連結された搬送中間室と、該搬送中間室の後方に連結されその内部で前記ウエハが搬送される第二の真空搬送室と、前記第一の真空搬送室の側面に連結され、前記第一の真空搬送室から搬送された前記ウエハを処理する少なくとも１つの真空処理室と、前記第二の真空搬送室の側面に連結され、前記第二の真空搬送室から搬送された前記ウエハを処理する真空処理室とを備えた真空処理装置であって、前記ウエハが、前記第一の真空搬送室の内部で前記ロック室から当該第一の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室に搬送され、当該真空処理室で処理された後に前記ロック室に搬送されて戻されるか、または前記ロック室から前記搬送中間室に搬送されて前記第二の真空搬送室の内部で前記搬送中間室から当該第二の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室に搬送され、当該真空処理室で処理された後に前記搬送中間室に搬送されて戻された後に前記第一の真空搬送室の内部を前記搬送中間室から前記ロック室に搬送されて戻されるものであって、前記第一及び第二の真空搬送室の各々の内部に配置された搬送ロボットであって、その上に前記ウエハを載せ伸縮して搬送する複数のアームを備えた搬送ロボットを備え、各々の前記搬送ロボットによる前記ウエハの搬送は、一枚の前記ウエハについて当該搬送ロボットが配置された前記第一及び第二の真空搬送室の何れかに連結された前記ロック室または前記搬送中間室と前記真空処理室との間での搬送時間より前記第一の真空搬送室内に配置された前記搬送ロボットによる前記ロック室と前記搬送中間室との間での搬送時間の方が短いものであって、かつ、前記ロック室と前記第一の真空搬送室に連結された前記真空処理室との間でのウエハの搬送に要する時間が当該真空処理室でのウエハの処理の時間を含むこの真空処理内部に滞留する時間よりも長いものであり、前記複数のウエハのうち、所定の時間内において前記第一の真空搬送室に連結された真空処理室に搬送されて処理される数が当該所定の時間内において前記第二の真空搬送室に連結された真空処理室に搬送されて処理される数よりも少なくなるように前記複数のウエハの搬送を調節する制御部とを備えたことを特徴とする。

さらに、本発明の真空処理装置は、前記制御部は、前記複数のウエハが前記ロック室から取り出されて前記真空処理室で処理された後に元の前記カセットに戻されるまでの間の時間で、前記複数のウエハのうちで前記第一の真空搬送室における前記ロック室と当該第一の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室との間で搬送された前記ウエハの搬送時間の合計より、前記第二の真空搬送室における前記搬送中間室と当該第二の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室との間で搬送された前記ウエハの搬送時間の合計が長くなるように前記複数のウエハの搬送を調節することを特徴とする。

また、上記課題を解決するための本発明の真空処理装置の運転方法は、複数のカセット台が前面側に配置され、前記複数のカセット台のうちの少なくとも１つの上に設置されたカセット内に収納された複数のウエハがその内部を搬送される大気搬送室と、該大気搬送室の後方に配置されて連結され内部に当該大気搬送室から搬送される前記ウエハを収納するロック室と、該ロック室の後方に連結されその内部で前記ウエハが搬送される第一の真空搬送室と、前記第一の真空搬送室の後方に連結された搬送中間室と、該搬送中間室の後方に連結されその内部で前記ウエハが搬送される第二の真空搬送室と、前記第一の真空搬送室の側面に連結され、前記第一の真空搬送室から搬送された前記ウエハを処理する少なくとも１つの真空処理室と、前記第二の真空搬送室の側面に連結され、前記第二の真空搬送室から搬送された前記ウエハを処理する真空処理室とを備えた真空処理装置を用いて前記ウエハを処理する真空処理装置の運転方法であって、前記ウエハが、前記第一の真空搬送室の内部で前記ロック室から当該第一の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室に搬送され、当該真空処理室で処理された後に前記ロック室に搬送されて戻されるか、または前記ロック室から前記搬送中間室に搬送されて前記第二の真空搬送室の内部で前記搬送中間室から当該第二の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室に搬送され、当該真空処理室で処理された後に前記搬送中間室に搬送されて戻された後に前記第一の真空搬送室の内部を前記搬送中間室から前記ロック室に搬送されて戻されるものであって、前記第一及び第二の真空搬送室の各々に内部に配置された搬送ロボットであって、その上に前記ウエハを載せ伸縮して搬送する複数のアームを備えた搬送ロボットを備え、各々の前記搬送ロボットによる前記ウエハの搬送は、一枚の前記ウエハについて当該搬送ロボットが配置された前記第一及び第二の真空搬送室の何れかに連結された前記ロック室または前記搬送中間室と前記真空処理室との間での搬送時間より前記第一の真空搬送室内に配置された前記搬送ロボットによる前記ロック室と前記搬送中間室との間での搬送時間の方が短いものであって、かつ、前記ロック室と前記第一の真空搬送室に連結された前記真空処理室との間でのウエハの搬送に要する時間が当該真空処理室でのウエハの処理の時間を含むこの真空処理内部に滞留する時間よりも長いものであり、前記複数のウエハのうち、所定の時間内において前記第一の真空搬送室に連結された真空処理室に搬送されて処理される数が当該所定の時間内において前記第二の真空搬送室に連結された真空処理室に搬送されて処理される数よりも少ないことを特徴とする。

さらに、本発明の真空処理装置の運転方法は、前記複数のウエハが前記カセットから取り出されて前記真空処理室で処理された後に元の前記カセットに戻されるまでの間の時間で、前記複数のウエハのうちで前記第一の真空搬送室における前記ロック室と当該記第一の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室との間で搬送された前記ウエハの搬送時間の合計より、前記前記第二の真空搬送室における前記搬送中間室と当該第二の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室との間で搬送された前記ウエハの搬送時間の合計が長いことを特徴とする。

本発明によれば、設置面積あたりの生産性が高い真空処理装置及び真空処理装置の運転方法を提供することができる。

また、低異物かつクロスコンタミネーション抑制を可能とする真空処理装置及び真空処理装置の運転方法を提供することができる。

Claims (4)

1. 複数のカセット台が前面側に配置され、前記複数のカセット台のうちの少なくとも１つの上に設置されたカセット内に収納された複数のウエハがその内部を搬送される大気搬送室と、該大気搬送室の後方に配置されて連結され内部に当該大気搬送室から搬送される前記ウエハを収納するロック室と、該ロック室の後方に連結されその内部で前記ウエハが搬送される第一の真空搬送室と、前記第一の真空搬送室の後方に連結された搬送中間室と、該搬送中間室の後方に連結されその内部で前記ウエハが搬送される第二の真空搬送室と、前記第一の真空搬送室の側面に連結され、前記第一の真空搬送室から搬送された前記ウエハを処理する少なくとも１つの真空処理室と、前記第二の真空搬送室の側面に連結され、前記第二の真空搬送室から搬送された前記ウエハを処理する真空処理室とを備えた真空処理装置であって、
   前記ウエハが、前記第一の真空搬送室の内部で前記ロック室から当該第一の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室に搬送され、当該真空処理室で処理された後に前記ロック室に搬送されて戻されるか、または前記ロック室から前記搬送中間室に搬送されて前記第二の真空搬送室の内部で前記搬送中間室から当該第二の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室に搬送され、当該真空処理室で処理された後に前記搬送中間室に搬送されて戻された後に前記第一の真空搬送室の内部を前記搬送中間室から前記ロック室に搬送されて戻されるものであって、
   前記第一及び第二の真空搬送室の各々の内部に配置された搬送ロボットであって、その上に前記ウエハを載せ伸縮して搬送する複数のアームを備えた搬送ロボットを備え、各々の前記搬送ロボットによる前記ウエハの搬送は、一枚の前記ウエハについて当該搬送ロボットが配置された前記第一及び第二の真空搬送室の何れかに連結された前記ロック室または前記搬送中間室と前記真空処理室との間での搬送時間より前記第一の真空搬送室内に配置された前記搬送ロボットによる前記ロック室と前記搬送中間室との間での搬送時間の方が短いものであって、かつ、前記ロック室と前記第一の真空搬送室に連結された前記真空処理室との間でのウエハの搬送に要する時間が当該真空処理室でのウエハの処理の時間を含むこの真空処理内部に滞留する時間よりも長いものであり、
   前記複数のウエハのうち、所定の時間内において前記第一の真空搬送室に連結された真空処理室に搬送されて処理される数が当該所定の時間内において前記第二の真空搬送室に連結された真空処理室に搬送されて処理される数よりも少なくなるように前記複数のウエハの搬送を調節する制御部とを備えた
   ことを特徴とした真空処理装置。
2. 請求項１に記載の真空処理装置であって、
   前記制御部は、前記複数のウエハが前記ロック室から取り出されて前記真空処理室で処理された後に元の前記カセットに戻されるまでの間の時間で、前記複数のウエハのうちで前記第一の真空搬送室における前記ロック室と当該第一の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室との間で搬送された前記ウエハの搬送時間の合計より、前記第二の真空搬送室における前記搬送中間室と当該第二の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室との間で搬送された前記ウエハの搬送時間の合計が長くなるように前記複数のウエハの搬送を調節する
   ことを特徴とした真空処理装置。
3. 複数のカセット台が前面側に配置され、前記複数のカセット台のうちの少なくとも１つの上に設置されたカセット内に収納された複数のウエハがその内部を搬送される大気搬送室と、該大気搬送室の後方に配置されて連結され内部に当該大気搬送室から搬送される前記ウエハを収納するロック室と、該ロック室の後方に連結されその内部で前記ウエハが搬送される第一の真空搬送室と、前記第一の真空搬送室の後方に連結された搬送中間室と、該搬送中間室の後方に連結されその内部で前記ウエハが搬送される第二の真空搬送室と、前記第一の真空搬送室の側面に連結され、前記第一の真空搬送室から搬送された前記ウエハを処理する少なくとも１つの真空処理室と、前記第二の真空搬送室の側面に連結され、前記第二の真空搬送室から搬送された前記ウエハを処理する真空処理室とを備えた真空処理装置を用いて前記ウエハを処理する真空処理装置の運転方法であって、
   前記ウエハが、前記第一の真空搬送室の内部で前記ロック室から当該第一の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室に搬送され、当該真空処理室で処理された後に前記ロック室に搬送されて戻されるか、または前記ロック室から前記搬送中間室に搬送されて前記第二の真空搬送室の内部で前記搬送中間室から当該第二の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室に搬送され、当該真空処理室で処理された後に前記搬送中間室に搬送されて戻された後に前記第一の真空搬送室の内部を前記搬送中間室から前記ロック室に搬送されて戻されるものであって、
   前記第一及び第二の真空搬送室の各々に内部に配置された搬送ロボットであって、その上に前記ウエハを載せ伸縮して搬送する複数のアームを備えた搬送ロボットを備え、各々の前記搬送ロボットによる前記ウエハの搬送は、一枚の前記ウエハについて当該搬送ロボットが配置された前記第一及び第二の真空搬送室の何れかに連結された前記ロック室または前記搬送中間室と前記真空処理室との間での搬送時間より前記第一の真空搬送室内に配置された前記搬送ロボットによる前記ロック室と前記搬送中間室との間での搬送時間の方が短いものであって、かつ、前記ロック室と前記第一の真空搬送室に連結された前記真空処理室との間でのウエハの搬送に要する時間が当該真空処理室でのウエハの処理の時間を含むこの真空処理内部に滞留する時間よりも長いものであり、
   前記複数のウエハのうち、所定の時間内において前記第一の真空搬送室に連結された真空処理室に搬送されて処理される数が当該所定の時間内において前記第二の真空搬送室に連結された真空処理室に搬送されて処理される数よりも少ない
   ことを特徴とした真空処理装置の運転方法。
4. 請求項３に記載の真空処理装置の運転方法であって、
   前記複数のウエハが前記カセットから取り出されて前記真空処理室で処理された後に元の前記カセットに戻されるまでの間の時間で、前記複数のウエハのうちで前記第一の真空搬送室における前記ロック室と当該記第一の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室との間で搬送された前記ウエハの搬送時間の合計より、前記前記第二の真空搬送室における前記搬送中間室と当該第二の真空搬送室の側面に連結された前記真空処理室との間で搬送された前記ウエハの搬送時間の合計が長い
   ことを特徴とした真空処理装置の運転方法。