JP3538416B2 - 真空処理方法及び真空処理装置 - Google Patents

真空処理方法及び真空処理装置

Info

Publication number
JP3538416B2
JP3538416B2 JP2001384743A JP2001384743A JP3538416B2 JP 3538416 B2 JP3538416 B2 JP 3538416B2 JP 2001384743 A JP2001384743 A JP 2001384743A JP 2001384743 A JP2001384743 A JP 2001384743A JP 3538416 B2 JP3538416 B2 JP 3538416B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
cassette
wafer
wafers
processing apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2001384743A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002246280A (ja
Inventor
廣治 西畑
和博 城尾
祥二 幾原
哲也 田原
昌司 沖口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=19187753&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP3538416(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2001384743A priority Critical patent/JP3538416B2/ja
Publication of JP2002246280A publication Critical patent/JP2002246280A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3538416B2 publication Critical patent/JP3538416B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プロセス処理を行
う2つ以上のプロセス処理装置と、ウェハの搬送を行う
搬送処理装置で構成され、少なくとも2つ以上のプロセ
ス処理装置を使って処理する処理方法及び処理装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来の装置は、例えば、特開昭63−1
33532号公報、特開昭63−252439号公報、
特開昭63−129641号公報、のように搬送室に処
理室を接続したシステムにおいて、別々のウェハを別々
の処理室で同時に実行したり、又はウェハを順次に2つ
以上の処理室を経由して処理することのできる装置及び
その搬送に関するものであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、2つ
以上のプロセス処理を施すにつき、ウェハを真空雰囲気
の搬送路を介して2つ以上の処理室に搬送し、個々の処
理室では、その処理室が持つ固有の処理を施すことによ
り、大気状態にさらすことなく真空中で複数のプロセス
処理をする為の装置構成、搬送方法を考案したものであ
った。
【0004】ところで、従来技術では2つ以上の処理室
を処理経路として使って運転している運転中に、どれか
の処理室が故障等で使用できなくなった時に正常な処理
室を使って処理を続行する運転については、考慮されて
いなかった。
【0005】又、運転開始時修復する必要のある処理室
がある場合でも、正常な処理室のみを使って装置を運転
する方法についても考慮されていなかった。
【0006】又、2つ以上の処理室を処理経路として使
って運転中にその運転を一時中断させ、中断させる迄に
その運転の処理経路に使っていなかった処理室を処理経
路として使った割り込み処理を優先的に実行し、その割
り込み処理が終了した後は一時中断させていた処理を続
行させる運転する方法についても考慮されていなかっ
た。
【0007】又、2つ以上の処理室を処理経路として使
って運転中にその運転の処理経路に使用していない処理
室の機器に対する操作指示の方法については考慮されて
いなかった。またその運転の処理経路に使用していない
処理室の機器に対する操作指示を通常操作する操作部と
離れた場所にある操作部で行う場合での操作上の安全性
確保についても考慮されていなかった。
【0008】このように従来技術は処理室が正常な状態
にあるときの運転を考慮したものであるが、処理室が異
常等で使用できない時の運転、割り込み処理、運転中で
の運転の一時中断及び中断状態から再開運転や、運転中
に処理経路に使用していない処理室の操作、運用等につ
いては考慮されていないため、例えば同種の処理室が接
続されておれば、他方の正常な処理室を使って運転を続
行するという装置の運転方法が考慮されておらず、稼働
率の低い装置であった。
【0009】本発明は、プロセス処理を行う2つ以上の
プロセス処理装置と、ウェハの搬送を行う搬送処理装置
で構成され、少なくとも2つ以上のプロセス処理装置を
使って処理する真空処理装置において、 1)2つ以上の処理室を処理経路として使って運転中
に、処理室の内どれかが故障等で使用できなくなった場
合でも運転続行でき、又、 2)修復する必要のあるプロセス処理装置がある場合
は、正常な処理室のみを処理経路として使って運転で
き、又 3)運転中に運転の一時中断、及び中断状態からの再開
運転、及び運転中に運転を一時中断させ、中断させる迄
にその運転の処理経路に使っていなかった処理室を処理
経路として使った割り込み処理を実行し、その割り込み
処理が終了した後は一時中断させていた処理を続行させ
る運転ができ、又 4)2つ以上の処理室を処理経路として使って運転中
に、その運転の処理経路に使用していない処理室の機器
に対する操作指示ができ、またその運転の処理経路に使
用していない処理室の機器に対して操作指示をする場合
や、通常の操作指示をする操作部と離れた場所にある操
作部で行う場合、操作上の安全性確保できるようにする
ことにより、装置の稼働率を向上できる真空処理装置を
提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、ウエハに共通のプロセス処理を施す第1及び第2の
プロセス処理装置と、プロセス処埋装置にウエハを搬送
する真空搬送装置と、ウエハを収納する第1及び第2の
カセットを載置する大気搬送装置と、前記各カセット内
に収納したウエハを真空搬送装置側に搬出し、真空搬送
装置側から搬出された前記プロセス処理装置による処埋
の終了した処埋済みウエハをもとのカセットに戻すウエ
ハ搬送装置と、第1のカセットから搬出したウエハのい
ずれをも真空雰囲気にある第1のプロセス処理装置に搬
送し、第2のカセットから搬出したウエハのいずれをも
真空雰囲気にある第2のプロセス処理装置に搬送し、前
記第1のプロセス処理装置で共通のプロセス処埋を施し
たウエハを大気雰囲気にあるもとのカセットに戻し、前
記第2のプロセス処理装置で共通のプロセス処理を施し
たウエハを大気雰囲気にあるもとのカセットに戻すよう
に搬送制御を行う制御装置を備え、該制御装置は、第1
のプロセス処理装置に異常が発生したとき、第1のカセ
ットからのウエハの搬出を中断し、第2のカセットから
のウエハの搬出を継続し第2のプロセス処埋装置による
処埋を続行するものである。
【0011】
【0012】
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図1〜
図10に示す。
【0014】図1は、一実施例であり、プロセス処理装
置が搬送処理装置に4室接続され、処理装置にウエハを
搬入する為のカセットは処理装置本体の前に設置した大
気搬送装置に設置し、該カセットから1枚ずつ取り出し
処理装置に搬入し処理する装置構成図を示す。プロセス
処理装置が4つ以上接続されても構わない。1はウェハ
の搬送を行う搬送処理装置でありロードロック室のウエ
ハをウエハの搬送スケジュールに従ってプロセス処理装
置2−1〜2−4に搬送し、プロセス処理装置で処理終
了したウエハを次のプロセス処理装置に搬送し、全ての
プロセス処理が終了したウエハをアンロードロック室に
搬送する。2−1〜2−4はプロセス処理を行うプロセ
ス処理装置である。プロセス処理としてはエッチング、
後処理、成膜、スパッタ、CVD、水洗処理等ウエハの
プロセス処理全てを含む。3はロードロック室であり大
気搬送装置6にあるウエハを搬送処理装置に搬入する
室、4はアンロードロック室であり真空処理室にあるウ
エハを大気搬送装置6に搬出する室、5は搬送処理装置
内に設置されウェハの搬送を行う真空ロボット、6はウ
ェハを収納したカセットを設置するための大気搬送装
置、7は処理するウェハを収納したカセットであり製品
用ウエハを収納したカセットやクリーニング用ウエハを
収納したカセットである。8は大気搬送装置上のカセッ
ト内のウェハをカセットから搬出し、ロードロック室3
に搬入し、またアンロードロック室4のウエハを元のカ
セットに戻す大気ロボットを示す。
【0015】通常の運転にあたっては、オペレータは、
カセット7−1(又は7ー2)を大気搬送装置6に設置
する。その後表示手段13、入力手段14とを使って運
転条件の設定を行った後運転の開始指示を行うことで、
ウェハの搬送が開始しプロセス処理装置2−1(2−2
〜2−4)に搬送され、プロセス処理を行って元のカセ
ットに戻される。元のカセット内のウェハが全て処理さ
れるとそのカセットの回収の為にこの図に示していない
ブザーを鳴らし、オペレータにカセット回収要求を通報
し、オペレータがカセットを取り除く。尚、運転条件設
定の1部である処理経路の設定においては、その処理に
使用するプロセス処理装置をウェハの処理する順序にプ
ロセス処理装置の記号等を使って設定する。
【0016】このウエハの処理順序は、運転モードとし
て表1に示す。
【0017】
【表1】 以下のこの運転モードの説明ではプロセス処理装置2ー
2と2ー3は同一のプロセス処理を(この実施例ではエ
ッチング処理とする)、プロセス処理装置2ー1と2ー
4は同一のプロセス処理を(この実施例では後処理とす
る)するものとして説明する。またプロセス処理の実施
例としては、プロセス処理装置2ー2または2ー3を使
ったエッチング処理を行った後、プロセス処理装置2ー
1と2ー4を使った後処理を行うものとする。またウエ
ハの処理条件によってはエッチング処理のみであっても
良い。
【0018】1)1カセット1レシピ並列運転 同一のプロセス処理条件(以下では、プロセス処理条件
をレシピと称する)で処理するウエハが収納されたカセ
ット内の最下段もしくは最上段のウエハから順番にカセ
ットから抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理を
するものである。ウエハは、プロセス処理装置2ー2で
エッチング処理した後プロセス処理装置2ー1で後処理
をして元のカセットに戻す経路(この経路Aという)
と、プロセス処理装置2ー3でエッチング処理した後プ
ロセス処理装置2ー4で後処理をして元のカセットに戻
す経路(この経路Bという)の両方を使って処理する。
【0019】この実施例での処理順序は 経路A:カセットC1→プロセス処理装置2ー2→プロ
セス処理装置2ー1→カセットC1 経路B:カセットC1→プロセス処理装置2ー3→プロ
セス処理装置2ー4→カセットC1 の組み合わせとしたが、 経路C:カセットC1→プロセス処理装置2ー2→プロ
セス処理装置2ー4→カセットC1 経路D:カセットC1→プロセス処理装置2ー3→プロ
セス処理装置2ー1→カセットC1 の組み合わせであっても良い。
【0020】ウエハの処理は、1枚目のウエハは経路
A、2枚目は経路B、3枚目のウエハは経路A、4枚目
は経路B、・・・という順序でカセット内の最終ウエハ
迄処理を行う。C1カセット内の全てを処理終了すると
C1カセットの処理終了とカセット交換をオペレータに
通報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。こ
の時迄にC2カセットが設置されてあれば、C1カセッ
トの処理終了に引き続きC2カセットの処理に移る。C
2カセットについてもC1カセットの場合と同じ順序で
処理を行い、C2カセット内の全てを処理終了するとC
2カセットの処理終了とカセット交換をオペレータに通
報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。この
時迄にC1カセットが設置されてあれば、C2カセット
の処理終了に引き続きC1カセットの処理に移る。以降
この運転サイクル繰り返しを行う。この運転を終了する
場合は、主制御部11から運転終了の操作入力を行うこ
とで運転が終了する。
【0021】処理を終了する方法として、以下の5モー
ドがある。
【0022】ア)ウエハ供給停止:処理中のカセットか
らのウエハ取り出しを中止する。
【0023】(2カセットを1ロットとして運転してい
る場合は、指定した方のカセットからのウエハ取り出し
を中止する。) イ)カセット供給停止:現在処理中のカセット内のウエ
ハを全て処理終了した後、その処理終了迄に設置されて
あったカセットの処理を中止する。
【0024】(2カセットを1ロットとして運転してい
る場合は、指定した方のカセット内のウエハを全て処理
終了した後、その時迄に設置されてあったカセットの処
理を中止する。) ウ)サイクル停止:現在実行中のプロセス処理、排気、
リーク、搬送等の動作終了後その場で停止する。
【0025】エ)処理室一時停止:指定処理室につい
て、現在処理中のプロセス処理終了後停止する。この場
合は、運転の再開操作により一時停止した状態から運転
を再開することができる。またその処理室のみ手動操作
は可能である。
【0026】オ)即停止:実行中の全ての動作を即時停
止する。
【0027】処理終了に当たってはいずれの方法によっ
ても良い。
【0028】2)2カセット1レシピ並列運転 同一のプロセス処理条件(レシピ)で処理するウエハが
収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウエハ
から順番にカセットから抜き出し搬送処理装置に搬入し
プロセス処理をするものである。 この場合のカセット
から抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理をする
運転が前記の「1カセット1レシピ並列運転」の場合と
異なる。前記の「1カセット1レシピ並列運転」の場合
は、同一カセットから順次ウエハを抜き出し搬送処理装
置に搬入しプロセス処理を実施し、そのカセットのウエ
ハを全て終了した後次のカセットのウエハの処理に移っ
たが、本「2カセット1レシピ並列運転」では、カセッ
トC1とカセットC2から交互にウエハを抜き出し搬送
処理装置に搬入しプロセス処理を実施する。ウエハの処
理経路は前記の「1カセット1レシピ並列運転」の場合
と同様に、プロセス処理装置2ー2でエッチング処理し
た後プロセス処理装置2ー1で後処理をして元のカセッ
トに戻す経路(この経路Aという)と、プロセス処理装
置2ー3でエッチング処理した後プロセス処理装置2ー
4で後処理をして元のカセットに戻す経路(この経路B
という)の両方を使って処理する。
【0029】この実施例での処理順序の経路A、Bもし
くは経路C、Dについては前記前記「1カセット1レシ
ピ並列運転」の場合と同じである。
【0030】ウエハの処理は、1枚目のウエハはC1カ
セットからの1枚目を経路A、2枚目はC2カセットか
らの1枚目を経路B、3枚目のウエハはC1カセットか
らの2枚目を経路A、4枚目はC2カセットからの2枚
目を経路B、・・・という順序でカセット内の最終ウエ
ハ迄処理を行う。C1もしくはC2カセット内の全てを
処理終了するとC1(またはC2)カセットの処理終了
とカセット交換をオペレータに通報する為にこの図に示
していないブザーを鳴らす。この終了したカセットが取
り除かれ新しいカセットが設置されるまでは、他方のカ
セット側の処理のみ継続されている。新しいカセットが
設置されると前記のようにC1とC2カセットから交互
ににウエハを抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処
理を実施する。以降この運転サイクル繰り返しを行う。
この運転を終了する場合は、主制御部11から運転終了
の操作入力を行う事で運転が終了する。終了方法は前記
「1カセット1レシピ並列運転」の場合と同じである。
【0031】3)2カセット2レシピ並列運転 この運転では、C1カセットとC2カセットとのウエハ
処理レシピが異なる事以外は前記「2カセット1レシピ
並列運転」と同じある。
【0032】4)1カセット1レシピ直列運転 この運転では、同一のプロセス処理条件(レシピ)で処
理するウエハが収納されたカセット内の最下段もしくは
最上段のウエハから順番にカセットから抜き出し搬送処
理装置に搬入しプロセス処理をすることは前記「1カセ
ット1レシピ並列運転」の場合と同じである。ところが
ウエハの処理経路は前記「1カセット1レシピ並列運
転」の場合と異なる。本「1カセット1レシピ直列運
転」では、ウエハはプロセス処理装置2ー2(もしくは
プロセス処理装置2ー3)でエッチング処理した後、更
にプロセス処理装置2ー3(もしくはプロセス処理装置
2ー2)でエッチング処理した後、プロセス処理装置2
ー1(もしくはプロセス処理装置2ー4)で後処理をし
て元のカセットに戻す経路(この経路Eという)で処理
する。
【0033】ウエハの処理は、1枚目のウエハは経路
E、2枚目は経路E、3枚目のウエハは経路E、4枚目
は経路E、・・・という順序でカセット内の最終ウエハ
迄処理を行う。C1カセット内の全てを処理終了すると
C1カセットの処理終了とカセット交換をオペレータに
通報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。こ
の時迄にC2カセットが設置されてあれば、C1カセッ
トの処理終了に引き続きC2カセットの処理に移る。C
2カセットについてもC1カセットの場合と同じ順序で
処理を行い、C2カセット内の全てを処理終了するとC
2カセットの処理終了とカセット交換をオペレータに通
報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。この
時迄にC1カセットが設置されてあれば、C2カセット
の処理終了に引き続きC1カセットの処理に移る。以降
この運転サイクル繰り返しを行う。この運転を終了する
場合は、主制御部11から運転終了の操作入力を行う事
で運転が終了する。終了方法は前記「1カセット1レシ
ピ並列運転」の場合と同じである。
【0034】また、装置を保守、メンテナンスする場合
は補助操作盤22内にある表示手段26、入力手段25
とを使って装置の機側で操作することができる。この補
助操作盤22は可搬型の操作端末(例えばノートパソコ
ン)であり装置の近くまで持ち運び、装置状態を目視し
ながら表示手段26に表示される装置情報(例えば入出
力ビットのON/OFF情報、エラー情報等)を保守、
メンテナンスの操作に活用でき、保守、メンテナンスの
操作性を向上させているものである。この補助操作盤2
2では、主制御部11と同じ機能を有しているが、オペ
レータに対する安全性を確保する為に主制御部11と補
助操作盤22とで同時に操作する場合は、片方しか操作
入力できないように誤操作防止機能を設けてある。
【0035】図2は、別の一実施例あり、プロセス処理
装置が搬送処理装置に4室接続され、処理装置にウエハ
を搬入する為のカセットは処理装置本体内のロードロッ
ク室に設置し、カセットから1枚ずつ取り出し処理装置
に搬入し処理する装置構成図を示す。プロセス処理装置
がこれ以上接続されても構わない。装置構成としては図
1に示す構成からウェハを収納したカセットを設置する
ための大気搬送装置6、大気ロボット8を削除したもの
である。ウエハのカセットからの搬出がロードロック室
3からとなり、カセットへの収納がアンロードロック室
4となる以外の各機器の機能及び構成は図1と同じであ
る。また運転モードにおいては、 1)1カセット1レシピ並列運転 同一のプロセス処理条件(レシピ)で処理するウエハが
収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウエハ
から順番にカセットから抜き出しプロセス処理装置に搬
入しプロセス処理をするものである。ウエハは、プロセ
ス処理装置2ー2でエッチング処理した後プロセス処理
装置2ー1で後処理をして元のカセットに戻す経路(こ
の経路Aという)と、プロセス処理装置2ー3でエッチ
ング処理した後プロセス処理装置2ー4で後処理をして
元のカセットに戻す経路(この経路Bという)の両方を
使って処理する。
【0036】この実施例での処理順序は 経路A:ロードロック室内カセット→プロセス処理装置
2ー2→プロセス処理装置2ー1→アンロードロック室
内カセット 経路B:ロードロック室内カセット→ プロセス処理装
置2ー3→プロセス処理装置2ー4→アンロードロック
室内カセット 又は、 経路C:ロードロック室内カセット→プロセス処理装置
2ー2→プロセス処理装置2ー4→アンロードロック室
内カセット 経路D:ロードロック室内カセット→プロセス処理装置
2ー3→プロセス処理装置2ー1→アンロードロック室
内カセット の組み合わせであっても良い。また上記処理順序では処
理したウエハはアンロードロック室内カセットに戻した
がウエハを取り出したロードロック室内カセットに戻す
こともできる。
【0037】本実施例では経路Aと経路Bを並行してロ
ードロック室内のカセットから抜き出したウエハはアン
ロードロック室内のカセットに戻す処理の例を示す。ウ
エハの処理は、1枚目のウエハは経路A、2枚目は経路
B、3枚目のウエハは経路A、4枚目は経路B、・・・
という順序でカセット内の最終ウエハ迄処理を行う。
【0038】ロードロック室内カセット内の全てを処理
終了するとロードロック室内カセットとアンロードロッ
ク室内カセットの処理終了とカセット交換をオペレータ
に通報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。
次に新たな未処理ウエハの入ったカセットをロードロッ
ク室に、空のカセットをアンロードロック室設置して、
以降この運転サイクル繰り返しを行う。この運転を終了
する場合は、主制御部11から運転終了の操作入力を行
う事で運転が終了する。終了方法は前記「1カセット1
レシピ並列運転」の場合と同じである。
【0039】2)2カセット1レシピ並列運転 同一のプロセス処理条件(以下では、プロセス処理条件
をレシピと称する)で処理するウエハが収納されたカセ
ット内の最下段もしくは最上段のウエハから順番にカセ
ットから抜き出しプロセス処理装置に搬入しプロセス処
理をするものである。
【0040】前記の「1カセット1レシピ並列運転」の
場合は、同一カセットから順次ウエハを抜き出しプロセ
ス処理装置に搬入しプロセス処理を実施し、そのカセッ
トのウエハを全て終了した後次のカセットのウエハの処
理に移ったが、本「2カセット1レシピ並列運転」で
は、ロードロック室内のカセットとアンロードロック室
内のカセットから交互にウエハを抜き出しプロセス処理
装置に搬入しプロセス処理を実施する。ウエハの処理経
路は前記の「1カセット1レシピ並列運転」の場合と同
様に、プロセス処理装置2ー2でエッチング処理した後
プロセス処理装置2ー1で後処理をして元のカセットに
戻す経路(この経路Aという)と、プロセス処理装置2
ー3でエッチング処理した後、プロセス処理装置2ー4
で後処理をして元のカセットに戻す経路(この経路Bと
いう)の両方を使って処理する。
【0041】この実施例での処理順序の経路A、Bもし
くは経路C、Dについては前記前記「1カセット1レシ
ピ並列運転」の場合と同じである。
【0042】ウエハの処理は、1枚目のウエハはロード
ロック室内のカセットからの1枚目を経路A、2枚目は
アンロードロック室内のカセットからの1枚目を経路
B、3枚目のウエハはロードロック室内のカセットから
の2枚目を経路A、4枚目はアンロードロック室内のカ
セットからの2枚目を経路B、・・・という順序でカセ
ット内の最終ウエハ迄処理を行う。ロードロック室内も
しくはアンロードロック室カセット内の全てのウエハを
処理終了するとロードロック室内(またはアンロードロ
ック室内)カセットの処理終了とカセット交換をオペレ
ータに通報する為にこの図に示していないブザーを鳴ら
す。この終了したカセットが取り除かれ新しいカセット
が設置されるまでは、他方のカセット側の処理のみ継続
されている。新しいカセットが設置されると前記のよう
にロードロック室内とアンロードロック室内カセットか
ら交互ににウエハを抜き出しプロセス処理装置に搬入し
プロセス処理を実施する。以降この運転サイクル繰り返
しを行う。この運転を終了する場合は、主制御部11か
ら運転終了の操作入力を行う事で運転が終了する。終了
方法は前記「1カセット1レシピ並列運転」の場合と同
じである。
【0043】3)2カセット2レシピ並列運転 この運転では、ロードロック室内のカセットとアンロー
ドロック室内のカセットとのウエハ処理レシピが異なる
事以外は前記「2カセット1レシピ並列運転」と同じあ
る。
【0044】4)1カセット1レシピ直列運転 この運転では、同一のプロセス処理条件(以下では、プ
ロセス処理条件をレシピと称する)で処理するウエハが
収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウエハ
から順番にカセットから抜き出しプロセス処理装置に搬
入しプロセス処理をすることは前記「1カセット1レシ
ピ並列運転」の場合と同じである。ところがウエハの処
理経路は前記「1カセット1レシピ並列運転」の場合と
異なる。本「1カセット1レシピ直列運転」では、ウエ
ハはプロセス処理装置2ー2(もしくはプロセス処理装
置2ー3)でエッチング処理した後、更にプロセス処理
装置2ー3(もしくはプロセス処理装置2ー2)でエッ
チング処理した後、プロセス処理装置2ー1(もしくは
プロセス処理装置2ー4)で後処理をして元のカセット
に戻す経路(この経路Eという)で処理する。
【0045】本実施例では経路Eでロードロック室内の
カセットから抜き出したウエハはアンロードロック室内
のカセットに戻す処理の例を示す。ウエハの処理は、1
枚目のウエハは経路E、2枚目は経路E、3枚目のウエ
ハは経路E、4枚目は経路E、・・・という順序でカセ
ット内の最終ウエハ迄処理を行う。カセット内の全てを
処理終了するとロードロック室内カセットとアンロード
ロック室内カセットの処理終了と交換をオペレータに通
報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。 次
に新たな未処理ウエハの入ったカセットをロードロック
室に、空のカセットをアンロードロック室に設置して、
以降この運転サイクル繰り返しを行う。この運転を終了
する場合は、主制御部11から運転終了の操作入力を行
う事で運転が終了する。終了方法は前記「1カセット1
レシピ並列運転」の場合と同じである。
【0046】図3は、制御構成図を示す。本実施例で
は、装置全体の主制御部は、搬送処理装置に搭載してい
る場合を示す。尚、装置全体の主制御部は、搬送処理装
置以外にあっても構わない。また表示手段13、入力手
段14は主制御部とは別の制御ユニットとして構成して
も良い。11は、装置全体を制御する主制御部の構成を
示す。制御手段としては、本発明の請求範囲に該当する
部分のみを抜き出して記述しており、装置を動かす上で
の必要な入出力制御部分(DI/O、AI/O)につい
ては、記述していない。16は、処理装置内でのウェハ
の処理順序を記憶する処理順序情報記憶手段であり、例
えばRAM(Random AccessMemor
y)である。このウェハの処理順序は、運転開始前に表
示手段13、入力手段14とを使ってオペレータによっ
て入力されたデータが記憶される。17は、プロセス処
理装置18−1〜18−4の運転有効/無効であること
を示す運転情報信号を記憶する運転情報信号記憶手段で
あり、例えばRAMである。13は、運転状態、運転条
件の設定内容、運転の開始指示/終了の表示を行う表示
手段であり、例えばCRTである。14は、運転条件の
設定、運転の開始指示入力、プロセス処理条件、保守や
メンテナンスの操作入力等を行う入力手段であり、例え
ばキーボードである。15は、上記プロセス処理装置1
8−1〜18−4の運転有効/無効であることを示す運
転情報信号状態を判断し、自動運転中にプロセス処理装
置18−1〜18−4のどれかが運転不可となっても該
プロセス処理装置を使用せず、他のプロセス処理装置を
使って運転続行する処理手順を記憶した装置制御手段で
あり、例えばROM(Read Only Memor
y)である。12は、上記13〜17を制御する中央制
御手段であり、例えば、CPU(Central Pr
ocessor Unit)である。18−1〜18−
4は、ウェハのプロセス処理を行うプロセス処理装置で
ある。この処理装置としては、エッチング、後処理、成
膜、スパッタ、CVD、水処理等ウエハのプロセス処理
を行う処理であれば、何であっても良い。19−1〜1
9−4は、プロセス処理装置18−1〜18−4の運転
有効/無効であることを示す運転情報信号を発生する運
転情報信号発生手段である。本実施例では、プロセス処
理装置に設けているが、どこにあっても良い。この運転
情報信号を発生する手段として、 1)プロセス処理装置の装置電源の遮断信号を用いる 2)プロセス処理装置の使用の有効/無効を設定する運
転切り替え信号(例えば、切り替えスイッチ)を用いる 3)プロセス処理装置の使用の有効/無効を示す運転制
御信号として、オペレータが設定入力した入力情報を用
いる ことができる。
【0047】20と21は、装置全体を制御する主制御
部11と補助操作盤22とを接続する通信手段である。
補助操作盤22、25、26は上述した用途に使用する
ものである。24は補助操作盤での端末機能を制御する
処理手順を記憶した端末制御手段である。23は上記2
1、24から26を制御する中央制御手段であり、例え
ば、CPU(Central Processor U
nit)である。
【0048】図4は、運転情報信号図である。各プロセ
ス処理装置毎に運転の有効/無効を示す情報が記憶され
る。この場合では、有効な場合は、1を、無効な場合
は、0を示すが区別できる内容であれば、記号や数字で
あっても良い。この情報は、運転情報信号発生手段19
−1〜19−4の信号状態が反映されたものであり、運
転情報信号記憶手段17に記憶される。
【0049】図5は、処理順序情報図である。運転条件
設定の一つとして、オペレータが運転開始前に表示手段
13、入力手段14とを使ってウェハの処理する順序を
設定した情報である。この情報は処理順序情報記憶手段
に記憶される。
【0050】図6は、装置運転フロー図を示す。オペレ
ータは運転開始前に処理装置として構成されているプロ
セス処理装置の内、故障等で運転に使用できない、又は
保守(プラズマクリーニングも含む)の為使用しないプ
ロセス処理装置があるか否かを判断する(30)。使用
できない(又は、使用しない)プロセス処理装置があれ
ば、運転情報信号発生手段19を用いて図4に記述した
状態になるように設定する(32)。この設定の方法の
一つとして、 1)プロセス処理装置の装置電源の遮断信号を用いる場
合は、該プロセス処理装置の装置電源供給用電磁開閉器
をOFFする。これにより、遮断信号が発生し、運転情
報信号記憶手段17に伝えられ、図4に記載された情報
として記憶される。
【0051】2)プロセス処理装置の使用の有無を設定
する運転切り替え信号(例えば、切り替えスイッチ)を
用いる場合は、該プロセス処理装置に割り当てられた切
り替えスイッチを有効又は無効の状態に設定する。これ
により、切り替え信号が確定し、運転情報信号記憶手段
17に伝えられ、図4に記載された情報として記憶され
る。
【0052】3)プロセス処理装置の使用の有効/無効
を示す運転制御信号として、オペレータが設定入力した
入力情報を用いる場合は、オペレータは、該プロセス処
理装置に割り当てられた設定情報を入力手段14より入
力する。これにより、設定情報が確定し、運転情報信号
記憶手段17に伝えられ、図4に記載された情報として
記憶される。装置接続構成を決定した後、自動運転をス
タートする(34)。尚、ウェハの処理する順序は以下
のように製品処理条件として設定する。
【0053】1)ウエハの運転モードを選択する。
【0054】「1カセット1レシピ並列」、「2カセッ
ト1レシピ並列」、「2カセット2レシピ並列」、「1
カセット1レシピ直列」のいずれかを選択 2)ウエハの搬送経路を設定する。
【0055】カセット毎にウエハの処理経路をプロセス
処理装置の記号を使ってパラレルまたはシリーズ処理を
設定する。代表的な設定例を以下に示す。(ウエハ処理
経路は、前述のように組み合わせが可能である) 2ー1)パラレル処理の場合: C1:E1→A1、C1:E2→A2 C2:E1→A1、C2:E2→A2 E1:プロセス処理装置2ー2、E2:プロセス処理装
置2ー3 A1:プロセス処理装置2ー1、A2:プロセス処理装
置2ー4 2ー2)シリーズ処理の場合: C1:E1→E2→A1 C2:E2→E1→A2 3)プロセス処理室毎にプロセス処理条件(プロセスレ
シピともいう)を設定する。
【0056】以上の製品処理条件を設定した後、自動運
転開始の起動をかける。
【0057】図7は、自動運転フロー図を示す。自動運
転を開始すると、処理すべきウェハを全て搬送したかを
判断し、搬送済であれば処理が終了し、搬送必要であれ
ば、自動運転処理に進む(40)。自動運転中に異常等
が発生し、運転が一時中断した状態にあるか否かを判断
する(42)。異常が無ければ、運転を続行する(44
へ)。運転に使用できないプロセス処理装置がある場合
は、該プロセス処理装置を使わないで運転続行が可能か
否かをオペレータが判断する(70)。続行が不可能な
場合は、オペレータが自動運転の中止設定を行うことに
より、装置は自動運転停止処理を行う(90)。 続行
が可能な場合でも、プロセス処理装置にウェハが残って
いる場合、真空ロボットのハンド上にウェハが残ってい
る場合、ロードロック室やアンロードロック室にウェハ
が残っている場合等がある。
【0058】このように自動運転中に異常が発生し、自
動運転の続行ができなくなり自動運転が一時中断した状
態から引き続き自動運転を再開し、続行するため、異常
が発生した機器内に残存しているウェハを元のカセット
に搬出する処理を行なう。これは自動運転中に異常が発
生した時点では処理装置内の全ウェハの搬送・処理のス
ケジュールが確定しているため、異常が発生した機器に
あるウェハを取り出したカセット7に戻さないとウェハ
の搬送・処理のスケジュールが狂ってしまい、自動運転
の一時中断状態からの再開、自動運転続行ができなくな
るためである。処理装置内に残存しているウェハの処置
例を以下に示す。装置内に残存ウェハがあるか否か判断
する(72)。残存しているウェハのうちエッチング処
理をするか否かを判断する(74)。処理室内に残存し
ているウェハのうち、エッチング処理の途中で異常が発
生した場合は、残りのエッチング処理を実施した後(7
6)、ウェハを元のカセットに戻す(78)。これはで
きうる限りウェハを救済するために行なうものである。
また真空ロボットのウェハハンド上にウェハが残ってい
る場合や、ロードロック室アンロードロック室にウェハ
が残っている場合は、機器個別の操作(ロック室の排気
/リーク,ウェハの搬送)を行なって、そのウェハを元
のカセットに戻す(78)。以上のように異常の発生し
た機器にあったウェハは必要な処置を実施し元のカセッ
トに戻した後、一時中断していた自動運転を再開する操
作を行なう。このようにすることで異常が発生した機器
(処理室や真空ロボット等)にあったウェハのトラッキ
ング情報は、正常な経路で処理されたのと同等となり、
自動運転が再開できることになる。以上のような処理装
置内に残存していたウェハの処置を行なった後、使用し
ないプロセス処理装置に対して図6の(32)にて示し
た内容と同じ運転情報信号発生手段の切り替え操作(8
0)を行う。異常発生情報をリセットし(82)、自動
運転を続行する。
【0059】正常な運転状態では、次のウェハの搬送経
路を処理順序情報記憶手段16に記憶されてある情報を
読み出し(44)、運転情報信号記憶手段17に記憶さ
れてある情報と整合処理し搬送順路を決定する(4
6)。決定した搬送順路はカセットより搬出するウェハ
毎に搬送順路データを持っても良いし、処理順序情報記
憶手段16とは別の処理順序情報テーブルを作成し、ウ
ェハを搬送する際には、このテーブルを参照するように
しても良い。搬送順路が決定すると大気ロボット8はカ
セット7よりウェハを搬出し(48)、上記決定した搬
送順路に登録されてあるプロセス処理装置に搬送し(5
0)、ウェハの処理を行う(52)。このウェハ搬送処
理及びプロセス処理で異常が発生した場合は、引き続き
自動運転を継続する為に処理続行可能な処理はその個々
の処理を終了させるまで実行した後、自動運転を一時中
断状態にする。(例えばN枚目のウェハのエッチング処
理中であれば、そのN枚目のウェハのエッチング処理が
終了するまでエッチング処理を継続し、終了した時点で
自動運転を一時中断する。また真空ロボット5によるウ
ェハ搬送中に他の処理で異常が発生したら、真空ロボッ
ト5は、所定の場所へのウェハ搬送を終了した時点で自
動運転を一時中断する。)この後異常発生したことを示
す異常発生情報(図示は無し)を記憶させた後、装置を
一時中断状態にオペレータに中断したことを表示手段1
3に表示するとともに図示しないブザーを鳴らす。この
後(42)に戻り、所定のフローで処理する。
【0060】図8は、異常発生後の自動運転再開処理図
を示す。以下に図7で述べた自動運転中に異常が発生し
た後の自動運転再開迄の処理について説明する。図Aは
表1での「1カセット1レシピ並列運転」の運転モード
でウエハの搬送経路が C1:E1→A1及びE2→A2 C2:E1→A1及びE2→A2にて運転し、E2では
(N)枚目のウエハがエッチング処理中でA1では(N
ー1)枚目のウエハが後処理中の時に図Bに示すように
E2で異常が発生すると、エッチング処理は終了しA1
の(Nー1)枚目のウエハは後処理終了後、アンロード
ロック室4に搬出しないで自動運転を一時中断する。E
2で異常の発生した(N)枚目ウエハについては図7の
76と78の処置を行う。その後E2とA2については
図7の80の運転情報信号発生手段による切替操作とし
て図6の説明で説明した1)または2)または3)の操
作を行い、図4で示したようにプロセス処理装置3(E
2)、プロセス処理装置4(A2)の運転情報を「無
効:0」とする。この後異常発生情報をリセット(図7
の80)し、自動運転を再開する。再開後は図Cのよう
にA2の(Nー1)枚目のウエハはアンロードロック室
4に搬送され、以降はE1とA1とを使って処理を続行
する。
【0061】次に、運転情報を「無効:0」としたプロ
セス処理装置3(E2)、プロセス処理装置4(A2)
については、補助操作盤22を使って異常原因を究明す
る為にプロセス処理装置3(E2)、プロセス処理装置
4(A2)に対して機器動作を行う為の操作入力が行え
る。例えば、プロセス処理装置3(E2)内の本図に示
していないウエハ押し上げ操作を行い動作を確認する。
【0062】このような操作により異常原因を対策で
き、「無効:0」としたプロセス処理装置3(E2)、
プロセス処理装置4(A2)をウエハの処理経路に復帰
させる手順を以下に示す。次に図Cの運転中に自動運転
の中断操作を行い、運転モードの処理経路から切り離し
たE2とA2とを有効と設定することで図Aに移行する
ことができ、運転モードでウエハの搬送経路が C1:E1→A1及びE2→A2 C2:E1→A1及びE2→A2にて運転できる。
【0063】図9は、自動運転中の処理装置運転切り離
し処理図を示す。以下に図7で述べた自動運転中にE2
とA2を自動運転処理経路から切り離した後自動運転を
再開する処理について説明する。図Aは図8の図Aの運
転経路と同じである。表1での「1カセット1レシピ並
列運転」の運転モードでウエハの搬送経路が C1:E1→A1及びE2→A2 C2:E1→A1及びE2→A2にて運転し、E2では
(N)枚目のウエハがエッチング処理中でA1では(N
ー1)枚目のウエハが後処理中の時に図Aに示すように
E2とA2に運転停止操作により停止指示が出される
と、A1の(Nー1)枚目のウエハは後処理終了後、元
のカセットに戻され、(N)枚目のウエハのエッチング
処理が終了しA2に搬送され後処理終了後元のカセット
に戻される。ところで、E2とA2は運転停止状態とな
っている為(N+1)枚目以降のウエハは、E1とA1
とを使って運転が続行される。
【0064】上記では、自動運転中にE2とA2を自動
運転処理経路から切り離す手段として運転停止操作によ
り停止指示を出すことで切り離しを行ったが、別の方法
として処理装置内に組み込んだ検出器の機能によって停
止指示を出すこともできる。一例としては、処理装置内
に組み込んだ異物モニタ装置からの異物測定モニタ値が
運転前に設定した設定値を超過したことを検知し、この
超過した信号をもって自動運転中にE2とA2に停止指
示を出すことで運転停止操作と同じ機能を行える。
【0065】また切り離したプロセス処理装置をウエハ
の搬送経路に復帰させる手順は、図9の説明で示した内
容と同じである。
【0066】図10は、パイロットカセット処理図を示
す。これは自動運転中に割り込み特急処理を行い、その
処理終了後は元の処理を再開し続行するものである。以
下に図7で述べた自動運転中に特定の(この場合はE2
とA2とする) 処理装置を現在運転中の運転モードの
処理経路から切り離し、その切り離したE2とA2とを
使ってそれまでに運転していたプロセス処理条件とは異
なるプロセス処理条件で処理するカセット(このカセッ
トのことをパイロットカセットと呼ぶ)を割り込んで処
理後、元の自動運転を再開し続行する処理について説明
する。図Aは図8での運転経路と同じである。表1での
「1カセット1レシピ並列運転」の運転モードでウエハ
の搬送経路が C1:E1→A1及びE2→A2 C2:E1→A1及びE2→A2にて運転し、E2では
C1カセットの(N)枚目のウエハがエッチング処理中
で、A1ではC1カセットの(Nー1)枚目のウエハが
後処理中の時に図Aに示すようにE2とA2を使った割
り込み特急処理を行う為に自動運転の中断操作を行う。
E2とA2に運転停止操作により停止指示が出される
と、A1の(Nー1)枚目のウエハは後処理終了後、元
のカセットに戻され、(N)枚目のウエハはエッチング
処理が終了しA2に搬送され後処理終了後元のカセット
に戻される。ところで、E2とA2は運転停止状態とな
っている為(N+1)枚目以降のウエハは、E1とA1
とを使って運転が続行される(図C)。E1とA1とを
使った運転中に、E2とA2とを使った割り込み特急処
理のカセットがC2(7ー2)に置かれ割り込み処理の
起動運転が掛かけられる(図C)とその時迄にC1(7
−1)カセットから抜き出されたウエハが全て処理され
C1カセットに搬入後、C1カセット内ウエハのE1と
A1とを使った運転は一時中断状態となり、割り込み特
急処理用のカセットC2内ウエハの処理が開始される
(図D)。C2カセットのウエハについては順次E2
→ A2の処理を行いC2カセットに搬入する。パイロ
ットカセットの処理が終了すると割り込み処理終了と一
時中断状態の運転の再開設定を行い、中断していたC1
(7−1)カセットからウエハの処理が再開する(図C
の状態に戻る)。次に図Cに戻った状態で運転中に自動
運転の中断操作を行い、運転モードの処理経路から切り
離したE2とA2とを有効と設定することで図Aに移行
することができ、運転モードでウエハの搬送経路が C1:E1→A1及びE2→A2 C2:E1→A1及びE2→A2にて運転できる。
【0067】以上に述べた内容でも分かるように故障等
で運転に使用できない、又は修復や保守(プラズマクリ
ーニングも含む)の為使用しないプロセス処理装置は、
運転情報信号記憶手段17に記憶されており、装置制御
手段はこの情報を参照して運転を進める為、無効と設定
したプロセス処理装置に搬送することはない。又この無
効と設定したプロセス処理装置では、修復、保守及び不
具合原因を行うために、続行している自動運転でのウェ
ハ処理と並行してメンテナンス操作(例えば、プラズマ
クリーニング処理、ガスライン排気処理、ウェハプッシ
ャーの押上げ/押下げ動作)を行なうことができる。こ
の場合無効と設定したプロセス処理装置に対して機側で
修復、保守及び不具合原因のための操作入力としては前
述の補助操作盤22を用いる。ところで通常生産ライン
では、図1に示す大気搬送装置6がクリーンルーム側に
搬送処理装置1、プロセス処理装置2−1〜2−4は、
メンテルーム側に設置されており、クリーンルーム側と
メンテルーム側との間は、パーテーションで区切られて
おり、片側から他方は、充分に視界がきかない場合があ
る。また補助操作盤22は、主制御部11にも接続され
ているが、補助操作盤22は主制御部11とは、普通は
離れた場所でかつ別々の人が操作することがある。この
ような場合に、どちらの操作部でも操作ができるように
しておくと、特に機側で補助操作盤22を用いて操作す
る場合、操作しているオペレータに対して安全上の災害
の発生させることが考えられるため、この災害を防止す
るため補助操作盤22を用いて機側でプロセス処理装置
に操作(例えばウエハ押し上げの上昇/下降操作)を行
なう時は、主制御部11は機器への操作ができないよう
に機能上インターロックをかけている。
【0068】以上の内容でもって、自動運転中にその処
理に使用していない処理室を使った処理、及びその処理
室への操作を実行することができる。
【0069】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
運転途中に或プロセス処理装置が故障等で使用できなく
なった場合や、運転開始時点で修復や保守の必要のある
プロセス処理装置がある状態で運転を開始する場合や、
運転途中に或プロセス処理装置の運転を中断させ他の有
効なプロセス処理装置を使って運転中に、先に中断させ
たプロセス処理装置を運転再開する場合に、装置運転続
行の処置を施すことで運転続行が可能となるようにした
ことにより、プロセス処理を行う複数のプロセス処理装
置と、ウェハの搬送を行う搬送処理装置で構成された真
空処理装置では、複数ある処理室の内、どれかが故障等
で使用できなくなった場合でも運転続行ができ、又運転
開始時修復や保守する必要のあるプロセス処理装置があ
る場合でも、正常なプロセス処理装置を使って運転で
き、装置の稼働率を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による真空処理装置の一実施例を示す平
面図である。
【図2】本発明による真空処理装置の他の実施例を示す
平面図である。
【図3】図1の一実施例の真空処理装置における装置制
御手段の制御構成図である。
【図4】図1の一実施例の真空処理装置における装置制
御手段の運転情報信号を示す図である。
【図5】図1の一実施例の真空処理装置における装置制
御手段の処理順序情報を示す図である。
【図6】図1の一実施例の真空処理装置における装置制
御手段の自動運転のフロー図である。
【図7】図6の自動運転フローの詳細を示すフロー図で
ある。
【図8】図1の一実施例の真空処理装置における異常発
生後の自動運転再開処理時の動作状態を示す図である。
【図9】図1の一実施例の真空処理装置における自動運
転中の処理装置運転切り離し処理の動作状態を示す図で
ある。
【図10】図1の一実施例の真空処理装置における自動
運転中のパイロットカセット処理時の状態変化を示す図
である。
【符号の説明】
1…搬送処理装置、2−1,2,3,4…プロセス処理
装置、3…ロードロック室、4…アンロードロック室、
5…真空ロボット、6…大気搬送装置、7…カセット、
8…大気ロボット、11…主制御部、12…中央制御手
段、13…表示手段、14…入力手段、15…装置制御
手段、16…処理順序情報記憶手段、17…運転情報信
号記憶手段、18−1,2,3,4…プロセス処理装
置、19−1,2,3,4…運転情報信号発生手段、2
0,21…通信手段、22…補助操作盤、23…中央制
御手段、24…端末制御手段、25…入力手段、26…
表示手段。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 幾原 祥二 山口県下松市大字東豊井794番地 日立 テクノエンジニアリング株式会社 笠戸 事業所内 (72)発明者 田原 哲也 山口県下松市大字東豊井794番地 日立 テクノエンジニアリング株式会社 笠戸 事業所内 (72)発明者 沖口 昌司 山口県下松市大字東豊井794番地 日立 テクノエンジニアリング株式会社 笠戸 事業所内 (56)参考文献 特開 平9−50948(JP,A) 特開 平3−274746(JP,A) 特開 平9−17838(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/02 H01L 21/3065 H01L 21/68

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ウエハに共通のプロセス処理を施す第1及
    び第2のプロセス処理装置と、 プロセス処埋装置にウエハを搬送する真空搬送装置と、 ウエハを収納する第1及び第2のカセットを載置する大
    気搬送装置と、 前記各カセット内に収納したウエハを真空搬送装置側に
    搬出し、真空搬送装置側から搬出された前記プロセス処
    理装置による処埋の終了した処埋済みウエハをもとのカ
    セットに戻すウエハ搬送装置と、 第1のカセットから搬出したウエハのいずれをも真空雰
    囲気にある第1のプロセス処理装置に搬送し、第2のカ
    セットから搬出したウエハのいずれをも真空雰囲気にあ
    る第2のプロセス処理装置に搬送し、前記第1のプロセ
    ス処理装置で共通のプロセス処埋を施したウエハを大気
    雰囲気にあるもとのカセットに戻し、前記第2のプロセ
    ス処理装置で共通のプロセス処理を施したウエハを大気
    雰囲気にあるもとのカセットに戻すように搬送制御を行
    う制御装置を備え、 該制御装置は、第1のプロセス処理装置に異常が発生し
    たとき、第1のカセットからのウエハの搬出を中断し、
    第2のカセットからのウエハの搬出を継続し第2のプロ
    セス処埋装置による処埋を続行することを特徴とする真
    空処埋装置。
  2. 【請求項2】第1及び第2のカセットに収納したウエハ
    をそれぞれ第1及び第2のプロセス処理装置に搬送して
    ウエハに共通のプロセス処理を施し、処理済みウエハを
    もとのカセットに戻す真空処理方法において、 第1のカセットから搬出したウエハのいずれをも真空雰
    囲気にある第1のプロセス処理装置に搬送し、第2のカ
    セットから搬出したウエハのいずれをも真空雰囲気にあ
    る第2のプロセス処理装置に搬送し、前記第1のプロセ
    ス処理装置で共通のプロセス処理を施したウエハを大気
    雰囲気にあるもとのカセットに戻し、前記第2のプロセ
    ス処埋装置で共通のプロセス処理を施したウエハを大気
    雰囲気にあるもとのカセットに戻し、 第1のプロセス処理装置に異常が発生したとき、第1の
    カセットからのウエハの搬出を中断し、第2のカセット
    からのウエハの搬出を継続し第2のプロセス処埋装置に
    よる処埋を続行することを特徴とする真空処埋方法。
JP2001384743A 2001-12-18 2001-12-18 真空処理方法及び真空処理装置 Expired - Lifetime JP3538416B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001384743A JP3538416B2 (ja) 2001-12-18 2001-12-18 真空処理方法及び真空処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001384743A JP3538416B2 (ja) 2001-12-18 2001-12-18 真空処理方法及び真空処理装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6609797A Division JP3771347B2 (ja) 1996-09-11 1997-03-19 真空処理装置及び真空処理方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004036974A Division JP4030509B2 (ja) 2004-02-13 2004-02-13 真空処理方法及び真空処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002246280A JP2002246280A (ja) 2002-08-30
JP3538416B2 true JP3538416B2 (ja) 2004-06-14

Family

ID=19187753

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001384743A Expired - Lifetime JP3538416B2 (ja) 2001-12-18 2001-12-18 真空処理方法及び真空処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3538416B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002246280A (ja) 2002-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW480646B (en) Operation of vacuum treatment device and method for processing wafer
KR100493644B1 (ko) 진공처리장치의운전방법
JP3384292B2 (ja) 真空処理装置の運転方法及び真空処理装置
JP3309997B2 (ja) 複合処理装置
JP5107961B2 (ja) 真空処理装置及び真空処理方法
JP3771347B2 (ja) 真空処理装置及び真空処理方法
JP3538416B2 (ja) 真空処理方法及び真空処理装置
JP2002246377A (ja) 真空処理装置の運転方法
JP4030509B2 (ja) 真空処理方法及び真空処理装置
JP4121480B2 (ja) 真空処理方法及び真空処理装置
JP5314789B2 (ja) 真空処理装置及び真空処理方法
JP4252103B2 (ja) 真空処理方法及び真空処理装置
JP2008193118A (ja) 真空処理装置及び真空処理方法
JP2008109134A (ja) 真空処理装置及び真空処理方法
JP5562387B2 (ja) 真空処理装置及び真空処理方法
KR100492267B1 (ko) 진공 처리장치 및 진공처리방법
KR100492261B1 (ko) 진공 처리장치 및 진공처리방법
JP2008166830A (ja) 真空処理方法及び真空処理装置
JP2008153690A (ja) 真空処理方法及び真空処理装置
JPH11145052A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP3441322B2 (ja) 基板処理装置及び方法
JP3281815B2 (ja) 真空処理装置及び真空処理方法
JPH09159981A (ja) 成膜装置
JP3314038B2 (ja) 複合処理装置
JPH10247679A (ja) 半導体処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20031216

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040309

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040319

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090326

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090326

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100326

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100326

Year of fee payment: 6

RVTR Cancellation of determination of trial for invalidation
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100326

Year of fee payment: 6