JPH07320997A - 処理装置 - Google Patents

処理装置

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JPH07320997A
JPH07320997A JP13520994A JP13520994A JPH07320997A JP H07320997 A JPH07320997 A JP H07320997A JP 13520994 A JP13520994 A JP 13520994A JP 13520994 A JP13520994 A JP 13520994A JP H07320997 A JPH07320997 A JP H07320997A
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富士雄 鈴木
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 クリ−ンル−ムとメンテナンスル−ムとの間
に配置される処理装置例えば熱処理装置をメンテナンス
する場合にメンテナンス作業を軽減すること。 【構成】 熱処理装置のプロセスボックス1の前面部
(クリ−ンル−ムCR内)に操作パネル3Aを設けると
共に、メンテナンスル−ムMR内のユ−ティリティボッ
クス2の前面部にも前記操作パネル3Aと同じ操作を行
うことのできる操作パネル3Bを設け、いずれの操作パ
ネル3A、3Bからも操作でき、かつプロセス条件や装
置の状態などの表示は、両操作パネル3A、3Bに行わ
れるように構成する。各操作パネル3A、3Bには、操
作可能な操作パネルを切り替え選択する切り替えスイッ
チ部61と、自己の操作パネル以外の切り替えスイッチ
部61による操作パネルの切り替えを禁止する切り替え
禁止スイッチ部62とを設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体ウエハの
製造工程で使用される処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハに対して酸化、拡散、CV
Dなどの熱処理をバッチ式で行う熱処理装置として縦型
熱処理装置がある。この縦型熱処理装置は、外部との間
でウエハカセットを搬入出する入出力ポート、ウエハカ
セットとウエハボートとの間でウエハの受け渡しをする
ウエハ移載機構、ヒータに囲まれ、ウエハボートが搬入
されて熱処理を行う反応管などを備えており、これら各
部が筐体内に収納されて構成されている。
【0003】そして半導体製造工場では、半導体ウエハ
(以下単にウエハという)へのパーティクルの付着を防
止するためにフィルタやエア循環手段などの特別の構造
を備えたクリーンルームが設けられており、この中でウ
エハを管理する一方、熱処理装置などの各種の処理装置
の排気系や電気系をメンテナンスルームに配置してここ
で装置のメンテナンスを行うようにしている。例えば縦
型熱処理装置はクリーンルームとメンテナンスルームと
の間に設置され、クリーンルーム側からウエハカセット
を搬入出し、種々の操作ができるように、筐体のクリー
ンルーム側の面に入出力ポート及び操作パネルが設けら
れると共に、真空ポンプ、ガス供給ユニット、制御ユニ
ットなどはメンテナンスルームに配置され、メンテナン
スルーム側からメンテナンスができる構造になってい
る。熱処理を行う場合にはオペレータが操作パネルによ
り熱処理温度、昇降温速度、供給ガスの種類、ガスの流
量、処理時間などを設定し、その設定されたモードによ
り装置が運転される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで上述の熱処理
装置をメンテナンスする場合、例えば反応管を洗浄した
後再び取り付け、熱電対の指示値を洗浄前の指示値と比
較したり、あるいはウエハボートの昇降機構をチェック
する場合などにおいては、クリーンルーム側に操作パネ
ルが設けられているため、作業者がクリーンルームとメ
ンテナンスルームとを往来しながら作業を行わなければ
ならず、作業が煩わしいという問題があった。また2人
以上の作業者によりトランシーバやインターホンで連絡
を取り合いながら作業を行う場合もあったが、本来のメ
ンテナンス作業を行う作業者の他に操作のための補助者
を必要とするので作業効率が悪いという問題があった。
【0005】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的はメンテナンス作業の負担を軽
減することのできる処理装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、クリ
ーンルームとメンテナンスルームとの間に設けられ、ク
リーンルーム側から被処理体を搬入出すると共にメンテ
ナンスルーム側からメンテナンスが行われる処理装置に
おいて、前記処理装置を操作するために前記クリーンル
ーム側に設けられた操作パネルと、前記メンテナンスル
ーム側に設けられ、前記操作パネルの操作の少なくとも
一部を行うことができる操作パネルと、を備え、各操作
パネルは、自己の操作パネルと他の操作パネルとの間で
切り替えるための切り替えスイッチ部を有していること
を特徴とする。
【0007】請求項2の発明は、請求項1記載の発明に
おいて、各操作パネルは、自己の操作パネル以外の切り
替えスイッチ部による操作パネルの切り替えを禁止する
ための切り替え禁止スイッチ部を有していることを特徴
とする。
【0008】
【作用】処理装置を運転する場合、切り替えスイッチ部
により、クリ−ンル−ム側の操作パネルに切り替えてお
き、オペレ−タが当該操作パネルによりプロセス条件な
どを設定し、被処理体を処理装置に搬入して所定の処理
を行う。そして処理装置に対してメンテナンスを行う場
合、切り替えスイッチ部によりメンテナンス側の操作パ
ネルに切り替えておき、作業者が当該操作パネルにより
処理装置を操作しながら、メンテナンスを行う。操作パ
ネルにより操作する場合、請求項2の発明のように切り
替え禁止スイッチ部により操作パネルの切り替えを禁止
しておけば、その操作パネル以外の操作パネルにより操
作が行われることはないので、安全な操作を行うことが
できる。
【0009】
【実施例】本発明を縦型熱処理装置に適用した実施例に
ついて説明すると、この実施例に係る縦型熱処理装置
は、図1に示すようにプロセスボックス1とユーティリ
ティボックス2とを備えている。図1中10はクリーン
ルームCRとメンテナンスルームMRとを仕切る仕切り
板であり、プロセスボックス1の前面部はクリーンルー
ムCR内に位置している。プロセスボックス1の前面部
には、装置の各機構を操作し、またプロセス条件を設定
するための操作パネル3Aと、ガス供給系や排気系の状
態(バルブのオン、オフなど)を表示するためのガス配
管系表示部30Aと、ウエハWを例えば25枚収納した
ウエハカセットCの入出力ポートをなすカセットステー
ジ11とを備えている。
【0010】前記操作パネル3Aはこの実施例の特徴部
分であるが、後で詳述することとし、その前にプロセス
ボックス1内の各部について図2を参照しながら簡単に
説明する。前記カセットステージ11は回転軸11aに
より奥側に90度倒れるようにつまりカセットC内の縦
置きのウエハWが水平になるように構成される。カセッ
トステージ11の後方にはカセット移載機構12の移載
路を介して、上側にストッカ13、下側に中間ステージ
14が配設されている。中間ステージ14の後方側に
は、ウエハ搬送機構15を介して、ウエハ保持具である
ウエハボート16が設けられている。このウエハボート
16は、例えば石英により多数枚のウエハWを各々水平
に棚状に配列保持できるように構成され、ボートエレベ
ータ17の上に保温筒18を介して載置されている。ウ
エハボート16の上方には、石英製の反応管をヒータで
囲繞してなる熱処理炉19が配設されており、ボートエ
レベータ17が上昇してウエハボート16が熱処理炉1
9内に搬入されることとなる。
【0011】一方前記ユーティリティボックス2は、前
記熱処理炉19内に処理ガスやパージ用の不活性ガスを
供給するためのバルブ、流量計などを含むガス供給ユニ
ット21、装置全体の制御を行うプロセスコントローラ
4及び熱処理炉19内を真空排気するための真空ポンプ
(図示せず)などを備えている。なおプロセスボックス
1とユーティリティボックス2との間に設けられるガス
供給管や排気管などは、まとめて概略的に鎖線で示して
ある。前記ユーティリティボックス2の前面部には、プ
ロセスボックス1に設けられた操作パネル3A及びガス
配管系表示部30Aと同様の操作パネル3B及びガス配
管系表示部30Bが設けられている。
【0012】前記操作パネル3A、3Bは、両方から同
じ操作をできるようにするためのものであるが、一方側
から操作するときは他方側から操作できないように構成
されており、一方側と他方側との間で操作パネルを切り
替えるための切り替えユニット5がユーティリティボッ
クス2内に設けられている。操作パネルに関して図3を
参照しながら詳述すると、操作パネル3A(3B)は、
熱処理温度、昇温速度、降温速度、プロセス時間などの
プロセス条件を選択したり、プロセスの編集、実行など
を行うためのプロセス設定部31、このプロセス設定部
31で選択されたプロセス条件などについて具体的数値
を入力するための数値入力部32、設定すべきプロセス
条件の表示(プロセス時間の設定値など)やプロセスコ
ントローラ4からリアルタイムで送られてくる情報例え
ば熱処理炉19内の温度を表示するプロセス表示部3
3、及び各機構を手動運転操作するための運転操作部3
4などを備えている。
【0013】前記切り替えユニット5は、プロセスコン
トローラ4からの情報を切り替えユニット5内をそのま
ま通して前記操作パネル3A、3Bに表示させる一方、
操作パネル3A、3Bのうち、切り替えユニット5内の
スイッチ回路部51にて切り替えられた側の(選択され
た)操作パネルからの操作入力信号のみをプロセスコン
トローラ4に送るように構成されている。
【0014】また前記操作パネル3A、3Bには、切り
替えスイッチ部61、切り替え禁止スイッチ部62、使
用可能ランプ63及び切り替え禁止ランプ64が設けら
れている。切り替えスイッチ部61は、押す度毎に切り
替えユニット5内のスイッチ回路部51に切り替え信号
を出力して自己の操作パネル3A(3B)または他方の
操作パネル3B(3A)側に切り換えると共に、自己の
操作パネル側に切り換えられたときに使用可能ランプ6
3を点灯するように構成されている。切り替え禁止スイ
ッチ部62は、押すことにより切り替え操作の優先使用
権を獲得するように、つまり先に押した側の操作パネル
3A(3B)の前記切り替えスイッチ部61による切り
替え操作を有効にし、他方の操作パネル3B(3A)の
切り替えスイッチ部61による切り替え操作を禁止する
と共に、もう一度押すと優先使用権の獲得が解除される
ように構成されている。前記切り替え禁止ランプ64
は、操作パネル3A、3Bのどちらかに切り替え操作の
優先使用権があるときに点灯する。また前記操作パネル
3A、3Bと切り替えユニット5との間を結ぶ配線は例
えば光ケーブルよりなり、操作パネル3A、3Bは夫々
プロセスボックス1及びユーティリティボックス2から
取り外して自由に持ち運びできるように構成されてい
る。
【0015】次に上述実施例の作用について説明する。
半導体ウエハに対して所定の熱処理を行う場合、オペレ
ータがプロセスボックス1の操作パネル3Aの切り替え
禁止スイッチ部62により切り替えの優先使用権を得て
ユーティリティボックス2の操作パネル3B側から切り
替えができないようにしておくと共に切り替えスイッチ
部61により自己の操作パネル3A側に切り替えてお
き、当該操作パネル3Aにて熱処理温度、供給ガスの種
別、流量、熱処理炉19内の圧力などのプロセス条件を
入力する。これら操作入力信号はプロセスコントローラ
4内のメモリに記憶され、入力されたプロセス条件に従
って熱処理装置が運転されることとなる。熱処理装置の
動作については先ずウエハWが収納されたウエハカセッ
トCが外部からカセットステージ11に搬入され、カセ
ット移載機構12により中間ステージ14に移載され
る。その後ウエハ搬送機構15によりウエハカセットC
内からウエハWがウエハボート16に搬送され、ウエハ
ボート16に所定枚数例えば100枚搭載された後ボー
トエレベータ17によりウエハボート16が熱処理炉1
9内に搬入される。熱処理炉19内では、前記プロセス
条件に基づいて所定の熱処理例えば酸化や拡散処理(あ
るいはCVD)などが行われる。
【0016】一方熱処理装置をメンテナンスする場合例
えば熱処理炉19内の反応管を洗浄して再び装置内に装
着し、熱電対の温度表示などのチェックを行う場合に
は、作業者がメンテナンスルームMR内にて作業を行う
が、テストを行うためのプロセス条件の設定や温度など
の数値表示の監視についてはユーティリティボックス2
の操作パネル3Bを用いて行われる。即ち作業者は、例
えばプロセスボックス1の操作パネル3A側に切り替え
の優先使用権がある場合には先ず操作パネル3Aの切り
替え禁止スイッチ部62によりその優先使用権を解除
し、操作パネル3Bの切り替え禁止スイッチ部62によ
り切り替えの優先使用権を当該操作パネル3B側に移行
させると共に切り替えスイッチ部61により自己の操作
パネル3B側に切り替えておき、その後操作パネル3B
により種々の設定や操作を行う。なお操作パネル3A、
3Bの一方で操作しているときには他方から操作するこ
とはできないが他方側においてもプロセス表示部33及
びガス配管系表示部30A(30B)に一方側と同じ表
示がされ、これにより他方側からも操作パネルの現在の
状態を把握できるようになっている。
【0017】このような実施例によれば、クリーンルー
ムCR側とメンテナンスルームMR側とに、同じ操作が
できる2個の操作パネル3A、3Bを夫々設けているた
め、メンテナンスや装置の立上げ時において、操作パネ
ル3Bにより種々の設定や操作ができ、従って従来のよ
うに作業者がメンテナンスルームMRとクリーンルーム
CRとを往来しなくて済むし、トランシーバなどを用い
て補助者との間で交信しなくてよいので、効率的に作業
を行うことができる。しかも両操作パネル3A、3Bに
は切り替え禁止スイッチ部62を設け、一方側に切り替
えの優先使用権を与えて、他方側からは切り替え操作で
きないようにしているため、メンテナンスルームMRで
作業をしているときに誤ってクリーンルームCR側から
別の操作をしてしまうなどといった事態を防止でき、安
全に操作することができる。
【0018】以上において上述実施例では、メンテナン
スルームMR側の操作パネル3Bをユーティリティボッ
クス2に設けているがこれに限定されるものではなく、
例えば作業者が持ち運べるように携帯型の操作パネルと
して構成してもよいし、メンテナンスルームMR側の操
作パネルの数は2個以上あってもよい。また例えばユー
ティリティボックス2に設けられた操作パネルと携帯型
の操作パネルとを併用してもよいし、携帯型の操作パネ
ルは、ボートエレベータやウエハ搬送機構などの機構部
分の操作についてのみ行えるように構成すると共にこの
携帯型の操作パネルにも切り替えスイッチ部及び切り替
え禁止スイッチ部を設けておくようにすれば、ボートエ
レベータの昇降動作などの細かい機構的なチェックを行
う場合に便利でかつ安全に作業できる。なお前記操作パ
ネル3Bは、クリーンルームCR側の操作パネルの操作
の少なくとも一部を操作できるものであればよい。
【0019】更にまた本発明では、複数の熱処理装置を
設置した場合メンテナンスルームMR側の操作パネルを
共通化し、各熱処理装置に対して切り替えて使用するよ
うにしてもよい。図4はこのような実施例を示す図であ
り、例えば3台の熱処理装置を1号機〜3号機とする
と、1−1、1−2及び1−3は、夫々1号機〜3号機
のプロセスボックス、2−1〜2−3はユーティリティ
ボックスである。メンテナンスルームMR側の操作パネ
ルとしては、各号機に共通な1台の操作パネル3Bが設
けられ、この操作パネル3Bと各号機の切り替えユニッ
ト5との間に、配線を切り替える切り替え手段7が設け
られ、この切り替え手段7により例えば1号機を選択す
れば、先の実施例と同様、操作パネル3B側に切り替え
られていることを条件に当該操作パネル3Bにより1号
機の熱処理装置を操作することができる。通常メンテナ
ンスは1台づつ行われるため、このように操作パネル3
Bを共通化すれば構成が簡単になり、コストを抑えるこ
とができる。
【0020】なお本発明は、CVD、アッシングあるい
はエッチングなどを行う熱処理装置に対して適当しても
よいことは勿論であり、また熱処理装置に限らず、半導
体製造工場あるいは液晶ディスプレイ基板製造工場など
において、クリーンルームとメンテナンスルームとの間
に配置される処理装置であれば適用することができる。
【0021】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、処理装置に対
して同じ操作をすることができる操作パネルをクリーン
ルームとメンテナンスルームとに夫々設けているため、
クリーンルーム側、メンテナンスルーム側のいずれから
も操作でき、従って装置のメンテナンス時に操作のため
にクリーンルームとメンテナンスルームとの間を往来し
なくて済むし、クリーンルームに補助者を配置しなくて
よいので、メンテナンス作業を軽減することができる。
また請求項2の発明によれば、切り替え禁止スイッチ部
を設けて、一方側に切り替えの優先使用権を与えている
ため、安全に操作を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明を縦型熱処理装置に適用した実施例の
全体構成を示す斜視図である。
【図2】 本発明の実施例に係る縦型熱処理装置のプロ
セスボックスの内部を示す側面図である。
【図3】 操作パネルとプロセスコントロ−ラ間の配線
を概略的に示す配線図である。
【図4】 本発明の他の実施例を示す説明図である。
【符号の説明】
CR クリ−ンル−ム MR メンテナンスル−ム 1 プロセスボックス 16 ウエハボ−ト 19 熱処理炉 2 ユ−ティリティボックス 3A、3B 操作パネル 4 プロセスコントロ−ラ 5 切り替えユニット 61 切り替えスイッチ部 62 切り替え禁止スイッチ部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 クリーンルームとメンテナンスルームと
    の間に設けられ、クリーンルーム側から被処理体を搬入
    出すると共にメンテナンスルーム側からメンテナンスが
    行われる処理装置において、 前記処理装置を操作するために前記クリーンルーム側に
    設けられた操作パネルと、 前記メンテナンスルーム側に設けられ、前記操作パネル
    の操作の少なくとも一部を行うことができる操作パネル
    と、を備え、 各操作パネルは、自己の操作パネルと他の操作パネルと
    の間で切り替えるための切り替えスイッチ部を有してい
    ることを特徴とする処理装置。
  2. 【請求項2】 各操作パネルは、自己の操作パネル以外
    の切り替えスイッチ部による操作パネルの切り替えを禁
    止するための切り替え禁止スイッチ部を有していること
    を特徴とする請求項1記載の処理装置。
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