JP2011023714A5 - プラズマ成膜装置 - Google Patents

Claims (4)

1. 反応室を有するプラズマ成膜装置であって、
   前記反応室は、
   基板が載置される第１電極と、
   前記第１電極と対向し、高周波電力が供給される第２電極と、を有し、
   前記第２電極の前記第１電極と対向する面には、複数の凸部と複数の凹部とを有し、
   複数の前記凸部と複数の前記凹部とは、それぞれが１つずつ交互に設けられ、
   前記複数の凸部のそれぞれは第１のガス導入口を有し、
   前記複数の凹部のそれぞれは第２のガス導入口を有し、
   前記第１のガス導入口からは、窒化性ガス、酸化性ガス、または水素ガスが導入され、
   前記第２のガス導入口からは、シリコンまたはゲルマニウムを含むガスが導入され、
   前記第２電極に前記高周波電力を供給することで、前記第２の電極の複数の前記凸部と前記第１の電極との間で、プラズマは形成され、
   前記プラズマは、前記第２電極の複数の前記凹部では形成されず、
   前記基板上にはシリコンまたはゲルマニウムを含む膜が成膜されることを特徴とするプラズマ成膜装置。
2. 請求項１において、
   前記凹部の幅は１０ｍｍ以下であり、前記凹部の深さは１０ｍｍ以下であることを特徴とするプラズマ成膜装置。
3. 請求項１または請求項２において、
   前記第２電極の前記凸部は前記第１電極に近づくにつれ断面積が小さくなることを特徴とするプラズマ成膜装置。
4. 請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
   前記第２電極の前記凸部の頂部または稜は、丸まっていることを特徴とするプラズマ成膜装置。