JP5701703B2 - 携帯機器用カバーガラスの製造方法 - Google Patents
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- 239000006059 cover glass Substances 0.000 title claims description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 29
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 80
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 77
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 61
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 56
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 51
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 44
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 17
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 10
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 5
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 4
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
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- 板状ガラスから、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含む、携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、
前記板状ガラスの両主表面上に形成されているネガ型のレジスト材に対して前記ガラス基板に対応する領域を露光するマスクパターンを有するフォトマスクを用いて、該板状ガラスの主表面の縁部を遮光して把持した状態で該板状ガラスの両主表面側から露光するための露光工程と、
前記露光工程後の板状ガラスを現像してレジストパターンを形成する現像工程と、
前記現像工程によって前記板状ガラスの主表面が露出した縁部に対して、エッチング工程にて使用されるエッチャントに対する耐薬品性を有する皮膜を形成する工程と、
前記現像工程によって、板状ガラスの主表面が露出した領域をエッチングすることにより該板状ガラスから前記ガラス基板を抜き出すエッチング工程と、
を含むことを特徴とする携帯機器用カバーガラスの製造方法。 - 板状ガラスから、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板をエッチングにより抜き出すエッチング工程を含む、携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、
前記板状ガラスの主表面の縁部を遮光して把持した状態で両主表面上にネガ型またはポジ型のレジスト材をコーティングするコーティング工程と、
前記板状ガラスの両主表面上において前記ガラス基板に対応する領域を露光するマスクパターンを有するフォトマスクを用いて、該板状ガラスの両主表面側から前記レジスト材を露光するための露光工程と、
前記露光工程後の板状ガラスを現像してレジストパターンを形成する現像工程と、
前記現像工程によって前記板状ガラスの主表面が露出した縁部に対して、エッチング工程にて使用されるエッチャントに対する耐薬品性を有する皮膜を形成する工程と、
前記現像工程によって、板状ガラスの主表面が露出した領域をエッチングすることにより該板状ガラスから前記ガラス基板を抜き出すエッチング工程と、
を含むことを特徴とする携帯機器用カバーガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011147667A JP5701703B2 (ja) | 2011-07-01 | 2011-07-01 | 携帯機器用カバーガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011147667A JP5701703B2 (ja) | 2011-07-01 | 2011-07-01 | 携帯機器用カバーガラスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013014461A JP2013014461A (ja) | 2013-01-24 |
JP5701703B2 true JP5701703B2 (ja) | 2015-04-15 |
Family
ID=47687519
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011147667A Expired - Fee Related JP5701703B2 (ja) | 2011-07-01 | 2011-07-01 | 携帯機器用カバーガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5701703B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6279267B2 (ja) * | 2013-09-25 | 2018-02-14 | Hoya株式会社 | 電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法および製造装置 |
CN115745415A (zh) * | 2022-10-31 | 2023-03-07 | 信利光电股份有限公司 | 一种防眩光盖板的制作方法、防眩光盖板及显示模组 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101903301B (zh) * | 2007-12-18 | 2012-12-19 | Hoya株式会社 | 便携式终端用防护玻璃及其制造方法、以及便携式终端装置 |
JP2009208983A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Hoya Corp | ガラス基材及びその製造方法 |
JP2009227523A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Hoya Corp | ガラス基材及びその製造方法 |
JP5074978B2 (ja) * | 2008-03-27 | 2012-11-14 | Hoya株式会社 | 携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法 |
JP2010168270A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-08-05 | Hoya Corp | ガラス基材及びその製造方法 |
-
2011
- 2011-07-01 JP JP2011147667A patent/JP5701703B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013014461A (ja) | 2013-01-24 |
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