JP2010537868A5 - - Google Patents

Claims (3)

1. 加工用成形型を形成する方法であって、
   少なくとも第１の構造化表面を有する基材を、チャンバ内の電極の近くに配置する工程と、
   前記電極に電力を供給してプラズマを発生させる工程と、
   式Ｉの液体シリコーン分子の蒸気を前記プラズマに導入する工程であって、
   前記式Ｉは、
   

   

   であり、
   式中、Ｒ ^ａ は独立して、Ｈ、ＯＨ、アルキル、アリール、又はアルコキシであり、かつ
   ｎは３〜３０００の整数である、工程と、
   シリコーン含有ポリマーを含む剥離層を堆積させる工程であって、前記剥離層を前記基材の前記第１の構造化表面の少なくとも一部分上に堆積し、前記加工用成形型を形成する、工程と、を含む方法。
2. 成形物品を形成する方法であって、
   少なくとも第１の構造化表面を有する未処理の加工用成形型を、チャンバ内の電極の近くに配置する工程と、
   前記電極に電力を供給してプラズマを発生させる工程と、
   式Ｉの液体シリコーン分子の蒸気を前記プラズマに導入する工程であって、
   前記式Ｉは、
   

   

   であり、
   式中、Ｒ ^ａ は独立して、Ｈ、ＯＨ、アルキル、アリール、又はアルコキシであり、かつ
   ｎは３〜３０００の整数である、工程と、
   シリコーン含有ポリマーを含む剥離層を堆積させる工程であって、前記剥離層を前記第１の構造化表面の少なくとも一部分上に堆積して、前記加工用成形型を形成する、工程と、
   第３世代の前駆体を前記加工用成形型の前記第１の表面の少なくとも一部分と接触させて、前記加工用成形型の前記第１の構造化表面の反転である成形物品を形成する工程と、を含む方法。
3. 成形物品を連続して形成する方法であって、
   少なくとも第１の構造化表面を有する未処理の加工用成形型を、チャンバ内の電極の近くに配置する工程と、
   前記電極に電力を供給してプラズマを発生させる工程と、
   式Ｉの液体シリコーン分子の蒸気を前記プラズマに導入する工程であって、
   前記式Ｉは、
   

   

   であり、
   式中、Ｒ ^ａ は独立して、Ｈ、ＯＨ、アルキル、アリール、又はアルコキシであり、かつ
   ｎは３〜３０００の整数である、工程と、
   シリコーン含有ポリマーを含む剥離層を堆積させる工程であって、
   前記剥離層を前記第１の構造化表面の少なくとも一部分上に堆積して、前記加工用成形型を形成する、工程と、
   前記加工用成形型を備える連続ツールを形成する工程と、
   第３世代の前駆体を前記加工用成形型の前記第１の表面の少なくとも一部分と連続して接触させて、前記加工用成形型の前記第１の構造化表面の反転である成形物品を形成する工程と、を含む方法。