JP3492417B2 - 処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体ウエハの
製造工程で使用される処理装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】半導体ウエハに対して酸化、拡散、ＣＶ
Ｄなどの熱処理をバッチ式で行う熱処理装置として縦型
熱処理装置がある。この縦型熱処理装置は、外部との間
でウエハカセットを搬入出する入出力ポート、ウエハカ
セットとウエハボートとの間でウエハの受け渡しをする
ウエハ移載機構、ヒータに囲まれ、ウエハボートが搬入
されて熱処理を行う反応管などを備えており、これら各
部が筐体内に収納されて構成されている。 【０００３】そして半導体製造工場では、半導体ウエハ
（以下単にウエハという）へのパーティクルの付着を防
止するためにフィルタやエア循環手段などの特別の構造
を備えたクリーンルームが設けられており、この中でウ
エハを管理する一方、熱処理装置などの各種の処理装置
の排気系や電気系をメンテナンスルームに配置してここ
で装置のメンテナンスを行うようにしている。例えば縦
型熱処理装置はクリーンルームとメンテナンスルームと
の間に設置され、クリーンルーム側からウエハカセット
を搬入出し、種々の操作ができるように、筐体のクリー
ンルーム側の面に入出力ポート及び操作パネルが設けら
れると共に、真空ポンプ、ガス供給ユニット、制御ユニ
ットなどはメンテナンスルームに配置され、メンテナン
スルーム側からメンテナンスができる構造になってい
る。熱処理を行う場合にはオペレータが操作パネルによ
り熱処理温度、昇降温速度、供給ガスの種類、ガスの流
量、処理時間などを設定し、その設定されたモードによ
り装置が運転される。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】ところで上述の熱処理
装置をメンテナンスする場合、例えば反応管を洗浄した
後再び取り付け、熱電対の指示値を洗浄前の指示値と比
較したり、あるいはウエハボートの昇降機構をチェック
する場合などにおいては、クリーンルーム側に操作パネ
ルが設けられているため、作業者がクリーンルームとメ
ンテナンスルームとを往来しながら作業を行わなければ
ならず、作業が煩わしいという問題があった。また２人
以上の作業者によりトランシーバやインターホンで連絡
を取り合いながら作業を行う場合もあったが、本来のメ
ンテナンス作業を行う作業者の他に操作のための補助者
を必要とするので作業効率が悪いという問題があった。 【０００５】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的はメンテナンス作業の負担を軽
減することのできる処理装置を提供することにある。 【０００６】 【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、クリ
ーンルームとメンテナンスルームとの間に設けられ、ク
リーンルーム側から被処理体を搬入出すると共にメンテ
ナンスルーム側からメンテナンスが行われる処理装置に
おいて、前記処理装置を操作するために前記クリーンル
ーム側に設けられた操作パネルと、前記メンテナンスル
ーム側に設けられ、前記操作パネルの操作の少なくとも
一部を行うことができる操作パネルと、を備え、各操作
パネルは、自己の操作パネルと他の操作パネルとの間で
切り替えるための切り替えスイッチ部と、自己の操作パ
ネル以外の切り替えスイッチ部による操作パネルの切り
替えを禁止するための切り替え禁止スイッチ部と、を有
していることを特徴とする。 【０００７】 【０００８】 【作用】処理装置を運転する場合、切り替えスイッチ部
により、クリ−ンル−ム側の操作パネルに切り替えてお
き、オペレ−タが当該操作パネルによりプロセス条件な
どを設定し、被処理体を処理装置に搬入して所定の処理
を行う。そして処理装置に対してメンテナンスを行う場
合、切り替えスイッチ部によりメンテナンス側の操作パ
ネルに切り替えておき、作業者が当該操作パネルにより
処理装置を操作しながら、メンテナンスを行う。操作パ
ネルにより操作する場合、切り替え禁止スイッチ部によ
り操作パネルの切り替えを禁止しておけば、その操作パ
ネル以外の操作パネルにより操作が行われることはない
ので、安全な操作を行うことができる。 【０００９】 【実施例】本発明を縦型熱処理装置に適用した実施例に
ついて説明すると、この実施例に係る縦型熱処理装置
は、図１に示すようにプロセスボックス１とユーティリ
ティボックス２とを備えている。図１中１０はクリーン
ルームＣＲとメンテナンスルームＭＲとを仕切る仕切り
板であり、プロセスボックス１の前面部はクリーンルー
ムＣＲ内に位置している。プロセスボックス１の前面部
には、装置の各機構を操作し、またプロセス条件を設定
するための操作パネル３Ａと、ガス供給系や排気系の状
態（バルブのオン、オフなど）を表示するためのガス配
管系表示部３０Ａと、ウエハＷを例えば２５枚収納した
ウエハカセットＣの入出力ポートをなすカセットステー
ジ１１とを備えている。 【００１０】前記操作パネル３Ａはこの実施例の特徴部
分であるが、後で詳述することとし、その前にプロセス
ボックス１内の各部について図２を参照しながら簡単に
説明する。前記カセットステージ１１は回転軸１１ａに
より奥側に９０度倒れるようにつまりカセットＣ内の縦
置きのウエハＷが水平になるように構成される。カセッ
トステージ１１の後方にはカセット移載機構１２の移載
路を介して、上側にストッカ１３、下側に中間ステージ
１４が配設されている。中間ステージ１４の後方側に
は、ウエハ搬送機構１５を介して、ウエハ保持具である
ウエハボート１６が設けられている。このウエハボート
１６は、例えば石英により多数枚のウエハＷを各々水平
に棚状に配列保持できるように構成され、ボートエレベ
ータ１７の上に保温筒１８を介して載置されている。ウ
エハボート１６の上方には、石英製の反応管をヒータで
囲繞してなる熱処理炉１９が配設されており、ボートエ
レベータ１７が上昇してウエハボート１６が熱処理炉１
９内に搬入されることとなる。 【００１１】一方前記ユーティリティボックス２は、前
記熱処理炉１９内に処理ガスやパージ用の不活性ガスを
供給するためのバルブ、流量計などを含むガス供給ユニ
ット２１、装置全体の制御を行うプロセスコントローラ
４及び熱処理炉１９内を真空排気するための真空ポンプ
（図示せず）などを備えている。なおプロセスボックス
１とユーティリティボックス２との間に設けられるガス
供給管や排気管などは、まとめて概略的に鎖線で示して
ある。前記ユーティリティボックス２の前面部には、プ
ロセスボックス１に設けられた操作パネル３Ａ及びガス
配管系表示部３０Ａと同様の操作パネル３Ｂ及びガス配
管系表示部３０Ｂが設けられている。 【００１２】前記操作パネル３Ａ、３Ｂは、両方から同
じ操作をできるようにするためのものであるが、一方側
から操作するときは他方側から操作できないように構成
されており、一方側と他方側との間で操作パネルを切り
替えるための切り替えユニット５がユーティリティボッ
クス２内に設けられている。操作パネルに関して図３を
参照しながら詳述すると、操作パネル３Ａ（３Ｂ）は、
熱処理温度、昇温速度、降温速度、プロセス時間などの
プロセス条件を選択したり、プロセスの編集、実行など
を行うためのプロセス設定部３１、このプロセス設定部
３１で選択されたプロセス条件などについて具体的数値
を入力するための数値入力部３２、設定すべきプロセス
条件の表示（プロセス時間の設定値など）やプロセスコ
ントローラ４からリアルタイムで送られてくる情報例え
ば熱処理炉１９内の温度を表示するプロセス表示部３
３、及び各機構を手動運転操作するための運転操作部３
４などを備えている。 【００１３】前記切り替えユニット５は、プロセスコン
トローラ４からの情報を切り替えユニット５内をそのま
ま通して前記操作パネル３Ａ、３Ｂに表示させる一方、
操作パネル３Ａ、３Ｂのうち、切り替えユニット５内の
スイッチ回路部５１にて切り替えられた側の（選択され
た）操作パネルからの操作入力信号のみをプロセスコン
トローラ４に送るように構成されている。 【００１４】また前記操作パネル３Ａ、３Ｂには、切り
替えスイッチ部６１、切り替え禁止スイッチ部６２、使
用可能ランプ６３及び切り替え禁止ランプ６４が設けら
れている。切り替えスイッチ部６１は、押す度毎に切り
替えユニット５内のスイッチ回路部５１に切り替え信号
を出力して自己の操作パネル３Ａ（３Ｂ）または他方の
操作パネル３Ｂ（３Ａ）側に切り換えると共に、自己の
操作パネル側に切り換えられたときに使用可能ランプ６
３を点灯するように構成されている。切り替え禁止スイ
ッチ部６２は、押すことにより切り替え操作の優先使用
権を獲得するように、つまり先に押した側の操作パネル
３Ａ（３Ｂ）の前記切り替えスイッチ部６１による切り
替え操作を有効にし、他方の操作パネル３Ｂ（３Ａ）の
切り替えスイッチ部６１による切り替え操作を禁止する
と共に、もう一度押すと優先使用権の獲得が解除される
ように構成されている。前記切り替え禁止ランプ６４
は、操作パネル３Ａ、３Ｂのどちらかに切り替え操作の
優先使用権があるときに点灯する。また前記操作パネル
３Ａ、３Ｂと切り替えユニット５との間を結ぶ配線は例
えば光ケーブルよりなり、操作パネル３Ａ、３Ｂは夫々
プロセスボックス１及びユーティリティボックス２から
取り外して自由に持ち運びできるように構成されてい
る。 【００１５】次に上述実施例の作用について説明する。
半導体ウエハに対して所定の熱処理を行う場合、オペレ
ータがプロセスボックス１の操作パネル３Ａの切り替え
禁止スイッチ部６２により切り替えの優先使用権を得て
ユーティリティボックス２の操作パネル３Ｂ側から切り
替えができないようにしておくと共に切り替えスイッチ
部６１により自己の操作パネル３Ａ側に切り替えてお
き、当該操作パネル３Ａにて熱処理温度、供給ガスの種
別、流量、熱処理炉１９内の圧力などのプロセス条件を
入力する。これら操作入力信号はプロセスコントローラ
４内のメモリに記憶され、入力されたプロセス条件に従
って熱処理装置が運転されることとなる。熱処理装置の
動作については先ずウエハＷが収納されたウエハカセッ
トＣが外部からカセットステージ１１に搬入され、カセ
ット移載機構１２により中間ステージ１４に移載され
る。その後ウエハ搬送機構１５によりウエハカセットＣ
内からウエハＷがウエハボート１６に搬送され、ウエハ
ボート１６に所定枚数例えば１００枚搭載された後ボー
トエレベータ１７によりウエハボート１６が熱処理炉１
９内に搬入される。熱処理炉１９内では、前記プロセス
条件に基づいて所定の熱処理例えば酸化や拡散処理（あ
るいはＣＶＤ）などが行われる。 【００１６】一方熱処理装置をメンテナンスする場合例
えば熱処理炉１９内の反応管を洗浄して再び装置内に装
着し、熱電対の温度表示などのチェックを行う場合に
は、作業者がメンテナンスルームＭＲ内にて作業を行う
が、テストを行うためのプロセス条件の設定や温度など
の数値表示の監視についてはユーティリティボックス２
の操作パネル３Ｂを用いて行われる。即ち作業者は、例
えばプロセスボックス１の操作パネル３Ａ側に切り替え
の優先使用権がある場合には先ず操作パネル３Ａの切り
替え禁止スイッチ部６２によりその優先使用権を解除
し、操作パネル３Ｂの切り替え禁止スイッチ部６２によ
り切り替えの優先使用権を当該操作パネル３Ｂ側に移行
させると共に切り替えスイッチ部６１により自己の操作
パネル３Ｂ側に切り替えておき、その後操作パネル３Ｂ
により種々の設定や操作を行う。なお操作パネル３Ａ、
３Ｂの一方で操作しているときには他方から操作するこ
とはできないが他方側においてもプロセス表示部３３及
びガス配管系表示部３０Ａ（３０Ｂ）に一方側と同じ表
示がされ、これにより他方側からも操作パネルの現在の
状態を把握できるようになっている。 【００１７】このような実施例によれば、クリーンルー
ムＣＲ側とメンテナンスルームＭＲ側とに、同じ操作が
できる２個の操作パネル３Ａ、３Ｂを夫々設けているた
め、メンテナンスや装置の立上げ時において、操作パネ
ル３Ｂにより種々の設定や操作ができ、従って従来のよ
うに作業者がメンテナンスルームＭＲとクリーンルーム
ＣＲとを往来しなくて済むし、トランシーバなどを用い
て補助者との間で交信しなくてよいので、効率的に作業
を行うことができる。しかも両操作パネル３Ａ、３Ｂに
は切り替え禁止スイッチ部６２を設け、一方側に切り替
えの優先使用権を与えて、他方側からは切り替え操作で
きないようにしているため、メンテナンスルームＭＲで
作業をしているときに誤ってクリーンルームＣＲ側から
別の操作をしてしまうなどといった事態を防止でき、安
全に操作することができる。 【００１８】以上において上述実施例では、メンテナン
スルームＭＲ側の操作パネル３Ｂをユーティリティボッ
クス２に設けているがこれに限定されるものではなく、
例えば作業者が持ち運べるように携帯型の操作パネルと
して構成してもよいし、メンテナンスルームＭＲ側の操
作パネルの数は２個以上あってもよい。また例えばユー
ティリティボックス２に設けられた操作パネルと携帯型
の操作パネルとを併用してもよいし、携帯型の操作パネ
ルは、ボートエレベータやウエハ搬送機構などの機構部
分の操作についてのみ行えるように構成すると共にこの
携帯型の操作パネルにも切り替えスイッチ部及び切り替
え禁止スイッチ部を設けておくようにすれば、ボートエ
レベータの昇降動作などの細かい機構的なチェックを行
う場合に便利でかつ安全に作業できる。なお前記操作パ
ネル３Ｂは、クリーンルームＣＲ側の操作パネルの操作
の少なくとも一部を操作できるものであればよい。 【００１９】更にまた本発明では、複数の熱処理装置を
設置した場合メンテナンスルームＭＲ側の操作パネルを
共通化し、各熱処理装置に対して切り替えて使用するよ
うにしてもよい。図４はこのような実施例を示す図であ
り、例えば３台の熱処理装置を１号機〜３号機とする
と、１−１、１−２及び１−３は、夫々１号機〜３号機
のプロセスボックス、２−１〜２−３はユーティリティ
ボックスである。メンテナンスルームＭＲ側の操作パネ
ルとしては、各号機に共通な１台の操作パネル３Ｂが設
けられ、この操作パネル３Ｂと各号機の切り替えユニッ
ト５との間に、配線を切り替える切り替え手段７が設け
られ、この切り替え手段７により例えば１号機を選択す
れば、先の実施例と同様、操作パネル３Ｂ側に切り替え
られていることを条件に当該操作パネル３Ｂにより１号
機の熱処理装置を操作することができる。通常メンテナ
ンスは１台づつ行われるため、このように操作パネル３
Ｂを共通化すれば構成が簡単になり、コストを抑えるこ
とができる。 【００２０】なお本発明は、ＣＶＤ、アッシングあるい
はエッチングなどを行う熱処理装置に対して適当しても
よいことは勿論であり、また熱処理装置に限らず、半導
体製造工場あるいは液晶ディスプレイ基板製造工場など
において、クリーンルームとメンテナンスルームとの間
に配置される処理装置であれば適用することができる。 【００２１】 【発明の効果】請求項１の発明によれば、処理装置に対
して同じ操作をすることができる操作パネルをクリーン
ルームとメンテナンスルームとに夫々設けているため、
クリーンルーム側、メンテナンスルーム側のいずれから
も操作でき、従って装置のメンテナンス時に操作のため
にクリーンルームとメンテナンスルームとの間を往来し
なくて済むし、クリーンルームに補助者を配置しなくて
よいので、メンテナンス作業を軽減することができる。
また切り替え禁止スイッチ部を設けて、一方側に切り替
えの優先使用権を与えているため、安全に操作を行うこ
とができる。

【図面の簡単な説明】 【図１】 本発明を縦型熱処理装置に適用した実施例の
全体構成を示す斜視図である。 【図２】 本発明の実施例に係る縦型熱処理装置のプロ
セスボックスの内部を示す側面図である。 【図３】 操作パネルとプロセスコントロ−ラ間の配線
を概略的に示す配線図である。 【図４】 本発明の他の実施例を示す説明図である。 【符号の説明】 ＣＲ クリ−ンル−ム ＭＲ メンテナンスル−ム １ プロセスボックス １６ ウエハボ−ト １９ 熱処理炉 ２ ユ−ティリティボックス ３Ａ、３Ｂ 操作パネル ４ プロセスコントロ−ラ ５ 切り替えユニット ６１ 切り替えスイッチ部 ６２ 切り替え禁止スイッチ部

Claims (1)

1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 クリーンルームとメンテナンスルームと
   の間に設けられ、クリーンルーム側から被処理体を搬入
   出すると共にメンテナンスルーム側からメンテナンスが
   行われる処理装置において、 前記処理装置を操作するために前記クリーンルーム側に
   設けられた操作パネルと、 前記メンテナンスルーム側に設けられ、前記操作パネル
   の操作の少なくとも一部を行うことができる操作パネル
   と、を備え、 各操作パネルは、自己の操作パネルと他の操作パネルと
   の間で切り替えるための切り替えスイッチ部と、自己の
   操作パネル以外の切り替えスイッチ部による操作パネル
   の切り替えを禁止するための切り替え禁止スイッチ部
   と、を有していることを特徴とする処理装置。