JPH11204449A - 縦型熱処理装置 - Google Patents
縦型熱処理装置Info
- Publication number
- JPH11204449A JPH11204449A JP1792698A JP1792698A JPH11204449A JP H11204449 A JPH11204449 A JP H11204449A JP 1792698 A JP1792698 A JP 1792698A JP 1792698 A JP1792698 A JP 1792698A JP H11204449 A JPH11204449 A JP H11204449A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat treatment
- vertical heat
- gas supply
- substrate
- housing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 縦型の熱処理炉内にて半導体ウエハを熱処理
する縦型熱処理装置において、ガス流量、圧力などの制
御の応答性を良くするためにガス供給ユニットを装置本
体の近傍に配置していたが、その場合ガス供給ユニッ
ト、排気ユニット及び制御ユニットを含むユーティリテ
ィボックスも装置本体の近傍に設置されることになるた
め、クリーンルーム内の装置１台当りの占有スペースが
大きい。 【解決手段】 装置本体Ａの外装体である筐体３の背面
に熱処理炉１２の炉体の取り出し口３１が形成されてい
るが、ガス供給ユニット４を前記背面において取り出し
口３１から外れた個所に、後方に突出するように箱４１
の中に収めて設け、筐体３の向きに対して横向きにメン
テナンス用の扉４２を設ける。他の排気ユニットなどは
例えば地下に設置する。
する縦型熱処理装置において、ガス流量、圧力などの制
御の応答性を良くするためにガス供給ユニットを装置本
体の近傍に配置していたが、その場合ガス供給ユニッ
ト、排気ユニット及び制御ユニットを含むユーティリテ
ィボックスも装置本体の近傍に設置されることになるた
め、クリーンルーム内の装置１台当りの占有スペースが
大きい。 【解決手段】 装置本体Ａの外装体である筐体３の背面
に熱処理炉１２の炉体の取り出し口３１が形成されてい
るが、ガス供給ユニット４を前記背面において取り出し
口３１から外れた個所に、後方に突出するように箱４１
の中に収めて設け、筐体３の向きに対して横向きにメン
テナンス用の扉４２を設ける。他の排気ユニットなどは
例えば地下に設置する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウエ
ハをバッチで熱処理するための縦型熱処理装置に関す
る。
ハをバッチで熱処理するための縦型熱処理装置に関す
る。
【０００２】
【従来技術】半導体ウエハに対して酸化膜の形成、ドー
パントの拡散、アニールあるいはＣＤＶといった熱処理
を行う装置として縦型熱処理装置が知られている。この
装置は図９に示すように装置本体Ａとユーティリティボ
ックスＢとから構成され、装置本体Ａは、ウエハカセッ
トＣの搬入出ステージ１１、カセットＣやウエハの搬送
系及び縦型の熱処理炉１２を備えている。ユーティリテ
ィボックスＢは、用力ユニット、例えば駆動部のコント
ローラなどを含む制御ユニット、熱処理炉内を真空排気
するための排気ユニット２１及び熱処理炉１２内に処理
ガスを供給するためのガス供給機器が設けられたガス供
給ユニット２２を備え、装置本体Ａとユーティリティボ
ックスＢとの間にはガス供給管２３及び排気管２４が配
管され、かつケーブル（図示せず）が配線されている。
パントの拡散、アニールあるいはＣＤＶといった熱処理
を行う装置として縦型熱処理装置が知られている。この
装置は図９に示すように装置本体Ａとユーティリティボ
ックスＢとから構成され、装置本体Ａは、ウエハカセッ
トＣの搬入出ステージ１１、カセットＣやウエハの搬送
系及び縦型の熱処理炉１２を備えている。ユーティリテ
ィボックスＢは、用力ユニット、例えば駆動部のコント
ローラなどを含む制御ユニット、熱処理炉内を真空排気
するための排気ユニット２１及び熱処理炉１２内に処理
ガスを供給するためのガス供給機器が設けられたガス供
給ユニット２２を備え、装置本体Ａとユーティリティボ
ックスＢとの間にはガス供給管２３及び排気管２４が配
管され、かつケーブル（図示せず）が配線されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところでガス供給ユニ
ット２２は、熱処理炉１２の近くに設ける必要がある。
その理由は、ガス供給ユニット２２が遠くに設置されて
いると、ガスを切り換えるときに配管内のガスを置換す
るのに長い時間がかかり、またガスの流量及び圧力を調
整するときに応答が悪いからである。このためユーティ
リティボックスＢを装置本体Ａと同一のフロアでかつ近
傍に設置しなければならない。
ット２２は、熱処理炉１２の近くに設ける必要がある。
その理由は、ガス供給ユニット２２が遠くに設置されて
いると、ガスを切り換えるときに配管内のガスを置換す
るのに長い時間がかかり、またガスの流量及び圧力を調
整するときに応答が悪いからである。このためユーティ
リティボックスＢを装置本体Ａと同一のフロアでかつ近
傍に設置しなければならない。
【０００４】一方縦型熱処理装置はクリーンルームに配
置されるが、ウエハが大口径化しているため装置が大型
化し、ユーティリティボックスの占有スペースも考慮す
ると１台の熱処理装置が占有するスペースが広くなって
いる。しかしながらクリーンルームは、空気清浄化機構
を備えているなど特殊な構造であるため建設コスト及び
ランニングコストが相当高く、この分を含めると熱処理
装置１台を運転するためのコストが高くなるという問題
がある。
置されるが、ウエハが大口径化しているため装置が大型
化し、ユーティリティボックスの占有スペースも考慮す
ると１台の熱処理装置が占有するスペースが広くなって
いる。しかしながらクリーンルームは、空気清浄化機構
を備えているなど特殊な構造であるため建設コスト及び
ランニングコストが相当高く、この分を含めると熱処理
装置１台を運転するためのコストが高くなるという問題
がある。
【０００５】本発明はこのような事情の下になされたも
のであり、その目的は、クリーンルーム内における装置
の占有スペースを小さくすることができる縦型熱処理装
置を提供することにある。
のであり、その目的は、クリーンルーム内における装置
の占有スペースを小さくすることができる縦型熱処理装
置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の縦型熱処理装置
は、カセット載置部に載置された基板カセットの中から
基板移載機により基板を取り出して基板保持具に棚状に
保持させ、縦型の熱処理炉内に搬入して基板に対して熱
処理を行い、前記カセット載置部及び、基板移載機によ
る基板の移載領域、並びに縦型の熱処理炉は筐体の中に
収納されている縦型熱処理装置において、前記熱処理炉
内に処理ガスを供給するための流路の途中に配置され
た、ガス供給機器を含むガス供給ユニットを、前記筐体
の外面に設けたことを特徴とする。
は、カセット載置部に載置された基板カセットの中から
基板移載機により基板を取り出して基板保持具に棚状に
保持させ、縦型の熱処理炉内に搬入して基板に対して熱
処理を行い、前記カセット載置部及び、基板移載機によ
る基板の移載領域、並びに縦型の熱処理炉は筐体の中に
収納されている縦型熱処理装置において、前記熱処理炉
内に処理ガスを供給するための流路の途中に配置され
た、ガス供給機器を含むガス供給ユニットを、前記筐体
の外面に設けたことを特徴とする。
【０００７】例えば筐体の背面近傍に熱処理炉が設けら
れると共に筐体の背面に熱処理炉の炉体の取り出し口が
形成され、ガス供給ユニットは筐体の背面における前記
炉体の取り出し口から外れた箇所に設けらる。またガス
供給ユニットは、例えば筐体の向きに対して横向きにメ
ンテナンス用の扉が設けらる。更にガス供給機器は、例
えばガス流路が内部に形成されると共に結合部を備えた
ガス流路エレメントと、前記ガス流路に連通する機器本
体と、からなる組み立てユニットを含み、互いに隣接す
る組み立てユニットはガス流路エレメント同士を結合部
により結合して接続されている。この発明においてガス
供給ユニット以外の他の用力ユニットは例えば筐体の設
置されているフロアに対して階下あるいは階上に設けら
れる。
れると共に筐体の背面に熱処理炉の炉体の取り出し口が
形成され、ガス供給ユニットは筐体の背面における前記
炉体の取り出し口から外れた箇所に設けらる。またガス
供給ユニットは、例えば筐体の向きに対して横向きにメ
ンテナンス用の扉が設けらる。更にガス供給機器は、例
えばガス流路が内部に形成されると共に結合部を備えた
ガス流路エレメントと、前記ガス流路に連通する機器本
体と、からなる組み立てユニットを含み、互いに隣接す
る組み立てユニットはガス流路エレメント同士を結合部
により結合して接続されている。この発明においてガス
供給ユニット以外の他の用力ユニットは例えば筐体の設
置されているフロアに対して階下あるいは階上に設けら
れる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下図面を参照しながら本発明の
実施の形態を説明する。図１及び図２は、それぞれ本発
明の実施の形態である縦型熱処理装置を前側及び後側か
ら見た斜視図であり、図３は同装置の縦断側面図であ
る。先ず装置本体Ａについて簡単に述べておくと、装置
本体Ａの前面側に搬入出ステージ１１が配置されると共
に、このステージ１１の奥側にカセット移載機１３の移
動路を介して対向するように基板載置部であるウエハ載
置部１４が設けられ、更に上方側にカセット収納棚１５
が設けられている。ウエハＷを収納したカセットＣがス
テージ１１に置かれると、このカセットＣはカセット移
載機１３により収納棚１５を介してウエハ載置部１４に
移載される。
実施の形態を説明する。図１及び図２は、それぞれ本発
明の実施の形態である縦型熱処理装置を前側及び後側か
ら見た斜視図であり、図３は同装置の縦断側面図であ
る。先ず装置本体Ａについて簡単に述べておくと、装置
本体Ａの前面側に搬入出ステージ１１が配置されると共
に、このステージ１１の奥側にカセット移載機１３の移
動路を介して対向するように基板載置部であるウエハ載
置部１４が設けられ、更に上方側にカセット収納棚１５
が設けられている。ウエハＷを収納したカセットＣがス
テージ１１に置かれると、このカセットＣはカセット移
載機１３により収納棚１５を介してウエハ載置部１４に
移載される。
【０００９】ウエハ載置部１４にカセットＣが置かれる
と基板移載機であるウエハ移載機１６によりカセットＣ
内からウエハＷが取り出されてウエハボート１７に棚状
に配置され、ボートエレベータ１８によりウエハボート
１７が縦型の熱処理炉１２内に搬入され、ウエハに対し
て所定の熱処理が行われる。
と基板移載機であるウエハ移載機１６によりカセットＣ
内からウエハＷが取り出されてウエハボート１７に棚状
に配置され、ボートエレベータ１８によりウエハボート
１７が縦型の熱処理炉１２内に搬入され、ウエハに対し
て所定の熱処理が行われる。
【００１０】装置本体Ａは、外装体として例えばほぼ直
方体をなす筐体３を備えており、この中に既述の搬入出
ステージ１１から熱処理炉１２に至るまでの部品が収納
されている。この筐体３の背面には、熱処理炉１２の炉
体（ヒータ及び断熱体を含む部分）を取り出すための取
り出し口３１（図２参照）が形成されており、この取り
出し口３１は常時はパネル３２で塞がれている。そして
筐体３の背面における取り出し口３１の横の板面部分に
はガス供給ユニット４が例えば着脱自在に取り付けられ
ている。
方体をなす筐体３を備えており、この中に既述の搬入出
ステージ１１から熱処理炉１２に至るまでの部品が収納
されている。この筐体３の背面には、熱処理炉１２の炉
体（ヒータ及び断熱体を含む部分）を取り出すための取
り出し口３１（図２参照）が形成されており、この取り
出し口３１は常時はパネル３２で塞がれている。そして
筐体３の背面における取り出し口３１の横の板面部分に
はガス供給ユニット４が例えば着脱自在に取り付けられ
ている。
【００１１】このガス供給ユニット４は、前記板面部分
に側端面が対向して取り付けられて後方に突出した状態
になった偏平な箱４１を備え、この箱４１は、前記筐体
３の背面と直交しかつ内側に向いた面が開放されてい
る。箱４１の中にはガス供給機器、例えば減圧弁、開閉
弁、流量計（マスフローコントローラ）、逆止弁、圧力
計などが収納されており、開放された面を開閉するよう
に、ガラスにより中が覗ける両開きの扉４２が設けられ
ている。なおガス供給機器のレイアウトは図示の便宜上
模式的に描いてある。箱４１の上面には、例えば工場の
外のガスボンベ収納庫からガスが導かれるように配管４
３が設けられており、ガス供給ユニット４にて圧力や流
量が調整されたガスは例えば箱４１の下面から配管４４
を介して筐体３内に入り込んで熱処理炉１２に送られ
る。
に側端面が対向して取り付けられて後方に突出した状態
になった偏平な箱４１を備え、この箱４１は、前記筐体
３の背面と直交しかつ内側に向いた面が開放されてい
る。箱４１の中にはガス供給機器、例えば減圧弁、開閉
弁、流量計（マスフローコントローラ）、逆止弁、圧力
計などが収納されており、開放された面を開閉するよう
に、ガラスにより中が覗ける両開きの扉４２が設けられ
ている。なおガス供給機器のレイアウトは図示の便宜上
模式的に描いてある。箱４１の上面には、例えば工場の
外のガスボンベ収納庫からガスが導かれるように配管４
３が設けられており、ガス供給ユニット４にて圧力や流
量が調整されたガスは例えば箱４１の下面から配管４４
を介して筐体３内に入り込んで熱処理炉１２に送られ
る。
【００１２】前記ガス供給ユニット４におけるガス供給
機器の一部は図４及び図５に示すように組立ユニット５
により構成されている。この組立ユニット５はガス流路
５１が内部に形成されると共に結合部５２、５３を備え
た例えばステンレス鋼からなる角型のガス流路エレメン
ト５４と、このガス流路エレメント５４の上に搭載さ
れ、前記ガス流路５１に連通するマスフローメータや開
閉弁などの機器本体５５とからなる。結合部５２、５３
はガス流路エレメント５４同士を結合するためのもので
あり、例えば互いに密合する凸部（５２）及び凹部（５
３）として構成される。即ちこの組立ユニット５は配管
の途中にガス供給機器を介装するのではなく、角型のガ
ス流路エレメント５４内に流路を設け、このエレメント
５４の組み合わせによって所定の流路網を形成するもの
であり、配管を用いる場合に比べて小型化できる。
機器の一部は図４及び図５に示すように組立ユニット５
により構成されている。この組立ユニット５はガス流路
５１が内部に形成されると共に結合部５２、５３を備え
た例えばステンレス鋼からなる角型のガス流路エレメン
ト５４と、このガス流路エレメント５４の上に搭載さ
れ、前記ガス流路５１に連通するマスフローメータや開
閉弁などの機器本体５５とからなる。結合部５２、５３
はガス流路エレメント５４同士を結合するためのもので
あり、例えば互いに密合する凸部（５２）及び凹部（５
３）として構成される。即ちこの組立ユニット５は配管
の途中にガス供給機器を介装するのではなく、角型のガ
ス流路エレメント５４内に流路を設け、このエレメント
５４の組み合わせによって所定の流路網を形成するもの
であり、配管を用いる場合に比べて小型化できる。
【００１３】ガス供給ユニット４以外の用力（ユーティ
リティ）ユニットのレイアウトについて述べると、真空
ポンプ６１及びトラップ６２などを含む排気ユニット６
やコントローラなどを含む制御ユニット７は図６に示す
ように装置本体Ａの階下に設置されている。６３は排気
管、７１はケーブルである。
リティ）ユニットのレイアウトについて述べると、真空
ポンプ６１及びトラップ６２などを含む排気ユニット６
やコントローラなどを含む制御ユニット７は図６に示す
ように装置本体Ａの階下に設置されている。６３は排気
管、７１はケーブルである。
【００１４】上述のような縦型熱処理装置では、搬入出
ステージ１１にウエハカセットＣが搬入され、既述のよ
うにしてウエハＷが熱処理炉１２内に搬入されて熱処理
が行われる。装置の運転中は筐体３の背面の取り出し口
３１はパネル３２により塞がれ、またガス供給ユニット
４の扉４２も閉じられている。そしてメンテナンス時は
ガス供給ユニット４の扉４２が開かれて箱４１の中のガ
ス供給機器のメンテナンスが行われ、更にパネル３２が
外されて、熱処理炉１２の炉体が取り出し口３１から取
り出される。
ステージ１１にウエハカセットＣが搬入され、既述のよ
うにしてウエハＷが熱処理炉１２内に搬入されて熱処理
が行われる。装置の運転中は筐体３の背面の取り出し口
３１はパネル３２により塞がれ、またガス供給ユニット
４の扉４２も閉じられている。そしてメンテナンス時は
ガス供給ユニット４の扉４２が開かれて箱４１の中のガ
ス供給機器のメンテナンスが行われ、更にパネル３２が
外されて、熱処理炉１２の炉体が取り出し口３１から取
り出される。
【００１５】このような実施の形態によればガス供給ユ
ニット４を筐体４の背面に取り付けているため、ガス供
給ユニット４と熱処理炉１２とが近いので圧力、流量な
どの応答性がよく、精度の高いプロセス制御を行うこと
ができ、またガスの種類を変えるときもガスの置換が短
時間で行われる。また筐体３に横向きに固定された箱４
の中に、他の用力ユニットから独立してガス供給機器が
収納され、操作面が横に向いているので扉４２を開ける
ことにより作業者がガス供給機器とが向かい合い、従っ
てセットアップがやりやすいし、メンテナンスも容易で
ある。更に炉体の取り出し口３１から外れたところにガ
ス供給ユニット４が設けられているので、ガス供給ユニ
ット４を取り外すことなく炉体の出し入れを行うことが
できる。そしてガス供給ユニット４の一部に既述の組立
てユニット５を用いているため、複雑なガス系でも狭い
スペースに収めることができ、従って筐体３の背面への
取り付け構造を採用できる。
ニット４を筐体４の背面に取り付けているため、ガス供
給ユニット４と熱処理炉１２とが近いので圧力、流量な
どの応答性がよく、精度の高いプロセス制御を行うこと
ができ、またガスの種類を変えるときもガスの置換が短
時間で行われる。また筐体３に横向きに固定された箱４
の中に、他の用力ユニットから独立してガス供給機器が
収納され、操作面が横に向いているので扉４２を開ける
ことにより作業者がガス供給機器とが向かい合い、従っ
てセットアップがやりやすいし、メンテナンスも容易で
ある。更に炉体の取り出し口３１から外れたところにガ
ス供給ユニット４が設けられているので、ガス供給ユニ
ット４を取り外すことなく炉体の出し入れを行うことが
できる。そしてガス供給ユニット４の一部に既述の組立
てユニット５を用いているため、複雑なガス系でも狭い
スペースに収めることができ、従って筐体３の背面への
取り付け構造を採用できる。
【００１６】そしてまたガス供給ユニット４を他の用力
ユニットから切離したため、ガス供給ユニット以外の用
力ユニット、例えば排気ユニット６や制御ユニット７を
装置本体Ａから離れた所に置くことができ、このため装
置本体Ａが置かれているフロアの階下（図６参照）や階
上あるいは同一フロアであってもクリーンルームの別個
の用力ユニット専用の収納室に設置することができる。
この結果クリーンルームのスペースを、今までユーティ
リティボックスが存在していた分だけ有効に活用するこ
とができ、従って熱処理装置の台数を多く設置すること
ができるので、ウエハの製造コストアップを抑えること
ができる。
ユニットから切離したため、ガス供給ユニット以外の用
力ユニット、例えば排気ユニット６や制御ユニット７を
装置本体Ａから離れた所に置くことができ、このため装
置本体Ａが置かれているフロアの階下（図６参照）や階
上あるいは同一フロアであってもクリーンルームの別個
の用力ユニット専用の収納室に設置することができる。
この結果クリーンルームのスペースを、今までユーティ
リティボックスが存在していた分だけ有効に活用するこ
とができ、従って熱処理装置の台数を多く設置すること
ができるので、ウエハの製造コストアップを抑えること
ができる。
【００１７】図７は、上述の実施の形態に係る縦型熱処
理装置をクリーンルーム内に複数台並べたレイアウトの
一例を示す図であり、筐体３の背面から後方に突出する
ようにガス供給ユニット４が設けられているため、各筐
体３の側面同士を接近させて並べることができ、従って
設置台数を多くできる。なお８はウエハカセットＣを搬
送する自動搬送ロボットである。
理装置をクリーンルーム内に複数台並べたレイアウトの
一例を示す図であり、筐体３の背面から後方に突出する
ようにガス供給ユニット４が設けられているため、各筐
体３の側面同士を接近させて並べることができ、従って
設置台数を多くできる。なお８はウエハカセットＣを搬
送する自動搬送ロボットである。
【００１８】また本発明では図８に示すようにガス供給
ユニット４の扉を筐体３の外側となるように取り付けて
もよいし、ガス供給ユニット４は筐体３の背面に限らず
側面に設けてもよい。
ユニット４の扉を筐体３の外側となるように取り付けて
もよいし、ガス供給ユニット４は筐体３の背面に限らず
側面に設けてもよい。
【００１９】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ガス供給
ユニットを装置本体の外装体である筐体の外面に取り付
けているため、排気ユニットなどの他の用力ユニットは
装置本体から遠く離すこと例えば別のフロアに置くこと
ができるため、装置１台当りのクリーンルームの占有面
積を小さくすることができる。
ユニットを装置本体の外装体である筐体の外面に取り付
けているため、排気ユニットなどの他の用力ユニットは
装置本体から遠く離すこと例えば別のフロアに置くこと
ができるため、装置１台当りのクリーンルームの占有面
積を小さくすることができる。
【図１】本発明の実施の形態に係る縦型熱処理装置を前
方側からみた斜視図である。
方側からみた斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る縦型熱処理装置を後
方側からみた斜視図である。
方側からみた斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る縦型熱処理装置を示
す縦断側面図である。
す縦断側面図である。
【図４】本発明の実施の形態で用いられるガス供給ユニ
ットの組立てユニットを示す斜視図である。
ットの組立てユニットを示す斜視図である。
【図５】本発明の実施の形態で用いられるガス供給ユニ
ットの組立てユニットを示す分解斜視図である。
ットの組立てユニットを示す分解斜視図である。
【図６】本発明の実施の形態に係る縦型熱処理装置にお
いて装置本体とユーティリティユニットとの設置のレイ
アウトを示す側面図である。
いて装置本体とユーティリティユニットとの設置のレイ
アウトを示す側面図である。
【図７】本発明の実施の形態に係る縦型熱処理装置にお
いて装置本体の設置のレイアウトを示す平面図である。
いて装置本体の設置のレイアウトを示す平面図である。
【図８】本発明の他の実施の形態を示す斜視図である。
【図９】従来の縦型熱処理装置を示す斜視図である。
Ａ 装置本体 １１ 搬入出ステージ １２ 熱処理炉 ３ 筐体 Ｃ ウエハカセット Ｗ 半導体ウエハ ３１ 炉体の取り出し口 ４ ガス供給ユニット ４１ 箱 ４２ 扉 ５ 組立ユニット ５１ ガス流路 ５２、５３ 結合部 ５４ ガス流路エレメント ５５ 機器本体 ６ 排気ユニット ７ 制御ユニット ８ 自動搬送ロボット
Claims (5)
- 【請求項１】 カセット載置部に載置された基板カセッ
トの中から基板移載機により基板を取り出して基板保持
具に棚状に保持させ、縦型の熱処理炉内に搬入して基板
に対して熱処理を行い、前記カセット載置部及び、基板
移載機による基板の移載領域、並びに縦型の熱処理炉は
筐体の中に収納されている縦型熱処理装置において、 前記熱処理炉内に処理ガスを供給するための流路の途中
に配置された、ガス供給機器を含むガス供給ユニット
を、前記筐体の外面に設けたことを特徴とする縦型熱処
理装置。 - 【請求項２】 筐体の背面近傍に熱処理炉が設けられる
と共に筐体の背面に熱処理炉の炉体の取り出し口が形成
され、ガス供給ユニットは筐体の背面における前記炉体
の取り出し口から外れた箇所に設けられていることを特
徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。 - 【請求項３】 ガス供給ユニットは、筐体の向きに対し
て横向きにメンテナンス用の扉が設けられていることを
特徴とする請求項２記載の縦型熱処理装置。 - 【請求項４】 ガス供給機器は、ガス流路が内部に形成
されると共に結合部を備えたガス流路エレメントと、前
記ガス流路に連通する機器本体と、からなる組み立てユ
ニットを含み、 互いに隣接する組み立てユニットはガス流路エレメント
同士を結合部により結合して接続されていることを特徴
とする請求項１、２または３記載の縦型熱処理装置。 - 【請求項５】 ガス供給ユニット以外の他の用力ユニッ
トが、筐体の設置されているフロアに対して階下あるい
は階上に設けられていることを特徴とする請求項１、
２、３または４記載の縦型熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1792698A JPH11204449A (ja) | 1998-01-14 | 1998-01-14 | 縦型熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1792698A JPH11204449A (ja) | 1998-01-14 | 1998-01-14 | 縦型熱処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11204449A true JPH11204449A (ja) | 1999-07-30 |
Family
ID=11957387
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1792698A Pending JPH11204449A (ja) | 1998-01-14 | 1998-01-14 | 縦型熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11204449A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016506071A (ja) * | 2012-12-03 | 2016-02-25 | エーエスエム イーペー ホールディング ベー．フェー． | モジュール式縦型炉処理システム |
| WO2018003072A1 (ja) * | 2016-06-30 | 2018-01-04 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| JP2018085451A (ja) * | 2016-11-24 | 2018-05-31 | 株式会社日立国際電気 | 処理装置、排気システム及び半導体装置の製造方法 |
| JP2019110340A (ja) * | 2019-03-27 | 2019-07-04 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| JP2019110339A (ja) * | 2019-03-27 | 2019-07-04 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| JP2019125805A (ja) * | 2019-03-27 | 2019-07-25 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| JP2019135777A (ja) * | 2019-03-27 | 2019-08-15 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| JP2019135776A (ja) * | 2019-03-27 | 2019-08-15 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| JP2020043361A (ja) * | 2016-06-30 | 2020-03-19 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置および半導体装置の製造方法 |
| CN111430269A (zh) * | 2019-01-10 | 2020-07-17 | 东京毅力科创株式会社 | 处理装置 |
| JP2020113746A (ja) * | 2019-01-10 | 2020-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
| KR20210079081A (ko) * | 2019-12-19 | 2021-06-29 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판처리장치 |
-
1998
- 1998-01-14 JP JP1792698A patent/JPH11204449A/ja active Pending
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016506071A (ja) * | 2012-12-03 | 2016-02-25 | エーエスエム イーペー ホールディング ベー．フェー． | モジュール式縦型炉処理システム |
| KR20180107301A (ko) * | 2016-06-30 | 2018-10-01 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 기록 매체 |
| KR20180107303A (ko) * | 2016-06-30 | 2018-10-01 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 기록 매체 |
| KR20180107305A (ko) * | 2016-06-30 | 2018-10-01 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 기록 매체 |
| KR20180107304A (ko) * | 2016-06-30 | 2018-10-01 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 기록 매체 |
| JP2020043361A (ja) * | 2016-06-30 | 2020-03-19 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置および半導体装置の製造方法 |
| JPWO2018003072A1 (ja) * | 2016-06-30 | 2019-01-17 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| US20190198359A1 (en) * | 2016-06-30 | 2019-06-27 | Kokusai Electric Corporation | Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device |
| US11456190B2 (en) | 2016-06-30 | 2022-09-27 | Kokusai Electric Corporation | Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device |
| US11062918B2 (en) | 2016-06-30 | 2021-07-13 | Kokusai Electric Corpotation | Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device |
| CN110265322B (zh) * | 2016-06-30 | 2020-10-30 | 株式会社国际电气 | 衬底处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质 |
| WO2018003072A1 (ja) * | 2016-06-30 | 2018-01-04 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| US10636681B2 (en) | 2016-06-30 | 2020-04-28 | Kokusai Electric Corporation | Substrate processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device |
| JP2018085451A (ja) * | 2016-11-24 | 2018-05-31 | 株式会社日立国際電気 | 処理装置、排気システム及び半導体装置の製造方法 |
| JP2020113746A (ja) * | 2019-01-10 | 2020-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
| CN111430269A (zh) * | 2019-01-10 | 2020-07-17 | 东京毅力科创株式会社 | 处理装置 |
| KR20200087075A (ko) * | 2019-01-10 | 2020-07-20 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 처리 장치 |
| US11581198B2 (en) | 2019-01-10 | 2023-02-14 | Tokyo Electron Limited | Processing apparatus |
| JP2019135776A (ja) * | 2019-03-27 | 2019-08-15 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| JP2019135777A (ja) * | 2019-03-27 | 2019-08-15 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| JP2019125805A (ja) * | 2019-03-27 | 2019-07-25 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| JP2019110339A (ja) * | 2019-03-27 | 2019-07-04 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| JP2019110340A (ja) * | 2019-03-27 | 2019-07-04 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置、半導体装置の製造方法および記録媒体 |
| KR20210079081A (ko) * | 2019-12-19 | 2021-06-29 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판처리장치 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4384770B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP4246654B2 (ja) | 真空処理装置 | |
| JP3610900B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| US7833382B2 (en) | Vacuum processing apparatus | |
| EP1091390B1 (en) | Substrate processing apparatus | |
| JPH11204449A (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| JP4426343B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
| US6283143B1 (en) | System and method for providing an integrated gas stick | |
| US20050279281A1 (en) | Substrate processing apparatus | |
| JP5215332B2 (ja) | 真空処理装置 | |
| KR20020013710A (ko) | 가열·냉각장치 및 이 장치를 구비한 진공처리장치 | |
| US20110143645A1 (en) | Liquid processing apparatus, liquid processing method and storage medium | |
| US8518187B2 (en) | Transfer pick cleaning method | |
| US8794896B2 (en) | Vacuum processing apparatus and zonal airflow generating unit | |
| KR100905262B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 | |
| JP2006080347A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP4522795B2 (ja) | 真空処理装置 | |
| JP2005252200A (ja) | 真空処理装置 | |
| JPH1097962A (ja) | 処理装置及び処理システム | |
| JP2008182218A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP4000174B2 (ja) | 処理システム | |
| JP3416397B2 (ja) | 処理システム | |
| JP2005150173A (ja) | 真空処理装置 | |
| US10269598B2 (en) | Substrate treating apparatus | |
| JP2912687B2 (ja) | フィルタ装置及び縦型熱処理装置 |