JP5161310B2 - 成形型を形成する方法及び前記成形型を使用して物品を形成する方法 - Google Patents
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Description
式中、Raは独立して、H、OH、アルキル、アリール、又はアルコキシであり、Xは、H、アルキル、−Si(Ra)3、−Si(Ra)2−Yであるか、又はX及びYは共に単結合を形成するかし、Yは、H、−OH、Cl、F、Br、I、−NH2、アリール、−OSi(Ra)3であるか、又はX並びにYは共に単結合を形成するかし、かつnは、3〜13,000の整数である。X及びYが共に単結合を形成する一実施形態では、分子は、実際には環状である。
式中、Raは独立して、H、OH、アルキル、アリール、又はアルコキシであり、かつnは、1〜13,000の整数である。一般に、式IIの化合物は、一般的に、「シリコーンオイル」と称される。液体シリコーンオリゴマーが式IIである一実施形態では、nは、3〜3000の整数であってよい。式IIは、式Iの一部である。
式中、nは、3〜3000の整数である。式IIIの一例示的な化合物には、ポリジメチルシロキサンが挙げられる。一般的に利用されるポリジメチルシロキサンは、一般に、約1〜約100の分子量を有する。式IIIは、式I及び式IIの一部である。
特に言及されない限り、全ての化学物質は、アルドリッチ(Aldrich)から入手され、更に精製することなく使用された。
BEFフィルム(約13×18cm(5×7インチ))は、気体アルゴンを用いて、250立法センチメートル/分(SCCM)の流量、3.3Pa(25ミリトール)の圧力、及び1000ワットのRF電力で20秒間下塗りされた。上述されるように、DMS(2mL)は、アルゴンプラズマに気化され、プラズマは、約30秒間維持された。剥離層の厚さは、約200nmであると上述されるように断定された。いったんコーティングされると、加工用成形型は、エタノールで洗浄され(表面上に存在するいかなる残留シリコーンオイルも除去するために)、圧縮空気で乾燥され、次いでテフロン(登録商標)テープ(3M#5490)を使用してAlプレート上に取り付けられた。成形物品を形成するために、0.6%の3M(商標)ノベック(Novec)(商標)FC4430フッ素系界面活性剤と共に樹脂1が使用された。成形物品を形成する際の容易な剥離、及び成形物品の優れた忠実度が観測された。
実施例2の加工用成形型は、BEFフィルムであり、実施例3の加工用成形型は、ポリイミド加工用成形型であった。ポリイミド加工用成形型は、構造化ポリイミドであり、これは、127マイクロメートル(5ミル)ポリイミドHフィルム(デュポン(DuPont)、デラウェア州ウィルミントン(Wilmington))を使用して、反転である円錐のパターンを有するように、エキシマーレーザー切断によって切断された。円錐は、約60°の角度、約40マイクロメートルの直径、及び約35マイクロメートルの高さを有した。成形型は、気体アルゴンを用いて、250立法センチメートル/分(SCCM)の流量、3.3Pa(25ミリトール)の圧力、及び600ワットのRF電力で10秒間下塗りされた。上述されるように、DMS(2mL)は、気化され、流量が200SCCMの酸素が、プラズマに導入され、剥離層は、約30秒間コーティングされた。チャンバ内の圧力は、7.3Pa(55ミリトール)であり、RF電力は、600ワットに設定された。剥離層の厚さは、約200nmであると上述されるように断定された。
BEF加工用成形型(実施例6)及びポリイミド加工用成形型(実施例7)(両方とも約13×18cm(5×7インチ))は、2つの層状コーティングを形成するために、DMS−T11及びテトラメチルシラン(TMS)を使用して、次の条件下でプラズマコーティングされた。成形型は、気体アルゴンを用いて、250立法センチメートル/分(SCCM)の流量、3.3Pa(25ミリトール)の圧力、及び600ワットのRF電力で10秒間下塗りされた。第1の層は、約130SCCMのTMSの流量で、2mLのDMSを上述されるように気化し、約30秒間コーティングすることによって形成された。第2の層は、テトラメチルシラン(TMS)を130SCCMの流量で、600ワットで10秒間導入することによって形成された。シリコーン/TMS層の厚さは、約200nmであり、TMS最上層の厚さは、約30nmであった。
加工用成形型を形成するために、直径が約100マイクロメートル、及び高さが約25マイクロメートルの六角形に密集した凸状構造を有するニッケル(Ni)マスター成形型が利用された。樹脂1は、127マイクロメートル(5ミル)PET裏材に塗布され、Niマスター成形型に対してUV硬化された。Ni成形型から引き剥がした後、加工用成形型が形成された。加工用成形型は、直径が約100マイクロメートル、及び高さが約25マイクロメートルの六角形に密集した凸状構造を有した。
本実施例では、加工用成形型として、BEFフィルム(90度のプリズム角度、及び24マイクロメートルピッチ)と類似するダイヤモンド旋削(DT)パターンを有する5×5cm(2×2インチ)のCuクーポンが利用された。加工用成形型は、気体アルゴンを用いて、250立法センチメートル/分(SCCM)の流量、3.3Pa(25ミリトール)の圧力、及び1000ワットのRF電力で10秒間下塗りされた。上述されるように、DMS(2mL)は、気化され、流量が100SCCMの酸素が、プラズマに導入され、剥離層は、約30秒間コーティングされた。いったんコーティングされると、加工用成形型は、エタノールで洗浄され(表面上に存在するいかなる残留シリコーンオイルも除去するために)、圧縮空気で乾燥された。
Claims (3)
- 成形物品を形成する方法であって、
第1世代の前駆体を使用することによって形成されたマスター成形型から作られ、第2世代の前駆体を使用することによって形成された、少なくとも第1の構造化表面を有する未処理の加工用成形型を用意する工程と、
前記未処理の加工用成形型を、チャンバ内の電極の近くに配置する工程と、
前記電極に電力を供給してプラズマを発生させる工程と、
式Iの液体シリコーン分子の蒸気を前記プラズマに導入する工程であって、
前記式Iは、
式中、Raは独立して、H、OH、アルキル、アリール、又はアルコキシであり、かつ
nは3〜3000の整数である、工程と、
シリコーン含有ポリマーを含む剥離層を堆積させる工程であって、前記剥離層を前記第1の構造化表面の少なくとも一部分上に堆積して、前記加工用成形型を形成する、工程と、
第3世代の前駆体を前記加工用成形型の前記第1の表面の少なくとも一部分と接触させて、前記加工用成形型の前記第1の構造化表面の反転である成形物品を形成する工程と、を含む方法。 - 成形物品を連続して形成する方法であって、
第1世代の前駆体を使用することによって形成されたマスター成形型から作られ、第2世代の前駆体を使用することによって形成された、少なくとも第1の構造化表面を有する未処理の加工用成形型を用意する工程と、
前記未処理の加工用成形型を、チャンバ内の電極の近くに配置する工程と、
前記電極に電力を供給してプラズマを発生させる工程と、
式Iの液体シリコーン分子の蒸気を前記プラズマに導入する工程であって、
前記式Iは、
式中、Raは独立して、H、OH、アルキル、アリール、又はアルコキシであり、かつ
nは3〜3000の整数である、工程と、
シリコーン含有ポリマーを含む剥離層を堆積させる工程であって、
前記剥離層を前記第1の構造化表面の少なくとも一部分上に堆積して、前記加工用成形型を形成する、工程と、
段階的に連続するプロセスまたは実質的に連続するプロセスを使用することによって成形物品を作り出し、前記加工用成形型を備える連続ツールを形成する工程と、
第3世代の前駆体を前記加工用成形型の前記第1の表面の少なくとも一部分と連続して接触させて、前記加工用成形型の前記第1の構造化表面の反転である前記成形物品を形成する工程と、を含む方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US96763207P | 2007-09-06 | 2007-09-06 | |
US60/967,632 | 2007-09-06 | ||
PCT/US2008/075412 WO2009033029A1 (en) | 2007-09-06 | 2008-09-05 | Methods of forming molds and methods of forming articles using said molds |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010537868A JP2010537868A (ja) | 2010-12-09 |
JP2010537868A5 JP2010537868A5 (ja) | 2011-10-20 |
JP5161310B2 true JP5161310B2 (ja) | 2013-03-13 |
Family
ID=39929815
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010524179A Pending JP2010537867A (ja) | 2007-09-06 | 2008-09-05 | 型を形成する方法及びかかる型を使用して物品を成形する方法 |
JP2010524186A Expired - Fee Related JP5161310B2 (ja) | 2007-09-06 | 2008-09-05 | 成形型を形成する方法及び前記成形型を使用して物品を形成する方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010524179A Pending JP2010537867A (ja) | 2007-09-06 | 2008-09-05 | 型を形成する方法及びかかる型を使用して物品を成形する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9102083B2 (ja) |
EP (2) | EP2197645B1 (ja) |
JP (2) | JP2010537867A (ja) |
CN (2) | CN101795838B (ja) |
AT (1) | ATE534500T1 (ja) |
WO (2) | WO2009033029A1 (ja) |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009033029A1 (en) | 2007-09-06 | 2009-03-12 | 3M Innovative Properties Company | Methods of forming molds and methods of forming articles using said molds |
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JP5951928B2 (ja) | 2007-09-06 | 2016-07-13 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光出力の領域制御を提供する光抽出構造体を有する光ガイド |
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JP5524856B2 (ja) | 2007-12-12 | 2014-06-18 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | エッジ明瞭性が向上した構造の製造方法 |
JP5801558B2 (ja) | 2008-02-26 | 2015-10-28 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多光子露光システム |
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TWM385715U (en) | 2009-12-14 | 2010-08-01 | Chunghwa Picture Tubes Ltd | Backlight module |
-
2008
- 2008-09-05 WO PCT/US2008/075412 patent/WO2009033029A1/en active Application Filing
- 2008-09-05 JP JP2010524179A patent/JP2010537867A/ja active Pending
- 2008-09-05 EP EP08799232.7A patent/EP2197645B1/en not_active Not-in-force
- 2008-09-05 JP JP2010524186A patent/JP5161310B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-09-05 WO PCT/US2008/075392 patent/WO2009033017A1/en active Application Filing
- 2008-09-05 CN CN200880106062.3A patent/CN101795838B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-09-05 EP EP08829215A patent/EP2197646B1/en not_active Not-in-force
- 2008-09-05 US US12/675,217 patent/US9102083B2/en active Active
- 2008-09-05 US US12/675,570 patent/US9440376B2/en active Active
- 2008-09-05 AT AT08829215T patent/ATE534500T1/de active
- 2008-09-05 CN CN2008801061043A patent/CN101795840B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010537868A (ja) | 2010-12-09 |
CN101795840A (zh) | 2010-08-04 |
EP2197646A1 (en) | 2010-06-23 |
CN101795838A (zh) | 2010-08-04 |
WO2009033017A1 (en) | 2009-03-12 |
WO2009033029A1 (en) | 2009-03-12 |
US9440376B2 (en) | 2016-09-13 |
CN101795838B (zh) | 2014-02-12 |
CN101795840B (zh) | 2013-08-07 |
US20100308509A1 (en) | 2010-12-09 |
EP2197645B1 (en) | 2014-10-22 |
JP2010537867A (ja) | 2010-12-09 |
EP2197646B1 (en) | 2011-11-23 |
EP2197645A1 (en) | 2010-06-23 |
ATE534500T1 (de) | 2011-12-15 |
US9102083B2 (en) | 2015-08-11 |
US20100239783A1 (en) | 2010-09-23 |
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Date | Code | Title | Description |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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