JP2011105598A5 - 携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材およびその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材は、化学強化による圧縮応力層を有する主表面を持ち、携帯端末装置の表示画面の保護に用いられる携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材であって、前記主表面がエッチングによる溶解面であり、当該主表面においてカリウムイオンが５０００ｐｐｍ以下の濃度で含まれる前記圧縮応力層を有することを特徴とする。
本発明の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材は、化学強化による圧縮応力層を有する主表面を持ち、携帯端末装置の表示画面の保護に用いられる携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材であって、主表面においてカリウムイオンが５０００ｐｐｍ以下の濃度で含まれる前記圧縮応力層を有することを特徴とする。
本発明の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材においては、カリウムイオン濃度が５０００ｐｐｍを超えるイオン交換層がエッチングによって除去されて前記主表面が形成されていることが好ましい。
この構成によれば、化学強化により形成された圧縮応力層に、洗浄の際にヒドロニウムイオンとイオン交換するカリウムイオンの濃度が５０００ｐｐｍ超の層を有しないので、強度低下を招く引張応力層の形成を回避することができる。その結果、薄くても非常に高い強度を発揮することができる。
本発明においては、前記化学強化は、低温化学強化であることが好ましい。
本発明においては、前記ガラス基材は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｌｉ２Ｏ及びＮａ２Ｏからなる群から選ばれた少なくとも一つを含有したアルミノシリケートガラスで構成されていることが好ましい。
本発明においては、前記ガラス基材は、ガラス組成物としてＫ２Ｏを実質的に含まないことが好ましい。
本発明の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材の製造方法は、加熱した化学強化用の硝酸カリウムを含む熔融塩にガラス基板を浸漬することにより、前記ガラス基板のイオンを前記熔融塩のカリウムイオンでイオン交換して前記ガラス基板を化学強化する工程と、前記化学強化により前記ガラス基板の主表面に形成されたカリウムイオン濃度が５０００ｐｐｍを超えるイオン交換層を除去する工程と、を具備し、前記化学強化後のガラス基板の主表面をエッチングすることにより前記イオン交換層を除去することを特徴とする。
本発明の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材は、化学強化による圧縮応力層を有する主表面を持ち、携帯端末装置の表示画面の保護に用いられる携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材であって、主表面においてカリウムイオンが５０００ｐｐｍ以下の濃度で含まれる前記圧縮応力層を有することを特徴とする。
本発明の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材においては、カリウムイオン濃度が５０００ｐｐｍを超えるイオン交換層がエッチングによって除去されて前記主表面が形成されていることが好ましい。
この構成によれば、化学強化により形成された圧縮応力層に、洗浄の際にヒドロニウムイオンとイオン交換するカリウムイオンの濃度が５０００ｐｐｍ超の層を有しないので、強度低下を招く引張応力層の形成を回避することができる。その結果、薄くても非常に高い強度を発揮することができる。
本発明においては、前記化学強化は、低温化学強化であることが好ましい。
本発明においては、前記ガラス基材は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｌｉ２Ｏ及びＮａ２Ｏからなる群から選ばれた少なくとも一つを含有したアルミノシリケートガラスで構成されていることが好ましい。
本発明においては、前記ガラス基材は、ガラス組成物としてＫ２Ｏを実質的に含まないことが好ましい。
本発明の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材の製造方法は、加熱した化学強化用の硝酸カリウムを含む熔融塩にガラス基板を浸漬することにより、前記ガラス基板のイオンを前記熔融塩のカリウムイオンでイオン交換して前記ガラス基板を化学強化する工程と、前記化学強化により前記ガラス基板の主表面に形成されたカリウムイオン濃度が５０００ｐｐｍを超えるイオン交換層を除去する工程と、を具備し、前記化学強化後のガラス基板の主表面をエッチングすることにより前記イオン交換層を除去することを特徴とする。
Claims (12)
- 化学強化による圧縮応力層を有する主表面を持ち、携帯端末装置の表示画面の保護に用いられる携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材であって、前記主表面がエッチングによる溶解面であり、当該主表面においてカリウムイオンが５０００ｐｐｍ以下の濃度で含まれる前記圧縮応力層を有することを特徴とする携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材。
- 化学強化による圧縮応力層を有する主表面を持ち、携帯端末装置の表示画面の保護に用いられる携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材であって、主表面においてカリウムイオンが５０００ｐｐｍ以下の濃度で含まれる前記圧縮応力層を有することを特徴とする携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材。
- カリウムイオン濃度が５０００ｐｐｍを超えるイオン交換層がエッチングによって除去されて前記主表面が形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材。
- 前記化学強化は、低温化学強化であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材。
- 前記ガラス基材がダウンドロー法により成型された熔解ガラスで構成されていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材。
- 前記ガラス基材は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｌｉ２Ｏ及びＮａ２Ｏからなる群から選ばれた少なくとも一つを含有したアルミノシリケートガラスで構成されていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材。
- 前記ガラス基材は、ガラス組成物としてＫ２Ｏを実質的に含まないことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれかに記載の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材。
- 加熱した化学強化用の硝酸カリウムを含む熔融塩にガラス基板を浸漬することにより、前記ガラス基板のイオンを前記熔融塩のカリウムイオンでイオン交換して前記ガラス基板を化学強化する工程と、前記化学強化により前記ガラス基板の主表面に形成されたカリウムイオン濃度が５０００ｐｐｍを超えるイオン交換層を除去する工程と、を具備し、前記化学強化後のガラス基板の主表面をエッチングすることにより前記イオン交換層を除去することを特徴とする携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材の製造方法。
- 前記エッチングに用いる処理液が、フッ化水素酸、ヘキサフルオロケイ酸、及びバッファードフッ酸からなる群から選ばれた少なくとも一つを含有する溶液であることを特徴とする請求項８に記載の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材の製造方法。
- 前記化学強化は、硝酸カリウムを含む熔融塩を用いて前記ガラス基板のガラス点移転以下の温度で行われることを特徴とする請求項８又は請求項９に記載の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材の製造方法。
- 前記ガラス基板を化学強化する工程において、前記ガラス基板のイオンを前記熔融塩のイオンでイオン交換して前記ガラス基板の主表面にカリウムイオン濃度が５０００ｐｐｍを超えるイオン交換層を形成し、前記イオン交換層を除去する工程において、前記イオン交換層を除去して主表面おいてカリウムイオンが５０００ｐｐｍ以下の濃度で含まれる圧縮応力層を形成することを特徴とする請求項８から請求項１０のいずれかに記載の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材の製造方法。
- 前記ガラス基板は、ダウンドロー法により成型された板状のガラス基板であることを特徴とする請求項８から請求項１１のいずれかに記載の携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材の製造方法。
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