JP2008109134A5 - - Google Patents
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Description
上記目的を達成するために、ウェハを真空処理する複数の真空処理室と、ウェハを収納できる複数のカセットを載置し得るカセット載置手段と、前記複数の真空処理室と前記カセット載置手段との間に設けた搬送手段と、該搬送手段を用いて前記カセット載置手段上に載置される任意のカセット内からウェハを前記各真空処理室に搬入し、前記各真空処理室で真空処理された処理済ウェハを搬出するための搬送制御を行う制御手段とで構成された真空処理装置において、少なくとも２つのカセットを使用し、各カセット毎に収納されたウエハを前記搬送手段を介して前記いずれかの真空処理室へ搬送し、搬送したウエハに前記カセット毎に異なるレシピを適用して異なる処理を施す並列処理、または各カセットに収納されたウエハに共通のレシピを適用して共通の処理を施す並列処理の何れかを施すとともに並列処理を施した後のウエハを前記搬送手段を介してもとのカセットに戻すようにしたものである。
Claims (4)
- ウェハを真空処理する複数の真空処理室と、ウェハを収納できる複数のカセットを載置し得るカセット載置手段と、前記複数の真空処理室と前記カセット載置手段との間に設けた搬送手段と、該搬送手段を用いて前記カセット載置手段上に載置される任意のカセット内からウェハを前記各真空処理室に搬入し、前記各真空処理室で真空処理された処理済ウェハを搬出するための搬送制御を行う制御手段とで構成された真空処理装置において、
少なくとも２つのカセットを使用し、各カセット毎に収納されたウエハを前記搬送手段
を介して前記いずれかの真空処理室へ搬送し、搬送したウエハに前記カセット毎に異なるレシピを適用して異なる処理を施す並列処理、または各カセットに収納されたウエハに共通のレシピを適用して共通の処理を施す並列処理の何れかを施すとともに並列処理を施した後のウエハを前記搬送手段を介してもとのカセットに戻すことを特徴とする真空処理装置。 - 請求項１記載の真空処理装置において、
前記搬送手段を介してもとのカセットに戻す自動運転中に異常が発生し、自動運転を一時中断した後、異常が発生した機器内に残存しているウェハをもとのカセットに搬出し、前記処埋を続行することを特徴とする真空処理装置。 - カセット載置手段に載置される任意のカセット内から搬送手段を介してウェハを複数の真空処理室に搬送し、該ウェハの真空処理を行う真空処理方法において、
少なくとも２つのカセットを使用し、各カセット毎に収納されたウエハを前記搬送手段を介して前記いずれかの真空処理室へ搬送し、搬送したウエハに前記カセット毎に異なるレシピを適用して異なる処理を施す並列処理、または各カセットに収納されたウエハに共通のレシピを適用して共通の処理を施す並列処理の何れかを施すとともに並列処理を施した後のウエハを前記搬送手段を介してもとのカセットに戻すことを特徴とする真空処理方法。 - 請求項３記載の真空処理方法において、
前記搬送手段を介してもとのカセットに戻す自動運転中に異常が発生し、自動運転を一時中断した後、異常が発生した機器内に残存しているウェハをもとのカセットに搬出し、前記処埋を続行することを特徴とする真空処理方法。
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007270341A JP2008109134A (ja) | 2007-10-17 | 2007-10-17 | 真空処理装置及び真空処理方法 |
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| JP2004153482A Division JP4121480B2 (ja) | 2004-05-24 | 2004-05-24 | 真空処理方法及び真空処理装置 |
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| JP2008109134A JP2008109134A (ja) | 2008-05-08 |
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Family Applications (1)
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| JP2007270341A Pending JP2008109134A (ja) | 2007-10-17 | 2007-10-17 | 真空処理装置及び真空処理方法 |
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2007
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