JP5331389B2

JP5331389B2 - 表示装置の作製方法

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Publication number: JP5331389B2
Application number: JP2008151264A
Authority: JP
Inventors: 舜平山崎; 充弘一條; 哲弘田中; 高志大槻; 清治保本; 健一岡崎
Original assignee: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Current assignee: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority date: 2007-06-15
Filing date: 2008-06-10
Publication date: 2013-10-30
Anticipated expiration: 2028-06-10
Also published as: US20080308807A1; JP2009021571A; US8300168B2

Description

本発明は、少なくとも画素部に薄膜トランジスタを用いた表示装置に関する。

近年、絶縁表面を有する基板上に形成された半導体薄膜（厚さ数十〜数百ｎｍ程度）をチャネル形成領域に用いて薄膜トランジスタを構成する技術が注目されている。薄膜トランジスタはＩＣや電気光学装置のような電子デバイスに広く応用され、特に画像表示装置のスイッチング素子として開発が急がれている。

画像表示装置のスイッチング素子として、非晶質半導体膜をチャネル形成領域に用いた薄膜トランジスタ、または多結晶半導体膜をチャネル形成領域に用いた薄膜トランジスタ等が用いられている。

また、画像表示装置のスイッチング素子として、微結晶半導体膜をチャネル形成領域に用いた薄膜トランジスタが用いられている（特許文献１及び２）。
特開平４−２４２７２４号公報特開２００５−４９８３２号公報

多結晶半導体膜をチャネル形成領域に用いた薄膜トランジスタは、非晶質半導体膜をチャネル形成領域に用いた薄膜トランジスタに比べて移動度が２桁以上高く、半導体表示装置の画素部とその周辺の駆動回路を同一基板上に一体形成できるという利点を有している。しかしながら、非晶質半導体膜をチャネル形成領域に用いた場合に比べて、半導体膜の結晶化のために工程が複雑化するため、その分歩留まりが低減し、コストが高まるという問題がある。

また、半導体の結晶粒の表面は、酸化されやすいという問題がある。このため、チャネル形成領域の結晶粒が酸化されると、結晶粒の表面に酸化膜が形成されてしまい、当該酸化膜がキャリアの移動の障害となり、薄膜トランジスタの特性が低下するという問題がある。

上述した問題に鑑み、本発明は、薄膜トランジスタの特性を低減することなく、量産性が可能な表示装置及びその作製方法を提案することを課題とする。

微結晶半導体膜（セミアモルファス半導体膜ともいう。）と、微結晶半導体膜に接するゲート絶縁膜と、ゲート電極とが重畳する薄膜トランジスタを備えた表示装置において、微結晶半導体膜の表面に酸化防止膜が形成されていることを特徴とする。

酸化防止膜としては、非晶質半導体膜があり、更には、窒素、水素、またはハロゲンのいずれか一つ以上を含む非晶質半導体膜であることが好ましい。非晶質半導体膜に、窒素、水素、またはハロゲンのいずれか一つを含むことで、微結晶半導体膜に含まれる結晶粒が酸化されることを低減することが可能である。

酸化防止膜は、プラズマＣＶＤ法、スパッタリング法等で形成することができる。また、非晶質半導体膜を形成した後、非晶質半導体膜の表面を窒素プラズマ、水素プラズマ、またはハロゲンプラズマで処理して非晶質半導体膜の表面を窒素化、水素化またはハロゲン化することができる。

微結晶半導体膜は、多結晶半導体膜と異なり、微結晶半導体膜として直接基板上に成膜することができる。具体的には、水素化珪素又はハロゲン化珪素を原料ガスとし、周波数が１ＧＨｚ以上のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置を用いて成膜することができる。また、１ＭＨｚから２０ＭＨｚ、代表的には１３．５６ＭＨｚの高周波、または２０ＭＨｚより大きく１２０ＭＨｚ程度までのＶＨＦ帯の高周波、代表的には２７．１２ＭＨｚ、６０ＭＨｚを用いたプラズマＣＶＤ法により、微結晶半導体膜を形成することができる。上記方法を用いて作製された微結晶半導体膜は、０．５ｎｍ〜２０ｎｍの結晶粒を非晶質半導体中に含む微結晶半導体膜も含んでいる。よって、多結晶半導体膜を用いる場合と異なり、半導体膜の成膜後に結晶化の工程を設ける必要がない。薄膜トランジスタの作製における工程数を削減することができ、表示装置の歩留まりを高め、コストを抑えることができる。また、周波数が１ＧＨｚ以上のマイクロ波を用いたプラズマは電子密度が高く、原料ガスである水素化珪素の解離が容易となる。このため、周波数が数十ＭＨｚ〜数百ＭＨｚのマイクロ波プラズマＣＶＤ装置と比較して、周波数が１ＧＨｚ以上のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置を用いることによって微結晶半導体膜を容易に作製することが可能であり、成膜速度を高めることが可能である。このため、表示装置の量産性を高めることが可能である。

また、本発明の一は、基板側にガスを噴出するノズルを有する第１のガス管と、基板と反対側にガスを噴出するノズルを有する第２のガス管とが格子状に交差して設けられているプラズマＣＶＤ装置において、第１のガス管に、水素化珪素と、一酸化二窒素とを供給し、第２のガス管に、希ガスを供給して、酸化窒化珪素膜を形成し、酸化窒化珪素膜を用いて薄膜トランジスタを形成する表示装置の作製方法である。

なお、第２のガス管に、酸素を供給してもよい。また、第２のガス管に水素を供給してもよい。

基板側にガスを供給するガス管に一酸化二窒素を導入することで、プラズマの着火を容易とすることが可能である。また、プラズマＣＶＤ装置の処理容器内に導入するアルゴンの量を削減することが可能であり、コスト削減と共に、原料ガスの導入量を増やせることが可能であるため、成膜速度を上昇させることができる。

また、微結晶半導体膜を用い、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を作製し、該薄膜トランジスタを画素部、さらには駆動回路に用いて表示装置を作製する。微結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタは、その移動度が２〜１０ｃｍ^２／Ｖ・ｓｅｃと、非晶質半導体膜を用いた薄膜トランジスタの２〜２０倍の移動度を有しているので、駆動回路の一部または全体を、画素部と同じ基板上に一体形成し、システムオンパネルを形成することができる。

また、表示装置としては、発光装置や液晶表示装置を含む。発光装置は発光素子を含み、液晶表示装置は液晶素子を含む。発光素子は、電流または電圧によって輝度が制御される素子をその範疇に含んでおり、具体的には無機ＥＬ（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）、有機ＥＬ、またはＦＥＤ（ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）に用いられている電子源素子（電子放出素子）等が含まれる。

また、表示装置は、表示素子が封止された状態にあるパネルと、該パネルにコントローラを含むＩＣ等を実装した状態にあるモジュールとを含む。さらに本発明は、該発光装置を作製する過程における、表示素子が完成する前の一形態に相当する素子基板に関し、該素子基板は、電流を発光素子に供給するための手段を複数の各画素に備える。素子基板は、具体的には、表示素子の画素電極のみが形成された状態であっても良いし、画素電極となる導電膜を成膜した後であって、エッチングして画素電極を形成する前の状態であっても良いし、あらゆる形態があてはまる。

なお、本明細書中における表示装置とは、画像表示デバイス、発光デバイス、もしくは光源（照明装置含む）を指す。また、コネクター、例えばＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅｐｒｉｎｔｅｄｃｉｒｃｕｉｔ）もしくはＴＡＢ（ＴａｐｅＡｕｔｏｍａｔｅｄＢｏｎｄｉｎｇ）テープもしくはＴＣＰ（ＴａｐｅＣａｒｒｉｅｒＰａｃｋａｇｅ）が取り付けられたモジュール、ＴＡＢテープやＴＣＰの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または表示素子にＣＯＧ（ＣｈｉｐＯｎＧｌａｓｓ）方式によりＩＣ（集積回路）が直接実装されたモジュールも全て表示装置に含むものとする。

本発明は、微結晶半導体膜の表面に酸化防止膜を形成するため、微結晶粒の表面が酸化することを低減することが可能であるため、薄膜トランジスタの移動度の低下を防止することができる。

また、周波数が１ＧＨｚ以上のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置を用いることで微結晶半導体膜の成膜速度を向上させることが可能であり、当該微結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタの表示装置の量産性を高めることができる。

また、成膜後における半導体膜の結晶化の工程を削減することができ、薄膜トランジスタの工程を複雑化させることなく、表示装置のシステムオンパネル化を実現することができる。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。

（実施の形態１）
本発明の表示装置の作製方法について説明する。はじめに、表示装置の一形態とし液晶表示装置を用いて説明する。図１乃至図３に、駆動回路に用いられる薄膜トランジスタの断面図と、画素部に用いられる薄膜トランジスタの断面図を示す。なお、微結晶半導体膜を有する薄膜トランジスタはｐ型よりもｎ型の方が、移動度が高いので駆動回路に用いるのにより適しているが、本発明では、薄膜トランジスタはｎ型であってもｐ型であってもどちらでも良い。いずれの極性の薄膜トランジスタを用いる場合でも、同一の基板上に形成する薄膜トランジスタを全て同じ極性にそろえておくことが、工程数を抑えるためにも望ましい。

図１（Ａ）に示すように、基板５０上にゲート電極５１、５２を形成する。基板５０は、バリウムホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、若しくはアルミノシリケートガラスなど、フュージョン法やフロート法で作製される無アルカリガラス基板、セラミック基板の他、本作製工程の処理温度に耐えうる耐熱性を有するプラスチック基板等を用いることができる。また、ステンレス合金などの金属基板の表面に絶縁膜を設けた基板を適用しても良い。基板５０の大きさは、３２０ｍｍ×４００ｍｍ、３７０ｍｍ×４７０ｍｍ、５５０ｍｍ×６５０ｍｍ、６００ｍｍ×７２０ｍｍ、６８０ｍｍ×８８０ｍｍ、７３０ｍｍ×９２０ｍｍ、１０００ｍｍ×１２００ｍｍ、１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ、１１５０ｍｍ×１３００ｍｍ、１５００ｍｍ×１８００ｍｍ、１９００ｍｍ×２２００ｍｍ、２１６０ｍｍ×２４６０ｍｍ、２４００ｍｍ×２８００ｍｍ、又は２８５０ｍｍ×３０５０ｍｍ等を用いることができる。

ゲート電極５１、５２は、チタン、モリブデン、クロム、タンタル、タングステン、アルミニウムなどの金属材料またはその合金材料を用いて形成する。ゲート電極５１、５２は、スパッタリング法や真空蒸着法で基板５０上に導電膜を形成し、当該導電膜上にフォトリソグラフィ技術またはインクジェット法によりマスクを形成し、当該マスクを用いて導電膜をエッチングすることで、形成することができる。また、銀、金、銅などの導電性ナノペーストを用いてインクジェット法により吐出し焼成して、ゲート電極５１、５２を形成することができる。なお、ゲート電極５１、５２の密着性向上のために、上記金属材料の窒化物膜を、基板５０及びゲート電極５１、５２の間に設けてもよい。

なお、ゲート電極５１、５２上には、絶縁膜や半導体膜や配線を形成するので、段切れ防止のため端部がテーパー状になるように加工することが望ましい。また、図示しないがこの工程でゲート電極に接続する配線も同時に形成することができる。

次に、ゲート電極５１、５２上に、ゲート絶縁膜５３、微結晶半導体膜５４、酸化防止膜５５、及び一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜５６を順に形成する。なお、少なくとも、ゲート絶縁膜５３、微結晶半導体膜５４、及び酸化防止膜５５を連続的に形成することが好ましい。さらには、ゲート絶縁膜５３、微結晶半導体膜５４、酸化防止膜５５、及び一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜５６を連続的に形成することが好ましい。少なくとも、ゲート絶縁膜５３及び微結晶半導体膜５４を大気に触れさせることなく連続成膜することで、大気成分や大気中に浮遊する汚染不純物元素に汚染されることなく各積層界面を形成することができるので、薄膜トランジスタ特性のばらつきを低減することができる。また、微結晶半導体膜５４及び酸化防止膜５５を大気に触れさせることなく連続成膜することで、微結晶半導体膜の結晶粒の酸化を防止することができる。

ゲート絶縁膜５３は、ＣＶＤ法やスパッタリング法等を用いて、酸化珪素膜、窒化珪素膜、酸化窒化珪素膜、または窒化酸化珪素膜の単層若しくは積層で形成することができる。また、基板側から酸化珪素膜または酸化窒化珪素膜と、窒化珪素膜または窒化酸化珪素膜との順に積層して形成することができる。また、基板側から窒化珪素膜または窒化酸化珪素膜と、酸化珪素膜または酸化窒化珪素膜と、窒化珪素膜または窒化酸化珪素膜との順に積層して形成することができる。更には、周波数が１ＧＨｚ以上のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置を用いてゲート絶縁膜５３を形成することが好ましい。マイクロ波プラズマＣＶＤ装置で形成した酸化窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜は、耐圧が高く、後に形成される薄膜トランジスタの信頼性を高めることができる。

ここでは、酸化窒化珪素膜とは、その組成として、窒素よりも酸素の含有量が多いものであって、ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ：ＲｕｔｈｅｒｆｏｒｄＢａｃｋｓｃａｔｔｅｒｉｎｇＳｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）及び水素前方散乱法（ＨＦＳ：ＨｙｄｒｏｇｅｎＦｏｒｗａｒｄＳｃａｔｔｅｒｉｎｇ）を用いて測定した場合に、濃度範囲として酸素が５０〜７０原子％、窒素が０．５〜１５原子％、珪素が２５〜３５原子％、水素が０．１〜１０原子％の範囲で含まれるものをいう。また、窒化酸化珪素膜とは、その組成として、酸素よりも窒素の含有量が多いものであって、ＲＢＳ及びＨＦＳを用いて測定した場合に、濃度範囲として酸素が５〜３０原子％、窒素が２０〜５５原子％、珪素が２５〜３５原子％、水素が１０〜３０原子％の範囲で含まれるものをいう。但し、酸化窒化珪素または窒化酸化珪素を構成する原子の合計を１００原子％としたとき、窒素、酸素、珪素及び水素の含有比率が上記の範囲内に含まれるものとする。

微結晶半導体膜５４は、非晶質と結晶構造（単結晶、多結晶を含む）の中間的な構造の半導体を含む膜である。この半導体は、自由エネルギー的に安定な第３の状態を有する半導体であって、短距離秩序を持ち格子歪みを有する結晶質なものであり、その粒径を０．５〜２０ｎｍとして非単結晶半導体中に分散させて存在せしめることが可能である。また、未結合手（ダングリングボンド）を終端するため水素またはハロゲンを少なくとも１原子％またはそれ以上含ませている。さらに、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、ネオンなどの希ガス元素を含ませて格子歪みをさらに助長させることで、安定性が増し良好な微結晶半導体膜が得られる。このような微結晶半導体膜に関する記述は、例えば、米国特許４，４０９，１３４号で開示されている。

この微結晶半導体膜は５４、周波数が１ＧＨｚ以上のマイクロ波ＣＶＤ装置により形成することができる。代表的には、ＳｉＨ_４、Ｓｉ_２Ｈ_６などの水素化珪素やＳｉＨ_２Ｃｌ_２、ＳｉＨＣｌ_３、ＳｉＣｌ_４、ＳｉＦ_４などのハロゲン化珪素を用いて形成することができる。また、水素化珪素又はハロゲン化珪素に、水素やヘリウム、アルゴン、クリプトン、ネオンから選ばれた一種または複数種の希ガス元素で希釈して微結晶半導体膜を形成することができる。

微結晶半導体膜５４は、１ｎｍ以上３００ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下で形成する。

また、水素化珪素やハロゲン化珪素中に、ＣＨ_４、Ｃ_２Ｈ_６などの炭化物気体、ＧｅＨ_４、ＧｅＦ_４などのゲルマニウム化気体を混入させて、エネルギーバンド幅を１．５〜２．４ｅＶ、若しくは０．９〜１．１ｅＶに調節しても良い。

また、微結晶半導体膜は、価電子制御を目的とした不純物元素を意図的に添加しないときに弱いｎ型の電気伝導性を示すので、薄膜トランジスタのチャネル形成領域として機能する微結晶半導体膜に対しては、ｐ型を付与する不純物元素を、成膜と同時に、或いは成膜後に添加することで、しきい値制御をすることが可能となる。ｐ型を付与する不純物元素としては、代表的には硼素であり、Ｂ_２Ｈ_６、ＢＦ_３などの不純物気体を１ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍ、好ましくは１〜１００ｐｐｍの割合で水素化珪素又はハロゲン化珪素に混入させると良い。そしてボロンの濃度を、例えば１×１０^１４〜６×１０^１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３とすると良い。

また、微結晶半導体膜の酸素濃度を、５×１０^１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、１×１０^１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、窒素及び炭素の濃度それぞれを１×１０^１９ｃｍ^−３以下とすることが好ましい。酸素、窒素、及び炭素が微結晶半導体膜に混入する濃度を低減することで、微結晶半導体膜がｎ型化になることを防止することができる。

また、微結晶半導体膜を形成する前に、ゲート絶縁膜の表面を水素、窒素、ハロゲン、希ガスのいずれかのプラズマで処理して表面を凹凸状としてもよい。このようにすることで、ゲート絶縁膜と微結晶半導体膜との界面での格子歪を低減することが可能である。

酸化防止膜５５は、ＳｉＨ_４、Ｓｉ_２Ｈ_６等の水素化珪素、ＳｉＨ_２Ｃｌ_２、ＳｉＨＣｌ_３、ＳｉＣｌ_４、ＳｉＦ_４などのハロゲン化珪素を用いて、プラズマＣＶＤ法により形成することができる。また、酸化防止膜５５として、上記水素化珪素またはハロゲン化珪素に、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、ネオンから選ばれた一種または複数種の希ガス元素で希釈して非晶質半導体膜を形成することができる。また、上記水素化珪素またはハロゲン化珪素と水素と用いることで水素を含む非晶質半導体膜を形成することができる。また、上記水素化珪素またはハロゲン化珪素と窒素またはアンモニアとを用いることで、窒素を含む非晶質半導体膜を形成することができる。また、上記水素化珪素と、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を含む気体（Ｆ_２、Ｃｌ_２、Ｂｒ_２、Ｉ_２、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＩ等）を用いることで、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を含む非晶質半導体膜を形成することができる。

また、酸化防止膜５５は、ターゲットに非晶質半導体を用いて水素、または希ガスでスパッタリングして非晶質半導体膜を形成することができる。このとき、アンモニア、窒素、またはＮ_２Ｏを雰囲気中に含ませることにより、窒素を含む非晶質半導体膜を形成することができる。また、雰囲気中にフッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を含む気体（Ｆ_２、Ｃｌ_２、Ｂｒ_２、Ｉ_２、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＩ等）を含ませることにより、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を含む非晶質半導体膜を形成することができる。

また、酸化防止膜５５として、微結晶半導体膜５４の表面にプラズマＣＶＤ法またはスパッタリング法により非晶質半導体膜を形成した後、非晶質半導体膜を水素プラズマ、窒素プラズマ、またはハロゲンプラズマで処理して、非晶質半導体膜を水素化、窒素化、またはハロゲン化してもよい。

酸化防止膜５５は、結晶粒を含まない非晶質半導体膜で形成することが好ましい。このため、周波数が数十ＭＨｚ〜数百ＭＨｚの高周波プラズマＣＶＤ法、またはマイクロ波プラズマＣＶＤ法で形成する場合は、結晶粒を含まない非晶質半導体膜となるように、成膜条件を制御することが好ましい。

酸化防止膜５５は、後のソース領域及びドレイン領域の形成プロセスにおいて、一部エッチングされる場合があるが、そのときに、酸化防止膜５５の一部が残存する厚さで形成することが好ましい。代表的には、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ以上５０ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の厚さで形成する。

微結晶半導体膜５４の表面に、非晶質半導体膜、更には水素、窒素、またはハロゲンを含む非晶質半導体膜を形成することで、微結晶半導体膜５４に含まれる結晶粒の表面の自然酸化を防止することが可能である。特に、非晶質半導体と結晶粒が接する領域では、結晶格子の歪に由来し、亀裂が入りやすい。この亀裂が酸素に触れると結晶粒は酸化され、酸化珪素が形成される。しかしながら、微結晶半導体膜５４の表面に酸化防止膜を形成することで、結晶粒の酸化を防ぐことができる。

一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜５６は、ｎチャネル型の薄膜トランジスタを形成する場合には、代表的な不純物元素としてリンを添加すれば良く、水素化珪素またはハロゲン化珪素にＰＨ_３などの不純物気体を加えれば良い。また、ｐチャネル型の薄膜トランジスタを形成する場合には、代表的な不純物元素としてボロンを添加すれば良く、水素化珪素またはハロゲン化珪素にＢ_２Ｈ_６などの不純物気体を加えれば良い。一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜５６は、微結晶半導体膜体、または非晶質半導体で形成することができる。

ここで、ゲート絶縁膜５３から一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜５６を連続成膜ことが可能なマイクロ波プラズマＣＶＤ装置について、図１０を用いて示す。図１０はマイクロ波プラズマＣＶＤ装置の上断面を示す模式図であり、共通室１１２０の周りに、ロード室１１１０、アンロード室１１１５、反応室（１）〜反応室（４）１１１１〜１１１４を備えた構成となっている。共通室１１２０と各室の間にはゲートバルブ１１２２〜１１２７が備えられ、各室で行われる処理が、相互に干渉しないように構成されている。基板１１３０はロード室１１１０、アンロード室１１１５のカセット１１２８、１１２９に装填され、共通室１１２０の搬送手段１１２１により反応室（１）〜反応室（４）１１１１〜１１１４へ運ばれる。この装置では、堆積膜種ごとに反応室をあてがうことが可能であり、複数の異なる被膜を大気に触れさせることなく連続して形成することができる。

反応室（１）〜反応室（４）それぞれにおいて、ゲート絶縁膜５３、微結晶半導体膜５４、酸化防止膜５５、及び一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜５６を積層形成する。この場合は、原料ガスの切り替えにより異なる種類の膜を連続的に複数積層することができる。または、反応室（１）及び反応室（３）でゲート絶縁膜５３、微結晶半導体膜５４、及び酸化防止膜５５を形成し、反応室（２）及び反応室（４）で一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜５６を形成する。一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜５６のみ単独で成膜することにより、チャンバに残存する一導電型を付与する不純物が他の膜に混入することを防ぐことができる。

このように、複数のチャンバが接続されたマイクロ波プラズマＣＶＤ装置で、同時にゲート絶縁膜５３、微結晶半導体膜５４、酸化防止膜５５、及び一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜５６を成膜することができるため、量産性を高めることができる。また、ある反応室がメンテナンスやクリーニングを行っていても、残りの反応室において成膜処理が可能となり、成膜のタクトを向上させることができる。また、大気成分や大気中に浮遊する汚染不純物元素に汚染されることなく各積層界面を形成することができるので、薄膜トランジスタ特性のばらつきを低減することができる。

また、ゲート絶縁膜を酸化珪素膜または酸化窒化珪素膜と、窒化珪素膜または窒化酸化珪素膜との２層で形成する場合、反応室を５つ設け、反応室（１）で、ゲート絶縁膜の酸化珪素膜または酸化窒化珪素膜を形成し、反応室（２）で、ゲート絶縁膜の窒化珪素膜または窒化酸化珪素膜を形成し、反応室（３）で、微結晶半導体膜を形成し、反応室（４）で酸化防止膜を形成し、反応室（５）で、一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜を形成してもよい。このとき、各反応室の内壁を成膜する種類の膜でコーティングすることが好ましい。このような構成のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置を用いれば、各反応室で一種類の膜を成膜することが可能であり、且つ大気に曝すことなく連続して形成することができるため、前に成膜した膜の残留物や大気に浮遊する不純物元素に汚染されることなく、各積層界面を形成することができる。

さらには、マイクロ波発生装置と共に高周波発生装置を設け、ゲート絶縁膜、微結晶半導体膜、および一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜をマイクロ波プラズマＣＶＤ法で形成し、酸化防止膜を高周波プラズマＣＶＤ法で形成してもよい。

なお、図１０に示すマイクロ波プラズマＣＶＤ装置には、ロード室及びアンロード室が別々に設けられているが、一つとしロード／アンロード室とでもよい。また、マイクロ波プラズマＣＶＤ装置に予備室を設けてもよい。予備室で基板を予備加熱することで、各反応室において成膜までの加熱時間を短縮することが可能であるため、スループットを向上させることができる。

図１１はこのようなマイクロ波プラズマＣＶＤ装置の一つの反応室の構成を詳細に説明するものである。なお、ガス供給部１８２及びマイクロ波発生装置１８４は反応室の外に設けられる。

マイクロ波発生装置１８４は、周波数が１ＧＨｚ以上、好ましくは２．４５ＧＨｚ以上、より好ましくは８．３ＧＨｚ以上のマイクロ波を供給する。なお、本発明においては、マイクロ波発生装置１８４を複数有することで、安定な大面積のプラズマを生成することが可能である。このため、一辺が６００ｍｍを超える基板、特に一辺が１０００ｍｍを超える大面積基板においても、均一性の高い膜を成膜する事が可能であり、且つ成膜速度を高めることができる。

処理容器１８０は、密閉構造により内部を減圧に保持できる構成となっている。処理容器１８０及び天板１８７は、表面がアルミナ、酸化珪素、フッ素樹脂のいずれかの絶縁膜で覆われた金属、例えばアルミニウムを含む合金で形成される。また、取り付け具１８８は金属、例えばアルミニウムを含む合金で形成される。

反応室の内部を減圧にするために、排出口１８３を介して真空ポンプが処理容器１８０に接続される。真空ポンプは、低真空排気手段及び高真空排気手段を有する。低真空排気手段は、開閉バルブを動作させ、概ね大気圧から０．１Ｐａ程度までの真空排気を行うものであり、例えば、ドライポンプにより構成される。高真空排気手段は０．１Ｐａ以下の高真空排気を行うものであり、ターボ分子ポンプなどにより構成される。高真空排気手段と直列に連結される圧力調節バルブは、ガス流のコンダクタンスを調整するものであり、ガス供給部１８２から供給される反応ガスの排気速度を調整することにより、反応室内の圧力の所定の範囲に保つ動作をする。

処理容器１８０内部には、基板１１３０を配置するための支持台１８１が設けられる。支持台１８１は窒化アルミニウム、窒化珪素、シリコンカーバイトなどのセラミックス材で構成されている。支持台１８１の内部に温度制御部１９９を設けることによって、基板１１３０の温度を制御することも可能である。また、支持台１８１には、高周波電源に接続される給電部が設けられていてもよい。給電部を設けることで、支持台１８１に載置された基板にバイアス電圧を印加することができる。

処理容器１８０の上部には、マイクロ波発生装置１８４に連結された導波管１８５が設けられる。導波管１８５は、マイクロ波発生装置１８４で発生したマイクロ波を処理容器１８０に導入する。また、導波管１８５に接し且つ開口部１８７ａを有する天板１８７が設けられ、取り付け具１８８で天板１８７に設けられた複数の誘電体板１９６が設けられる。

誘電体板１９６は、天板１８７の開口部に密着するように設けられる。マイクロ波発生装置１８４で発生したマイクロ波が導波管１８５及び天板１８７の開口部を経て、誘電体板１９６に伝播し、誘電体板１９６を透過して処理容器内に放出される。処理容器内に放出されたマイクロ波の電界エネルギーにより、ガス供給部１８２から導入されたガスがプラズマ化する。当該プラズマ２００は、誘電体板１９６表面でより密度が高いため、基板１１３０へのダメージを低減することができる。また、誘電体板１９６を複数設けることで、均一な大面積のプラズマの発生及び維持が可能である。誘電体板１９６は、サファイア、石英ガラス、アルミナ、酸化珪素、窒化珪素等のセラミックスで形成される。なお、誘電体板１９６は、プラズマ２００発生側に窪みが形成されてもよい。当該窪みにより、安定したプラズマを生成することができる。誘電体板１９６を複数設けることで、一辺が６００ｍｍを超える基板、特に一辺が１０００ｍｍを超える大面積基板においても、均一性の高い膜を成膜する事が可能であり、且つ成膜速度を高めることができる。

誘電体板１９６側にガスを噴出するノズルを有するガス管１９７と、基板１１３０側にガスを噴出するノズルを有するガス管１９８が格子状に交差して設けられている。また、ガス管１９８から原料ガスを噴出することで、基板１１３０により近い位置で原料ガスを噴出することが可能であり、成膜速度を高めることが可能である。ガス管１９７、１９８は、アルミナ、窒化アルミニウム等のセラミックスで形成される。セラミックスはマイクロ波の透過率が高いため、ガス管１９７、１９８をセラミックスで形成することで、誘電体板１９６の直下にガス管を設けても、電界の乱れが生じずプラズマの分布を均一にすることができる。

ここで、処理容器１８０内にガスを供給するガス供給部１８２の詳細について、図１２を用いて説明する。

処理容器１８０内は、誘電体板１９６側にガスを供給するガス管１９７と、基板１１３０側にガスを供給するガス管１９８が設けられており、各々に供給するガスが分けられている。

基板１１３０側にガスを供給するガス管１９８には、シラン等の水素化珪素のガスライン２１１ｂ、アンモニアのガスライン２１２ｂ、窒素のガスライン２１３ｂ、アルゴンのガスライン２１４ｂ、一酸化二窒素のガスライン２１５ｂがそれぞれ、ガス管１９８の最終バルブ２１８に接続される。

水素化珪素のガスライン２１１ｂには、水素化珪素供給源２１１ａ、バルブ２１１ｃ、マスフロコントローラ２１１ｄ、バルブ２１１ｅが設けられる。バルブ２１１ｃ、２１１ｅが開放されることで、マスフロコントローラ２１１ｄによって流量が制御された水素化珪素ガスが最終バルブ２１８まで導入される。最終バルブ２１８が開放されることにより、水素化珪素ガスがガス管１９８に供給される。

アンモニアのガスライン２１２ｂには、アンモニア供給源２１２ａ、バルブ２１２ｃ、マスフロコントローラ２１２ｄ、バルブ２１２ｅが設けられる。バルブ２１２ｃ、２１２ｅが開放されることで、マスフロコントローラ２１２ｄによって流量が制御されたアンモニアガスが最終バルブ２１８まで導入される。最終バルブ２１８が開放されることにより、アンモニアガスがガス管１９８に供給される。

窒素のガスライン２１３ｂには、窒素供給源２１３ａ、バルブ２１３ｃ、マスフロコントローラ２１３ｄ、バルブ２１３ｅが設けられる。バルブ２１３ｃ、２１３ｅが開放されることで、マスフロコントローラ２１３ｄによって流量が制御された窒素ガスが最終バルブ２１８まで導入される。最終バルブ２１８が開放されることにより、窒素ガスがガス管１９８に供給される。

アルゴンのガスライン２１４ｂには、アルゴン供給源２１４ａ、バルブ２１４ｃ、マスフロコントローラ２１４ｄ、バルブ２１４ｅが設けられる。バルブ２１４ｃ、２１４ｅが開放されることで、マスフロコントローラ２１４ｄによって流量が制御されたアルゴンガスが最終バルブ２１８まで導入される。最終バルブ２１８が開放されることにより、アルゴンガスがガス管１９８に供給される。

一酸化二窒素のガスライン２１５ｂには、一酸化二窒素供給源２１５ａ、バルブ２１５ｃ、マスフロコントローラ２１５ｄ、バルブ２１５ｅが設けられる。バルブ２１５ｃ、２１５ｅが開放されることで、マスフロコントローラ２１５ｄによって流量が制御された一酸化二窒素ガスが最終バルブ２１８まで導入される。最終バルブ２１８が開放されることにより、一酸化二窒素供ガスがガス管１９８に供給される。

また、誘電体板１９６側にガスを供給するガス管１９７には、アルゴンのガスライン２１４ｆ、一酸化二窒素のガスライン２１５ｆ、酸素のガスライン２１６ｂがそれぞれ、ガス管１９７の最終バルブ２１７に接続される。

アルゴンのガスライン２１４ｆには、アルゴン供給源２１４ａ、バルブ２１４ｃ、マスフロコントローラ２１４ｇ、バルブ２１４ｈが設けられる。バルブ２１４ｃ、２１４ｈが開放されることで、マスフロコントローラ２１４ｇによって流量が制御されたアルゴンガスが最終バルブ２１７まで導入される。最終バルブ２１７が開放されることにより、アルゴンガスがガス管１９７に供給される。

一酸化二窒素のガスライン２１５ｆには、一酸化二窒素供給源２１５ａ、バルブ２１５ｃ、マスフロコントローラ２１５ｇ、バルブ２１５ｈが設けられる。バルブ２１５ｃ、２１５ｈが開放されることで、マスフロコントローラ２１５ｇによって流量が制御された一酸化二窒素ガスが最終バルブ２１７まで導入される。最終バルブ２１７が開放されることにより、一酸化二窒素ガスがガス管１９７に供給される。

酸素のガスライン２１６ｂには、酸素供給源２１６ａ、バルブ２１６ｃ、マスフロコントローラ２１６ｄ、バルブ２１６ｅが設けられる。バルブ２１６ｃ、２１６ｅが開放されることで、マスフロコントローラ２１６ｄによって流量が制御された酸素ガスが最終バルブ２１７まで導入される。最終バルブ２１７が開放されることにより、酸素ガスがガス管１９７に供給される。

なお、アルゴン供給源２１４ａはアルゴンのガスライン２１４ｂ及び２１４ｆに分岐され、それによってガス管１９７、１９８にガスが供給される。また、一酸化二窒素供給源２１５ａは一酸化二窒素のガスライン２１５ｂ及び２１５ｆに分岐され、それによってガス管１９７、１９８にガスが供給される。

基板側にガスを供給するガス管１９８側に水素化珪素、アンモニア、窒素、一酸化二窒素等の原料ガスを導入することで、成膜速度を高めることが可能である。また、一酸化二窒素を基板側にガスを供給するガス管１９８に導入することで、プラズマの着火を容易とすることが可能である。一酸化二窒素を誘電体板側に導入する場合、プラズマの着火を容易とするために、大量のアルゴンを処理容器内に導入する必要があったが、一酸化二窒素を基板側に導入することで、処理容器内に導入するアルゴンの量を削減することが可能であり、コスト削減と共に、原料ガスの導入量を増やせることが可能であるため、成膜速度を上昇させることができる。

以下に、成膜処理について説明する。これらの成膜処理は、その目的に応じて、ガス供給部１８２から供給するガスを選択すれば良い。

ここでは、ゲート絶縁膜として、酸化窒化珪素膜及び窒化酸化珪素膜の形成方法を一例としてあげる。

はじめに、マイクロ波プラズマＣＶＤ装置の反応室の内部を、フッ素ラジカルでクリーニングする。なお、フッ素ラジカルは、反応室の外側に設けられたプラズマ発生器に、フッ化炭素、フッ化窒素、またはフッ素を導入し、解離し、フッ素ラジカルを反応室に導入することで、反応室内をクリーニングすることができる。

フッ素ラジカルでクリーニングした後、反応室内部に水素を大量に導入することで、反応室内の残留フッ素と水素を反応させて、残留フッ素の濃度を低減することができる。このため、後に反応室の内壁に成膜する保護膜へのフッ素の混入量を減らすことが可能であり、保護膜の厚さを薄くすることが可能である。

次に、図１１（Ａ）に示すように反応室の処理容器１８０内壁、誘電体板１９６、ガス管１９７、１９８、支持台１８１等の表面に保護膜２０１として酸化窒化珪素膜を堆積する。ここでは、処理容器１８０内の圧力を１〜２００Ｐａ、好ましくは１０〜４０Ｐａとし、プラズマ着火用ガスとして、ヘリウム、アルゴン、キセノン、クリプトン等の希ガスのいずれか一種以上のガスを導入する。さらには、希ガスのいずれか一種及び水素を導入する。特に、プラズマ着火用ガスとしてヘリウム、更にはヘリウムと水素を用いることが好ましい。

ヘリウムのイオン化エネルギーは２４．５ｅＶと高いエネルギーを持つが、約２０ｅＶに準安定状態があるので、放電中においては約４ｅＶでイオン化が可能である。このため、放電開始電圧が低く、また放電を維持しやすい。よって、プラズマを均一に維持することが可能であると共に、省電力化が可能である。

また、プラズマ着火用ガスとして、ヘリウム、アルゴン、キセノン、クリプトン等の希ガスのいずれか一種以上及び酸素ガスを導入してもよい。希ガスと共に、酸素ガスを処理容器１８０内に導入することで、プラズマの着火を容易とすることができる。

次に、マイクロ波発生装置１８４の電源をオンにし、マイクロ波発生装置１８４の出力は５００〜６０００Ｗ、好ましくは４０００〜６０００Ｗとしてプラズマ２００を発生させる。次に、ガス管１９８から原料ガスを処理容器１８０内に導入する。具体的には、原料ガスとして、一酸化二窒素、希ガス、及びシランを導入することで、処理容器１８０の内壁、ガス管１９７、１９８、誘電体板１９６、及び支持台１８１表面上に保護膜２０１として酸化窒化珪素膜を形成する。このときの水素化珪素の流量を５０〜３００ｓｃｃｍ、一酸化二窒素の流量を５００〜６０００ｓｃｃｍとし、保護膜２０１の膜厚を５００〜２０００ｎｍとする。

次に、原料ガスの供給を停止し、処理容器１８０内の圧力を低下し、マイクロ波発生装置１８４の電源をオフにした後、図１１（Ｂ）に示すように、処理容器１８０内の支持台１８１上に基板１１３０を導入する。

次に、上記保護膜と同様の工程により、基板上に酸化窒化珪素膜を堆積させる。

所定の厚さの酸化窒化珪素膜が堆積されたら、原料ガスの供給を停止し、処理容器１８０内の圧力を低下し、マイクロ波発生装置１８４の電源をオフにする。

次に、処理容器１８０内の圧力を１〜２００Ｐａ、好ましくは１〜１００Ｐａとし、プラズマ着火用ガスとして、ヘリウム、アルゴン、キセノン、クリプトン等の希ガスのいずれか一種以上と、原料ガスであるシラン、一酸化二窒素、及びアンモニアを導入する。なお、原料ガスとして、アンモニアの代わりに窒素を導入しても良い。次に、マイクロ波発生装置１８４の電源をオンにし、マイクロ波発生装置１８４の出力は５００〜６０００Ｗ、好ましくは４０００〜６０００Ｗとしてプラズマ２００を発生させる。次に、ガス管１９８から原料ガスを処理容器１８０内に導入し、基板１１３０の酸化窒化珪素膜上に窒化酸化珪素膜を形成する。次に、原料ガスの供給を停止し、処理容器１８０内の圧力を低下し、マイクロ波発生装置１８４の電源をオフにして、成膜プロセスを終了する。

以上の工程により、反応室内壁の保護膜を酸化窒化珪素膜とし、基板上に酸化窒化珪素膜及び窒化酸化珪素膜を連続的に成膜することで、上層側の窒化酸化珪素膜中に酸化珪素等の不純物の混入を低減することができる。当該膜は耐圧が高いため、ゲート絶縁膜として用いると、トランジスタの閾値のばらつきを低減することができる。また、ＢＴ特性を向上させることができる。また、静電気に対する耐性が高まり、高い電圧が印加されても破壊しにくいトランジスタを作製することができる。また、経時破壊の少ないトランジスタを作製することができる。また、ホットキャリアダメージの少ないトランジスタを作製することができる。

また、ゲート絶縁膜として酸化窒化珪素膜単層の場合、上記保護膜の形成方法及び酸化窒化珪素膜の形成方法を用いる。特に、シランに対する一酸化二窒素の流量比を１００倍以上３００倍以下、好ましくは１５０倍以上２５０倍以下とすると、耐圧の高い酸化窒化珪素膜を形成することができる。

次に、マイクロ波プラズマＣＶＤ法による微結晶半導体膜の成膜処理方法について示す。まず、上記ゲート絶縁膜と同様により、反応室内をクリーニングする。次に、処理容器１８０内に保護膜として珪素膜を堆積する。ここでは、処理容器内の圧力を１〜２００Ｐａ、好ましくは１〜１００Ｐａとし、プラズマ着火用ガスとして、ヘリウム、アルゴン、キセノン、クリプトン等の希ガスのいずれか一種以上を導入する。なお、希ガスと共に水素を導入してもよい。

次に、マイクロ波発生装置１８４の電源をオンにし、マイクロ波発生装置１８４の出力は５００〜６０００Ｗ、好ましくは４０００〜６０００Ｗとしてプラズマ２００を発生させる。次に、ガス管１９８から原料ガスを処理容器１８０内に導入する。具体的には、原料ガスとして、具体的には、珪素化合物ガス、更には水素ガスを導入することで、処理容器１８０の内壁、ガス管１９７、１９８、誘電体板１９６、及び支持台１８１表面上に保護膜２０１として微結晶珪素膜を形成する。このときの保護膜の膜厚を５００〜２０００ｎｍとする。

次に、上記保護膜と同様の工程により、基板上に微結晶珪素膜を堆積させる。

所定の厚さの微結晶珪素膜が堆積されたら、次に、原料ガスの供給を停止し、処理容器１８０内の圧力を低下し、マイクロ波発生装置１８４の電源をオフにして、成膜プロセスを終了する。

周波数が１ＧＨｚ以上のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置で発生されたプラズマは、電子密度が高く、原料ガスから多くのラジカルが形成され、基板１１３０へ供給されるため、基板でのラジカルの表面反応が促進され、微結晶珪素の成膜速度を高めることができる。更に、複数のマイクロ波発生装置、及び複数の誘電体板で構成されるマイクロ波プラズマＣＶＤ装置は、安定した大面積のプラズマを生成することができる。このため、大面積基板上においても、膜質の均一性を高めた膜を成膜することが可能であると共に、量産性を高めることができる。

なお、ゲート絶縁膜及び半導体膜それぞれの作製工程において、反応室の内壁に５００〜２０００ｎｍの保護膜が形成されている場合は、上記クリーニング処理及び保護膜形成処理を省くことができる。

また、一つの反応室でゲート絶縁膜及び微結晶半導体膜を積層する場合、ゲート絶縁膜を形成した後、反応室内にシラン等の水素化珪素を導入し、残留酸素及び水素化珪素を反応させて、反応物を反応室外に排出することで、反応室内の残留酸素濃度を低減させることができる。この結果、微結晶半導体膜に含まれる酸素の濃度を低減することができる。また、微結晶半導体膜に含まれる結晶粒の酸化を防止することができる。

なお、マイクロ波プラズマＣＶＤ装置にヘリウムガスを精製するヘリウム低温精製器を設けてもよい。具体的には、図１１に示す処理容器の排出口１８３及びガス供給部１８２の間にヘリウム低温精製器を設ける。ここで、処理容器に導入したヘリウムガスを精製し、再利用する方法について、図１３を用いて説明する。

図１３は、ヘリウムに含まれる不純物を除去するヘリウム低温精製器の概要を説明する図である。

ヘリウム低温精製器は、ヘリウムガスに含まれる不純物を液化する気液分離器３０４、及び気液分離器３０４で分離された気体中に含まれる不純物を分離する吸着器３０５を有する液化窒素貯槽３０３を有する。

液化窒素貯槽３０３では、ヘリウムガスは液化せず、ヘリウムガスに含まれる不純物を液化する程度の温度に保つために、例えば液化窒素３１１が満たされており、そこに少なくとも気液分離器３０４が浸されている。不純物を含むヘリウムガスを適当な温度、例えば８０Ｋに冷却すると、ヘリウムガスに含まれる低沸点の不純物成分が液化する。当該液化した不純物成分を、排出管３１０を経て排出部３０６へ分離することができる。

また、不純物を含むヘリウムガスを気液分離器３０４に導入する管３０７と、気液分離器３０４から吸着器３０５へヘリウムガスを導入する管３０８と、吸着器３０５から精製されたヘリウムガスをガス供給部１８２へ供給する管３０９と、気液分離器３０４で分離した不純物液体を排出部３０６へ排出する排出管３１０とを有する。また、精製されたヘリウムガスとの熱交換により、管３０７に導入される不純物を含むヘリウムガスを冷却する熱交換器３０２が設けられていてもよい。

処理容器の排出口１８３から排出された不純物を含むヘリウムガスは、管３０７を経て、気液分離器３０４に導入される。この過程において、不純物を含むヘリウムガスは熱交換器３０２によって冷却される。次に、液化窒素貯槽３０３内の気液分離器３０４において、ヘリウムガスから液化した不純物を排出管３１０を経て排出部３０６へ分離する。

気液分離器３０４内のヘリウムガスには、液化しなかった微量の不純物が残存する場合がある。この不純物を除去するために、ヘリウムガスは、管３０８を経て吸着器３０５において微量の不純物が除去される。この結果、精製されたヘリウムガスが、熱交換器３０２を経てガス供給部１８２に導入される。この結果、ヘリウムガスを排出ガスから分離、精製して、再利用することができる。

このように、マイクロ波プラズマＣＶＤ装置において、排出口１８３及びガス供給部１８２の間にヘリウム低温精製器を設けることにより、高価なヘリウムを再利用することが可能であるため、コスト削減が可能である。

次に、一導電型を付与する不純物元素が添加された半導体膜５６上に導電膜５７を形成し、導電膜５７上にレジスト５８を塗布する。

導電膜５７は、アルミニウム、銅、又はシリコン、チタン、ネオジム、スカンジウム、モリブデンなどの耐熱性向上元素若しくはヒロック防止元素が添加されたアルミニウム合金を用いて形成することが好ましい。また、一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜と接する側の膜を、チタン、タンタル、モリブデン、タングステン、またはこれらの元素の窒化物で形成し、その上にアルミニウムまたはアルミニウム合金を形成した積層構造としても良い。更には、アルミニウムまたはアルミニウム合金の上面及び下面を、チタン、タンタル、モリブデン、タングステン、またはこれらの元素の窒化物で挟んだ積層構造としてもよい。

導電膜５７は、スパッタリング法や真空蒸着法で、一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜５６上に形成する。また、導電膜５７は、銀、金、銅などの導電性ナノペーストを用いてスクリーン印刷法、インクジェット法等を用いて吐出し焼成して形成しても良い。

レジスト５８は、ポジ型レジストまたはネガ型レジストを用いることができる。ここでは、ポジ型レジストを用いて示す。

次に、多階調マスク５９を用いて、レジスト５８に光を照射して、レジスト５８を露光する。

ここで、多階調マスク５９を用いた露光について、図８及び図９を用いて説明する。

多階調マスクを用いることで、フォトマスクの枚数を削減することが可能である。多階調マスクとは、露光部分、中間露光部分、及び未露光部分に３つの露光レベルを行うことが可能なマスクであり、一度の露光及び現像工程により、複数（代表的には二種類）の厚さの領域を有するレジストマスクを形成することが可能である。

多階調マスクの代表例としては、図８に示すようなグレートーンマスク５９ａ、図９に示すようなハーフトーンマスク５９ｂがある。

図８（Ａ）に示すように、グレートーンマスク５９ａは、透光性を有する基板１６３及びその上に形成される遮光部１６４並びに回折格子１６５で構成される。遮光部１６４においては、光の透過率が０％である。一方、回折格子１６５はスリット、ドット、メッシュ等の光透過部の間隔を、露光に用いる光の解像度限界以下の間隔とすることにより、光の透過率を制御することができる。なお、回折格子１６５は、周期的なスリット、ドット、メッシュ、または非周期的なスリット、ドット、メッシュどちらも用いることができる。

透光性を有する基板１６３は、石英等の透光性を有する基板を用いることができる。遮光部１６４及び回折格子１６５は、クロムや酸化クロム等の光を吸収する遮光材料を用いて形成することができる。

グレートーンマスク５９ａに露光光を照射した場合、図８（Ｂ）に示すように、遮光部１６４においては、光透過率１６６は０％であり、遮光部１６４及び回折格子１６５が設けられていない領域では光透過率１６６は１００％である。また、回折格子１６５においては、１０〜７０％の範囲で調整可能である。回折格子１６５における光の透過率の調整は、回折格子１６５のスリット、ドット、またはメッシュの間隔及びピッチの調整により可能である。

図９（Ａ）に示すように、ハーフトーンマスク５９ｂは、透光性を有する基板１６３及びその上に形成される半透過部１６７並びに遮光部１６８で構成される。半透過部１６７は、ＭｏＳｉＮ、ＭｏＳｉ、ＭｏＳｉＯ、ＭｏＳｉＯＮ、ＣｒＳｉなどを用いることができる。遮光部１６８は、クロムや酸化クロム等の光を吸収する遮光材料を用いて形成することができる。

ハーフトーンマスク５９ｂに露光光を照射した場合、図９（Ｂ）に示すように、遮光部１６８においては、光透過率１６９は０％であり、遮光部１６８及び半透過部１６７が設けられていない領域では光透過率１６９は１００％である。また、半透過部１６７においては、１０〜７０％の範囲で調整可能である。半透過部１６７に於ける光の透過率の調整は、半透過部１６７の材料により調整により可能である。

多階調マスクを用いて露光した後、現像することで、図１（Ｃ）に示すように、膜厚の異なる領域を有するレジストマスク６１、６２を形成することができる。

次に、レジストマスク６１、６２により、微結晶半導体膜５４、酸化防止膜５５、一導電型を付与する不純物元素が添加された半導体膜５６、導電膜５７をエッチングして島状に分離する。この結果、図２（Ａ）に示すような、微結晶半導体膜６９、７０、酸化防止膜６７、６８、一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜６５、６６、及び導電膜６３、６４を形成することができる。

次に、レジストマスク６１、６２をアッシングする。この結果、レジストの面積が縮小し、厚さが薄くなる。このとき、膜厚の薄い領域のレジスト（ゲート電極５１、５２の一部と重畳する領域）は除去され、図２（Ｂ）に示すように、分離されたレジストマスク７１、７２を形成することができる。

次に、レジストマスク７１、７２を用いて一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜６５、６６、及び導電膜６３、６４をエッチングして分離する。この結果、図２（Ｃ）に示すような、一対のソース電極及びドレイン電極７３〜７６、及び一対のソース領域及びドレイン領域７７〜８０を形成することができる。なお、当該エッチング工程において、酸化防止膜６７、６８の一部もエッチングされる。一部エッチングされた、凹部を有する酸化防止膜を酸化防止膜８１、８２と示す。このときに酸化防止膜が分離された場合は、微結晶半導体膜の表面を、窒素、水素、またはハロゲンでプラズマ処理して、表面を窒素化、水素化、またはハロゲン化すればよい。また、酸化防止膜８１、８２は、面積が縮小したレジストマスク７１、７２で一部エッチングされるため、ソース電極及びドレイン電極の外側に突出した形状となる。

本実施の形態により、ソース領域及びドレイン領域の形成工程と、酸化防止膜８１、８２の凹部とを同一工程で形成することができる。酸化防止膜８１、８２の凹部の深さを酸化防止膜８１、８２の一番膜厚の厚い領域の１／２〜１／３とすることで、ソース領域及びドレイン領域の距離を離すことが可能であるため、ソース領域及びドレイン領域の間でのリーク電流を低減することができる。

以上の工程により、図３（Ａ）に示すように、チャネルエッチ型の薄膜トランジスタ８５、８６を形成することができる。チャネルエッチ型の薄膜トランジスタは、作製工程数が少なく、コスト削減が可能である。また、微結晶半導体膜でチャネル形成領域を構成することにより２〜１０ｃｍ^２／Ｖ・ｓｅｃの電界効果移動度を得ることができる。従って、この薄膜トランジスタを画素部１２２の画素のスイッチング用素子として、さらに走査線（ゲート線）側の駆動回路１２１を形成する素子として利用することができる。

次に、薄膜トランジスタ８５、８６上に、コンタクトホールを有する絶縁膜８７を形成し、絶縁膜８７のコンタクトホールにおいてソース電極またはドレイン電極７３〜７６に接する画素電極８８を形成する。

絶縁膜８７としては、ゲート絶縁膜５３と同様に形成することができる。なお、絶縁膜８７は、大気中に浮遊する有機物や金属物、水蒸気などの汚染不純物の侵入を防ぐためのものであり、緻密な膜が好ましい。また、絶縁膜８７に窒化珪素膜を用いることで、酸化防止膜８１、８２中の酸素濃度を５×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下、好ましくは１×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下とすることができる。

画素電極８８は、酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯと示す。）、インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物などの透光性を有する導電性材料を用いることができる。

なお、ここでは、画素電極８８を透光性を有する導電性材料で形成し、透過型の液晶表示装置を作製する例を示すが、本発明の液晶表示装置はこの構成に限定されない。光を反射しやすい導電膜を用いて画素電極を形成することで、反射型の液晶表示装置を形成することができる。この場合、ソース電極又はドレイン電極７６の一部を画素電極として用いることができる。

次に、絶縁膜８７または画素電極８８上に、スペーサ１３３を絶縁膜で形成する。なお図３（Ｂ）では、絶縁膜８７上にスペーサ１３３を、酸化珪素を用いて形成した例を示している。画素電極８８とスペーサ１３３は、いずれを先に形成しても良い。また、スペーサ１３３としてここでは、柱状スペーサを用いて示したがビーズスペーサを散布してもよい。

そして、絶縁膜８７、スペーサ１３３、画素電極８８を覆うように、配向膜１３１を成膜し、ラビング処理を施す。

次に、液晶を封止するためのシール材１６２を形成する。一方、透光性を有する導電性材料を用いた対向電極１４１と、ラビング処理が施された配向膜１４２とが形成された第２の基板１４０を用意する。そして、シール材１６２で囲まれた領域に液晶１６１を滴下し、別途用意しておいた第２の基板１４０を、対向電極１４１と画素電極８８とが向かい合うように、シール材１６２を用いて貼り合わせる。なおシール材１６２にはフィラーが混入されていても良い。

なお、第２の基板１４０にシール材１６２を形成し、シール材１６２で囲まれた領域に液晶１６１を滴下した後、第１の基板１２０と第２の基板１４０をシール材１６２を用いて貼り合せてもよい。

また、上述した液晶の注入は、ディスペンサ式（滴下式）を用いているが、本発明はこれに限定されない。シール材１６２を用いて第１の基板１２０及び第２の基板１４０を貼り合わせてから毛細管現象を用いて液晶を注入するディップ式（汲み上げ式）を用いていても良い。

また、第１の基板１２０または第２の基板１４０にカラーフィルタや、ディスクリネーションを防ぐための遮蔽膜（ブラックマトリクス）などが形成されていても良い。また、第１の基板１２０の薄膜トランジスタが形成されている面とは逆の面に偏光板１５０を貼り合わせ、また第２の基板１４０の対向電極１４１が形成されている面とは逆の面に、偏光板１５１を貼り合わせておく。

対向電極１４１は、画素電極８８と同様の材料を適宜用いることができる。画素電極８８と液晶１６１と対向電極１４１が重なり合うことで、液晶素子１３２が形成されている。

以上の工程により、液晶表示装置を作製することができる。

なお、図１〜図３は、チャネルエッチ型の薄膜トランジスタを有する液晶表示装置の作製方法について示したが、チャネル保護型の薄膜トランジスタを用いて形成することができる。当該作製方法について、図４及び５を用いて示す。

図４（Ａ）に示すように、基板５０上にゲート電極５１、５２を形成する。次に、ゲート電極５１、５２上にゲート絶縁膜５３、微結晶半導体膜５４、酸化防止膜５５、及び絶縁膜９１を形成する。絶縁膜９１としては、窒化珪素、窒化酸化珪素、酸化珪素、酸化窒化珪素をスパッタリング法、ＣＶＤ法等で微結晶半導体膜５４上に形成することができる。また、ポリイミド、アクリル、またはシロキサンを含む組成物をインクジェット法または印刷法により吐出し焼成して絶縁膜９１を形成することができる。

次に、絶縁膜９１を一部エッチングして、図４（Ｂ）に示すように、ゲート電極５１、５２と重なる微結晶半導体膜５４上にチャネル保護膜９２、９３を形成する。酸化防止膜５５を形成することで、微結晶半導体膜の酸化を防止することができる。また、上記の工程で絶縁膜９１をエッチングしてチャネル保護膜９２、９３を形成するときのエッチング保護膜としても機能する。

次に、図４（Ｃ）に示すように、チャネル保護膜９２、９３上に一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜９４を形成し、一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜９４上に、導電膜９５を形成し、導電膜９５上に、多階調マスクを用いてレジストマスク６１、６２を形成する。一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜９４は、図１（Ｂ）に示す一導電型を付与する不純物元素が添加された半導体膜５６と同様に形成することができる。また、導電膜９５は図１（Ｂ）に示す導電膜５７と同様に形成することができる。

次に、多階調マスクを用いたフォトリソグラフィ技術により形成したレジストマスク６１、６２を用いて、導電膜９５、一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜９４、及び微結晶半導体膜５４をエッチングし分離して、図５（Ａ）に示すように、チャネル形成領域として機能する微結晶半導体膜６９、７０、酸化防止膜６７、６８、一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜９８、９９、及び導電膜９６、９７を形成する。

次に、図５（Ｂ）に示すように、レジストマスク６１、６２をアッシングして、分離されたレジストマスク７１、７２を形成する。

次に、レジストマスク７１、７２をマスクとして、導電膜９６、９７をエッチングして、図５（Ｃ）に示すように、一対のソース電極及びドレイン電極１０１〜１０４を形成し、一導電型を付与する不純物が添加された半導体膜９８、９９をエッチングして、一対のソース領域及びドレイン領域１０５〜１０８を形成する。このとき、チャネル保護膜９２、９３の一部がエッチングされ、チャネル保護膜９２ａ、９３ａとなる。また、酸化防止膜６７、６８も一部エッチングされて酸化防止膜１０９、１１０となる。

以上の工程により、ゲート電極５１、５２、及び微結晶半導体膜６９、７０に重畳するチャネル保護膜９２ａ、９３ａを有するチャネル保護型の薄膜トランジスタ１１８、１１９を作製することができる。チャネル保護型の薄膜トランジスタを素子基板に形成することで、薄膜トランジスタの素子特性のばらつきを低減することができると共に、オフ電流を低減することができる。また、微結晶半導体膜でチャネル形成領域を構成することにより２〜１０ｃｍ^２／Ｖ・ｓｅｃの電界効果移動度を得ることができる。従って、この薄膜トランジスタを画素部１２２の画素のスイッチング用素子として、さらに走査線（ゲート線）側の駆動回路１２１を形成する素子として利用することができる。

さらには、素子基板の駆動回路１２１を構成する薄膜トランジスタ及び画素部１２２のスイッチング素子として機能する薄膜トランジスタとして、順スタガ型の薄膜トランジスタを用いて形成することができる。当該素子基板ついて、図６を用いて示す。

順スタガ型の薄膜トランジスタは、基板５０上に形成された下地膜として機能する絶縁膜４０上にソース配線及びドレイン配線４１ａ〜４１ｄを形成する。次に、ソース配線及びドレイン配線４１ａ〜４１ｄ上に微結晶半導体膜４２を形成する。次に、微結晶半導体膜４２上に酸化防止膜４３を形成する。次に、酸化防止膜４３、微結晶半導体膜４２、ソース配線、及びドレイン配線４１ａ〜４１ｄ上にゲート絶縁膜４４を形成する。次に、ゲート絶縁膜４４上にゲート電極４５を形成する。次に、ゲート絶縁膜４４及びゲート電極４５上に保護膜４６を形成し、保護膜４６及びゲート絶縁膜４４に形成されるコンタクトホールにおいて、画素部１２２の画素薄膜トランジスタとして機能する薄膜トランジスタのソース配線またはドレイン配線４１ｄに接続する画素電極４７を形成する。

なお、ソース配線及びドレイン配線４１ａ〜４１ｄは、図１（Ａ）に示すゲート電極５１、５２と同様に形成することができる。微結晶半導体膜４２は、図１（Ａ）に示す微結晶半導体膜５４と同様に形成することができる。酸化防止膜４３は、図１（Ａ）に示す酸化防止膜５５と同様に形成することができる。ゲート絶縁膜４４は図１（Ａ）に示すゲート絶縁膜５３と同様に形成することができる。ゲート電極４５は、図１（Ｂ）に示す導電膜５７と同様に形成することができる。保護膜４６は図３（Ａ）に示す絶縁膜８７と同様に形成することができる。画素電極４７は図３（Ａ）に示す画素電極８８と同様に形成することができる。

また、ここでは、ソース配線及びドレイン配線４１ａ、４１ｂに接して微結晶半導体膜４２が形成されているが、ソース配線及びドレイン配線４１ａ、４１ｂと微結晶半導体膜４２との間に、一導電型を付与する不純物を有する一対の半導体膜を設けてもよい。

次に、表示装置として、発光表示装置の作製工程について、図１〜図３、及び図７を用いて説明する。なお、ここでは、図３（Ｃ）に示すチャネルエッチ型の薄膜トランジスタを用いて示すが、チャネル保護型の薄膜トランジスタまたは順スガタ型の薄膜トランジスタを適宜用いることができる。

図１、図２、及び図３（Ａ）の工程を経て、図７に示すように基板５０上に薄膜トランジスタ８５、８６を形成し、薄膜トランジスタ８５、８６上に保護膜として機能する絶縁膜８７を形成する。次に、絶縁膜８７上にコンタクトホールを有する平坦化膜１１１を形成し、平坦化膜１１１上に薄膜トランジスタ８６のソース電極またはドレイン電極に接続する画素電極１１２を形成する。

平坦化膜１１１は、アクリル、ポリイミド、ポリアミドなどの有機樹脂、またはシロキサンを用いて形成することが好ましい。

図７（Ａ）では画素の薄膜トランジスタがｎ型であるので、画素電極１１２として、陰極を用いるのが望ましいが、逆にｐ型の場合は陽極を用いるのが望ましい。具体的には、陰極としては、仕事関数が小さい公知の材料、例えば、Ｃａ、Ａｌ、ＣａＦ、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ等を用いることができる。

次に図７（Ｂ）に示すように、平坦化膜１１１及び画素電極１１２の端部上に、隔壁１１３を形成する。隔壁１１３は開口部を有しており、該開口部において画素電極１１２が露出している。隔壁１１３は、有機樹脂膜、無機絶縁膜または有機ポリシロキサンを用いて形成する。特に感光性の材料を用い、画素電極上に開口部を形成し、その開口部の側壁が連続した曲率を持って形成される傾斜面となるように形成することが好ましい。

次に、隔壁１１３の開口部において画素電極１１２と接するように、発光層１１４を形成する。発光層１１４は、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。

そして発光層１１４を覆うように、陽極材料を用いた共通電極１１５を形成する。共通電極１１５は、液晶表示装置に用いた画素電極８８として列挙した透光性を有する導電性材料を用いた透光性導電膜で形成することができる。共通電極１１５として上記透光性導電膜の他に、窒化チタン膜またはチタン膜を用いても良い。図７（Ｂ）では、共通電極１１５としＩＴＯを用いている。隔壁１１３の開口部において、画素電極１１２と発光層１１４と共通電極１１５が重なり合うことで、発光素子１１７が形成されている。この後、発光素子１１７に酸素、水素、水分、二酸化炭素等が侵入しないように、共通電極１１５及び隔壁１１３上に保護膜１１６を形成することが好ましい。保護膜１１６としては、窒化珪素膜、窒化酸化珪素膜、ＤＬＣ膜等を形成することができる。

さらに、実際には、図７（Ｂ）まで完成したら、さらに外気に曝されないように気密性が高く、脱ガスの少ない保護フィルム（ラミネートフィルム、紫外線硬化樹脂フィルム等）やカバー材でパッケージング（封入）することが好ましい。

次に、発光素子の構成について、図１４を用いて説明する。ここでは、駆動用ＴＦＴがｎ型の場合を例に挙げて、画素の断面構造について説明する。

発光素子は発光を取り出すために少なくとも陽極又は陰極の一方が透明であればよい。そして、基板上に薄膜トランジスタ及び発光素子を形成し、基板とは逆側の面から発光を取り出す上面射出や、基板側の面から発光を取り出す下面射出や、基板側及び基板とは反対側の面から発光を取り出す両面射出構造の発光素子があり、本発明の画素構成はどの射出構造の発光素子にも適用することができる。

上面射出構造の発光素子について図１４（Ａ）を用いて説明する。

図１４（Ａ）に、駆動用ＴＦＴ７００１がｎ型で、発光素子７００２から発せられる光が陽極７００５側に抜ける場合の、画素の断面図を示す。図１４（Ａ）では、発光素子７００２の陰極７００３と駆動用ＴＦＴ７００１が電気的に接続されており、陰極７００３上にＥＬ層７００４、陽極７００５が順に積層されている。陰極７００３は仕事関数が小さく、なおかつ光を反射する導電膜であれば公知の材料を用いることができる。例えば、Ｃａ、Ａｌ、ＣａＦ、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ等が望ましい。そしてＥＬ層７００４は、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。複数の層で構成されている場合、陰極７００３上に電子注入層、電子輸送層、発光層、ホール輸送層、ホール注入層の順に積層する。なおこれらの層を全て設ける必要はない。陽極７００５は光を透過する透光性を有する導電性材料を用いて形成し、例えば酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、ＩＴＯ、インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物などの透光性を有する導電性導電膜を用いても良い。

陰極７００３及び陽極７００５でＥＬ層７００４を挟んでいる領域が発光素子７００２に相当する。図１４（Ａ）に示した画素の場合、発光素子７００２から発せられる光は、白抜きの矢印で示すように陽極７００５側に射出する。

次に、下面射出構造の発光素子について図１４（Ｂ）を用いて説明する。駆動用ＴＦＴ７０１１がｎ型で、発光素子７０１２から発せられる光が陰極７０１３側に射出する場合の、画素の断面図を示す。図１４（Ｂ）では、駆動用ＴＦＴ７０１１と電気的に接続された透光性を有する導電膜７０１７上に、発光素子７０１２の陰極７０１３が成膜されており、陰極７０１３上にＥＬ層７０１４、陽極７０１５が順に積層されている。なお、陽極７０１５が透光性を有する場合、陽極上を覆うように、光を反射または遮蔽するための遮蔽膜７０１６が成膜されていてもよい。陰極７０１３は、図１４（Ａ）の場合と同様に、仕事関数が小さい導電膜であれば公知の材料を用いることができる。ただしその膜厚は、光を透過する程度（好ましくは、５ｎｍ〜３０ｎｍ程度）とする。例えば２０ｎｍの膜厚を有するＡｌを、陰極７０１３として用いることができる。そしてＥＬ層７０１４は、図１４（Ａ）と同様に、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。陽極７０１５は光を透過する必要はないが、図１４（Ａ）と同様に、透光性を有する導電性材料を用いて形成することができる。そして遮蔽膜７０１６は、例えば光を反射する金属等を用いることができるが、金属膜に限定されない。例えば黒の顔料添加した樹脂等を用いることもできる。

陰極７０１３及び陽極７０１５で、ＥＬ層７０１４を挟んでいる領域が発光素子７０１２に相当する。図１４（Ｂ）に示した画素の場合、発光素子７０１２から発せられる光は、白抜きの矢印で示すように陰極７０１３側に射出する。

次に、両面射出構造の発光素子について、図１４（Ｃ）を用いて説明する。図１４（Ｃ）では、駆動用ＴＦＴ７０２１と電気的に接続された透光性を有する導電膜７０２７上に、発光素子７０２２の陰極７０２３が成膜されており、陰極７０２３上にＥＬ層７０２４、陽極７０２５が順に積層されている。陰極７０２３は、図１４（Ａ）の場合と同様に、仕事関数が小さい導電膜であれば公知の材料を用いることができる。ただしその膜厚は、光を透過する程度とする。例えば２０ｎｍの膜厚を有するＡｌを、陰極７０２３として用いることができる。そしてＥＬ層７０２４は、図１４（Ａ）と同様に、単数の層で構成されていても、複数の層が積層されるように構成されていてもどちらでも良い。陽極７０２５は、図１４（Ａ）と同様に、光を透過する透光性を有する導電性材料を用いて形成することができる。

陰極７０２３と、ＥＬ層７０２４と、陽極７０２５とが重なっている部分が発光素子７０２２に相当する。図１４（Ｃ）に示した画素の場合、発光素子７０２２から発せられる光は、白抜きの矢印で示すように陽極７０２５側と陰極７０２３側の両方に射出する。

なお本実施の形態では、駆動用ＴＦＴと発光素子が電気的に接続されている例を示したが、駆動用ＴＦＴと発光素子との間に電流制御用ＴＦＴが接続されている構成であってもよい。

なお本実施の形態で示す発光装置は、図１４に示した構成に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。

以上により、表示装置を作製することができる。また、微結晶半導体膜の表面に、酸化防止膜を形成することで、微結晶半導体膜に含まれる結晶粒の表面の自然酸化を防止することが可能である。このため、薄膜トランジスタの特性の低減を防止することが可能である。

また、多階調マスクを用いて薄膜トランジスタを形成するため、フォトマスク数を削減することが可能であるため、コスト削減が可能である。

また、周波数が１ＧＨｚ以上のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置で発生されたプラズマは、電子密度が高いため、当該装置を用いることで、微結晶半導体膜の成膜速度を高めることができる。このため、微結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタを有する表示装置の量産性を高めることができる。また、複数のマイクロ波発生装置、及び複数の誘電体板で構成されるマイクロ波プラズマＣＶＤ装置は、安定した大面積のプラズマを生成することができる。このため、大面積基板を用いて表示装置を作製することが可能であり、量産性を高めることができる。

（実施の形態２）
次に、本発明の表示装置の一形態である表示パネルの構成について、以下に示す。

図１５（Ａ）に、信号線駆動回路６０１３のみを別途形成し、基板６０１１上に形成された画素部６０１２と接続している表示パネルの形態を示す。画素部６０１２及び走査線駆動回路６０１４は、微結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタを用いて形成する。微結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタよりも高い移動度が得られるトランジスタで信号線駆動回路を形成することで、走査線駆動回路よりも高い駆動周波数が要求される信号線駆動回路の動作を安定させることができる。なお、信号線駆動回路６０１３は、単結晶の半導体を用いたトランジスタ、多結晶の半導体を用いた薄膜トランジスタ、またはＳＯＩを用いたトランジスタであっても良い。画素部６０１２と、信号線駆動回路６０１３と、走査線駆動回路６０１４とに、それぞれ電源の電位、各種信号等が、ＦＰＣ６０１５を介して供給される。

なお、信号線駆動回路及び走査線駆動回路を、共に画素部と同じ基板上に形成しても良い。

また、駆動回路を別途形成する場合、必ずしも駆動回路が形成された基板を、画素部が形成された基板上に貼り合わせる必要はなく、例えばＦＰＣ上に貼り合わせるようにしても良い。図１５（Ｂ）に、信号線駆動回路６０２３のみを別途形成し、基板６０２１上に形成された画素部６０２２及び走査線駆動回路６０２４と接続している表示装置パネルの形態を示す。画素部６０２２及び走査線駆動回路６０２４は、微結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタを用いて形成する。信号線駆動回路６０２３は、ＦＰＣ６０２５を介して画素部６０２２と接続されている。画素部６０２２と、信号線駆動回路６０２３と、走査線駆動回路６０２４とに、それぞれ電源の電位、各種信号等が、ＦＰＣ６０２５を介して供給される。

また、信号線駆動回路の一部または走査線駆動回路の一部のみを、微結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタを用いて画素部と同じ基板上に形成し、残りを別途形成して画素部と電気的に接続するようにしても良い。図１５（Ｃ）に、信号線駆動回路が有するアナログスイッチ６０３３ａを、画素部６０３２、走査線駆動回路６０３４と同じ基板６０３１上に形成し、信号線駆動回路が有するシフトレジスタ６０３３ｂを別途異なる基板に形成して貼り合わせる表示装置パネルの形態を示す。画素部６０３２及び走査線駆動回路６０３４は、微結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタを用いて形成する。信号線駆動回路が有するシフトレジスタ６０３３ｂは、ＦＰＣ６０３５を介して画素部６０３２と接続されている。画素部６０３２と、信号線駆動回路と、走査線駆動回路６０３４とに、それぞれ電源の電位、各種信号等が、ＦＰＣ６０３５を介して供給される。

図１５に示すように、本発明の表示装置は、駆動回路の一部または全部を、画素部と同じ基板上に、微結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタを用いて形成することができる。

なお、別途形成した基板の接続方法は、特に限定されるものではなく、公知のＣＯＧ方法、ワイヤボンディング方法、或いはＴＡＢ方法などを用いることができる。また接続する位置は、電気的な接続が可能であるならば、図１５に示した位置に限定されない。また、コントローラ、ＣＰＵ、メモリ等を別途形成し、接続するようにしても良い。

なお本発明で用いる信号線駆動回路は、シフトレジスタとアナログスイッチのみを有する形態に限定されない。シフトレジスタとアナログスイッチに加え、バッファ、レベルシフタ、ソースフォロワ等、他の回路を有していても良い。また、シフトレジスタとアナログスイッチは必ずしも設ける必要はなく、例えばシフトレジスタの代わりにデコーダ回路のような信号線の選択ができる別の回路を用いても良いし、アナログスイッチの代わりにラッチ等を用いても良い。

図１６に本発明の表示装置のブロック図を示す。図１６に示す表示装置は、表示素子を備えた画素を複数有する画素部７００と、各画素を選択する走査線駆動回路７０２と、選択された画素へのビデオ信号の入力を制御する信号線駆動回路７０３とを有する。

図１６において信号線駆動回路７０３は、シフトレジスタ７０４、アナログスイッチ７０５を有している。シフトレジスタ７０４には、クロック信号（ＣＬＫ）、スタートパルス信号（ＳＰ）が入力されている。クロック信号（ＣＬＫ）とスタートパルス信号（ＳＰ）が入力されると、シフトレジスタ７０４においてタイミング信号が生成され、アナログスイッチ７０５に入力される。

またアナログスイッチ７０５には、ビデオ信号（ｖｉｄｅｏｓｉｇｎａｌ）が与えられている。アナログスイッチ７０５は入力されるタイミング信号に従ってビデオ信号をサンプリングし、後段の信号線に供給する。

次に、走査線駆動回路７０２の構成について説明する。走査線駆動回路７０２は、シフトレジスタ７０６、バッファ７０７を有している。また場合によってはレベルシフタを有していても良い。走査線駆動回路７０２において、シフトレジスタ７０６にクロック信号（ＣＬＫ）及びスタートパルス信号（ＳＰ）が入力されることによって、選択信号が生成される。生成された選択信号はバッファ７０７において緩衝増幅され、対応する走査線に供給される。走査線には、１ライン分の画素のトランジスタのゲートが接続されている。そして、１ライン分の画素のトランジスタを一斉にＯＮにしなくてはならないので、バッファ７０７は大きな電流を流すことが可能なものが用いられる。

フルカラーの表示装置で、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）に対応するビデオ信号を、順にサンプリングして対応する信号線に供給している場合、シフトレジスタ７０４とアナログスイッチ７０５とを接続するための端子数が、アナログスイッチ７０５と画素部７００の信号線を接続するための端子数の１／３程度に相当する。よって、アナログスイッチ７０５を画素部７００と同じ基板上に形成することで、アナログスイッチ７０５を画素部７００と異なる基板上に形成した場合に比べて、別途形成した基板の接続に用いる端子の数を抑えることができ、接続不良の発生確率を抑え、歩留まりを高めることができる。

なお、図１６の走査線駆動回路７０２は、シフトレジスタ７０６、及びバッファ７０７を有するが、シフトレジスタ７０６で走査線駆動回路７０２を構成してもよい。

なお、図１６に示す構成は、本発明の表示装置の一形態を示したに過ぎず、信号線駆動回路と走査線駆動回路の構成はこれに限定されない。

次に、極性が全て同一の微結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタを含むシフトレジスタの一形態について図１７及び図１８を用いて説明する。図１７に、本実施の形態のシフトレジスタの構成を示す。図１７に示すシフトレジスタは、複数のフリップフロップ７０１−ｉ（フリップフロップ７０１−１〜７０１−ｎのうちいずれか一）で構成される。また、第１のクロック信号、第２のクロック信号、スタートパルス信号、リセット信号が入力されて動作する。

図１７のシフトレジスタの接続関係について説明する。図１７のシフトレジスタは、ｉ段目のフリップフロップ７０１−ｉ（フリップフロップ７０１−１〜７０１−ｎのうちいずれか一）は、図１８に示した第１の配線５０１が第７の配線７１７−ｉ−１に接続され、図１８に示した第２の配線５０２が第７の配線７１７−ｉ＋１に接続され、図１８に示した第３の配線５０３が第７の配線７１７−ｉに接続され、図１８に示した第６の配線５０６が第５の配線７１５に接続される。

また、図１８に示した第４の配線５０４が奇数段目のフリップフロップでは第２の配線７１２に接続され、偶数段目のフリップフロップでは第３の配線７１３に接続され、図１８に示した第５の配線５０５が第４の配線７１４に接続される。

ただし、１段目のフリップフロップ７０１−１の図１８に示す第１の配線５０１は第１の配線７１１に接続され、ｎ段目のフリップフロップ７０１−ｎの図１８に示す第２の配線５０２は第６の配線７１６に接続される。

なお、第１の配線７１１、第２の配線７１２、第３の配線７１３、第６の配線７１６を、それぞれ第１の信号線、第２の信号線、第３の信号線、第４の信号線と呼んでもよい。さらに、第４の配線７１４、第５の配線７１５を、それぞれ第１の電源線、第２の電源線と呼んでもよい。

次に、図１７に示すフリップフロップの詳細について、図１８に示す。図１８に示すフリップフロップは、第１の薄膜トランジスタ１７１、第２の薄膜トランジスタ１７２、第３の薄膜トランジスタ１７３、第４の薄膜トランジスタ１７４、第５の薄膜トランジスタ１７５、第６の薄膜トランジスタ１７６、第７の薄膜トランジスタ１７７及び第８の薄膜トランジスタ１７８を有する。本実施の形態において、第１の薄膜トランジスタ１７１、第２の薄膜トランジスタ１７２、第３の薄膜トランジスタ１７３、第４の薄膜トランジスタ１７４、第５の薄膜トランジスタ１７５、第６の薄膜トランジスタ１７６、第７の薄膜トランジスタ１７７及び第８の薄膜トランジスタ１７８は、ｎチャネル型トランジスタとし、ゲート・ソース間電圧（Ｖｇｓ）がしきい値電圧（Ｖｔｈ）を上回ったとき導通状態になるものとする。

次に、図１７に示すフリップフロップの接続構成について、以下に示す。

第１の薄膜トランジスタ１７１の第１の電極（ソース電極またはドレイン電極の一方）が第４の配線５０４に接続され、第１の薄膜トランジスタ１７１の第２の電極（ソース電極またはドレイン電極の他方）が第３の配線５０３に接続される。

第２の薄膜トランジスタ１７２の第１の電極が第６の配線５０６に接続され、第２の薄膜トランジスタ１７２の第２の電極が第３の配線５０３に接続される。

第３の薄膜トランジスタ１７３の第１の電極が第５の配線５０５に接続され、第３の薄膜トランジスタ１７３の第２の電極が第２の薄膜トランジスタ１７２のゲート電極に接続され、第３の薄膜トランジスタ１７３のゲート電極が第５の配線５０５に接続される。

第４の薄膜トランジスタ１７４の第１の電極が第６の配線５０６に接続され、第４の薄膜トランジスタ１７４の第２の電極が第２の薄膜トランジスタ１７２のゲート電極に接続され、第４の薄膜トランジスタ１７４のゲート電極が第１の薄膜トランジスタ１７１のゲート電極に接続される。

第５の薄膜トランジスタ１７５の第１の電極が第５の配線５０５に接続され、第５の薄膜トランジスタ１７５の第２の電極が第１の薄膜トランジスタ１７１のゲート電極に接続され、第５の薄膜トランジスタ１７５のゲート電極が第１の配線５０１に接続される。

第６の薄膜トランジスタ１７６の第１の電極が第６の配線５０６に接続され、第６の薄膜トランジスタ１７６の第２の電極が第１の薄膜トランジスタ１７１のゲート電極に接続され、第６の薄膜トランジスタ１７６のゲート電極が第２の薄膜トランジスタ１７２のゲート電極に接続される。

第７の薄膜トランジスタ１７７の第１の電極が第６の配線５０６に接続され、第７の薄膜トランジスタ１７７の第２の電極が第１の薄膜トランジスタ１７１のゲート電極に接続され、第７の薄膜トランジスタ１７７のゲート電極が第２の配線５０２に接続される。

第８の薄膜トランジスタ１７８の第１の電極が第６の配線５０６に接続され、第８の薄膜トランジスタ１７８の第２の電極が第２の薄膜トランジスタ１７２のゲート電極に接続され、第８の薄膜トランジスタ１７８のゲート電極が第１の配線５０１に接続される。

なお、第１の薄膜トランジスタ１７１のゲート電極、第４の薄膜トランジスタ１７４のゲート電極、第５の薄膜トランジスタ１７５の第２の電極、第６の薄膜トランジスタ１７６の第２の電極及び第７の薄膜トランジスタ１７７の第２の電極の接続箇所をノード１４３とする。さらに、第２の薄膜トランジスタ１７２のゲート電極、第３の薄膜トランジスタ１７３の第２の電極、第４の薄膜トランジスタ１７４の第２の電極、第６の薄膜トランジスタ１７６のゲート電極及び第８の薄膜トランジスタ１７８の第２の電極の接続箇所をノード１４４とする。

なお、第１の配線５０１、第２の配線５０２、第３の配線５０３及び第４の配線５０４を、それぞれ第１の信号線、第２の信号、第３の信号線、第４の信号線と呼んでもよい。さらに、第５の配線５０５を第１の電源線、第６の配線５０６を第２の電源線と呼んでもよい。

図１８に示したフリップフロップの上面図の一例を図１９に示す。

導電膜９０１は、第１の薄膜トランジスタ１７１の第１の電極として機能する部分を含み、画素電極と同時に形成される配線９５１を介して第４の配線５０４と接続される。

導電膜９０２は第１の薄膜トランジスタ１７１の第２の電極として機能する部分を含み、画素電極と同時に形成される配線９５２を介して第３の配線５０３と接続される。

導電膜９０３は、第１の薄膜トランジスタ１７１のゲート電極、及び第４の薄膜トランジスタ１７４のゲート電極として機能する部分を含む。

導電膜９０４は、第２の薄膜トランジスタ１７２の第１の電極、第６の薄膜トランジスタ１７６の第１の電極、第４の薄膜トランジスタ１７４の第１の電極、及び第８の薄膜トランジスタ１７８の第１の電極として機能する部分を含み、第６の配線５０６と接続される。

導電膜９０５は、第２の薄膜トランジスタ１７２の第２の電極として機能する部分を含み、画素電極と同時に形成される配線９５４を介して第３の配線５０３と接続される。

導電膜９０６は第２の薄膜トランジスタ１７２のゲート電極、及び第６の薄膜トランジスタ１７６のゲート電極として機能する部分を含む。

導電膜９０７は、第３の薄膜トランジスタ１７３の第１の電極として機能する部分を含み、配線９５５を介して第５の配線５０５と接続される。

導電膜９０８は、第３の薄膜トランジスタ１７３の第２の電極、及び第４の薄膜トランジスタ１７４の第２の電極として機能する部分を含み、画素電極と同時に形成される配線９５６を介して導電膜９０６と接続される。

導電膜９０９は、第３の薄膜トランジスタ１７３のゲート電極として機能する部分を含み、配線９５５を介して第５の配線５０５と接続される。

導電膜９１０は、第５の薄膜トランジスタ１７５の第１の電極として機能する部分を含み、画素電極と同時に形成される配線９５９を介して第５の配線５０５と接続される。

導電膜９１１は、第５の薄膜トランジスタ１７５の第２の電極、及び第７の薄膜トランジスタ１７７の第２の電極として機能する部分を含み、画素電極と同時に形成される配線９５８を介して導電膜９０３と接続される。

導電膜９１２は、第５の薄膜トランジスタ１７５のゲート電極として機能する部分を含み、画素電極と同時に形成される配線９６０を介して第１の配線５０１と接続される。

導電膜９１３は、第６の薄膜トランジスタ１７６の第２の電極として機能する部分を含み、画素電極と同時に形成される配線９５７を介して導電膜９０３と接続される。

導電膜９１４は、第７の薄膜トランジスタ１７７のゲート電極として機能する部分を含み、画素電極と同時に形成される配線９６２を介して第２の配線５０２と接続される。

導電膜９１５は、第８の薄膜トランジスタ１７８のゲート電極として機能する部分を含み、画素電極と同時に形成される配線９６１を介して導電膜９１２と接続される。

導電膜９１６は、第８の薄膜トランジスタ１７８の第２の電極として機能する部分を含み、画素電極と同時に形成される配線９５３を介して導電膜９０６と接続される。

なお、微結晶半導体膜９８１〜９８８の一部は、それぞれ第１の薄膜トランジスタ〜第８の薄膜トランジスタのチャネル形成領域として機能する。

次に、本発明の表示装置の一形態に相当する液晶表示パネルの外観及び断面について、図２０を用いて説明する。図２０Ａは、第１の基板４００１上に形成された微結晶半導体膜を有する薄膜トランジスタ４０１０及び液晶素子４０１３を、第２の基板４００６との間にシール材４００５によって封止した、パネルの上面図であり、図２０（Ｂ）は、図２０（Ａ）のＡ−Ａ’における断面図に相当する。

第１の基板４００１上に設けられた画素部４００２と、走査線駆動回路４００４とを囲むようにして、シール材４００５が設けられている。また画素部４００２と、走査線駆動回路４００４の上に第２の基板４００６が設けられている。よって画素部４００２と、走査線駆動回路４００４とは、第１の基板４００１とシール材４００５と第２の基板４００６とによって、液晶４００８と共に封止されている。また第１の基板４００１上のシール材４００５によって囲まれている領域とは異なる領域に、別途用意された基板上に多結晶半導体膜で形成された信号線駆動回路４００３が実装されている。なお本実施の形態では、多結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタを有する信号線駆動回路４００３を、第１の基板４００１に貼り合わせる例について説明するが、単結晶半導体を用いたトランジスタで信号線駆動回路を形成し、貼り合わせるようにしても良い。図２０（Ｂ）では、信号線駆動回路４００３に含まれる、多結晶半導体膜で形成された薄膜トランジスタ４００９を例示する。

また第１の基板４００１上に設けられた画素部４００２と、走査線駆動回路４００４は、薄膜トランジスタを複数有しており、図２０（Ｂ）では、画素部４００２に含まれる薄膜トランジスタ４０１０とを例示している。薄膜トランジスタ４０１０は微結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタに相当する。

また、液晶素子４０１３が有する画素電極４０３０は、薄膜トランジスタ４０１０とソース電極またはドレイン電極４０４０、配線４０４１を介して電気的に接続されている。そして液晶素子４０１３の対向電極４０３１は第２の基板４００６上に形成されている。画素電極４０３０と対向電極４０３１と液晶４００８とが重なっている部分が、液晶素子４０１３に相当する。

なお、第１の基板４００１、第２の基板４００６としては、ガラス、金属（代表的にはステンレス）、セラミックス、プラスチックを用いることができる。プラスチックとしては、ＦＲＰ（Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ−ＲｅｉｎｆｏｒｃｅｄＰｌａｓｔｉｃｓ）板、ＰＶＦ（ポリビニルフルオライド）フィルム、ポリエステルフィルム、またはアクリル樹脂フィルムを用いることができる。また、アルミニウムホイルをＰＶＦフィルムやポリエステルフィルムで挟んだ構造のシートを用いることもできる。

また、球状のスペーサ４０３５は、画素電極４０３０と対向電極４０３１との間の距離（セルギャップ）を制御するために設けられている。なお絶縁膜をパターニングすることで得られるスペーサを用いていても良い。

また別途形成された信号線駆動回路４００３と、走査線駆動回路４００４または画素部４００２に与えられる各種信号及び電位は、引き回し配線４０１４、４０１５を介して、ＦＰＣ４０１８から供給されている。

本実施の形態では、接続端子４０１６が、液晶素子４０１３が有する画素電極４０３０と同じ導電膜から形成されている。また、引き回し配線４０１４、４０１５は、配線４０４１と同じ導電膜で形成されている。

接続端子４０１６は、ＦＰＣ４０１８が有する端子と、異方性導電膜４０１９を介して電気的に接続されている。

なお図示していないが、本実施の形態に示した液晶表示装置は配向膜、偏光板を有し、更にカラーフィルタや遮蔽膜を有していても良い。

また図２０では、信号線駆動回路４００３を別途形成し、第１の基板４００１に実装している例を示しているが、本実施の形態はこの構成に限定されない。走査線駆動回路を別途形成して実装しても良いし、信号線駆動回路の一部または走査線駆動回路の一部のみを別途形成して実装しても良い。

次に、本発明の表示装置の一形態に相当する発光表示パネルの外観及び断面について、図２１を用いて説明する。図２１（Ａ）は、第１の基板上に形成された微結晶半導体膜をチャネル形成領域に用いた薄膜トランジスタ及び発光素子を、第２の基板との間にシール材によって封止した、パネルの上面図であり、図２１（Ｂ）は、図２１（Ａ）のＡ−Ａ’における断面図に相当する。

第１の基板４００１上に設けられた画素部４００２と、走査線駆動回路４００４とを囲むようにして、シール材４００５が設けられている。また画素部４００２と、走査線駆動回路４００４の上に第２の基板４００６が設けられている。よって画素部４００２と、走査線駆動回路４００４とは、第１の基板４００１とシール材４００５と第２の基板４００６とによって、充填材４００７と共に密封されている。また第１の基板４００１上のシール材４００５によって囲まれている領域とは異なる領域に、別途用意された基板上に多結晶半導体膜で形成された信号線駆動回路４００３が実装されている。なお本実施の形態では、多結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタを有する信号線駆動回路４００３を、第１の基板４００１に貼り合わせる例について説明するが、単結晶半導体を用いたトランジスタで信号線駆動回路を形成し、貼り合わせるようにしても良い。図２１（Ｂ）では、信号線駆動回路４００３に含まれる、多結晶半導体膜で形成された薄膜トランジスタ４００９を例示する。

また第１の基板４００１上に設けられた画素部４００２と、走査線駆動回路４００４は、薄膜トランジスタを複数有しており、図２１（Ｂ）では、画素部４００２に含まれる薄膜トランジスタ４０１０を例示している。なお本実施の形態では、薄膜トランジスタ４０１０が駆動用ＴＦＴであると仮定するが、薄膜トランジスタ４０１０は電流制御用ＴＦＴであっても良いし、消去用ＴＦＴであっても良い。薄膜トランジスタ４０１０は微結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタに相当する。

発光素子４０１１は、第１の電極として機能する画素電極４０３０、発光層、第２の電極４０１２で構成される。なお、第２の電極４０１２は透光性を有する。また、発光素子４０１１が有する画素電極４０３０は、薄膜トランジスタ４０１０のソース電極またはドレイン電極４０４０と、配線４０４１を介して電気的に接続されている。なお発光素子４０１１の構成は、本実施の形態に示した構成に限定されない。発光素子４０１１から取り出す光の方向や、薄膜トランジスタ４０１０の極性などに合わせて、発光素子４０１１の構成は適宜変えることができる。

また、別途形成された信号線駆動回路４００３と、走査線駆動回路４００４または画素部４００２に与えられる各種信号及び電位は、図２１（Ｂ）に示す断面図では図示されていないが、引き回し配線４０１４及び４０１５を介して、ＦＰＣ４０１８から供給されている。

本実施の形態では、接続端子４０１６が、発光素子４０１１が有する画素電極４０３０と同じ導電膜から形成されている。また、引き回し配線４０１４、４０１５は、配線４０４１と同じ導電膜から形成されている。

発光素子４０１１からの光の取り出し方向に位置する基板は、透明でなければならない。その場合には、ガラス板、プラスチック板、ポリエステルフィルムまたはアクリルフィルムのような透光性を有する材料を用いる。

また、充填材４００７としては窒素やアルゴンなどの不活性な気体の他に、紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂を用いることができ、ＰＶＣ（ポリビニルクロライド）、アクリル、ポリイミド、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ＰＶＢ（ポリビニルブチラル）またはＥＶＡ（エチレンビニルアセテート）を用いることができる。本実施の形態では充填材として窒素を用いる。

また、必要であれば、発光素子の射出面に偏光板、又は円偏光板（楕円偏光板を含む）、位相差板（λ／４板、λ／２板）、カラーフィルタなどの光学フィルムを適宜設けてもよい。また、偏光板又は円偏光板に反射防止膜を設けてもよい。例えば、表面の凹凸により反射光を拡散し、映り込みを低減できるアンチグレア処理を施すことができる。

なお、図２１では、信号線駆動回路４００３を別途形成し、第１の基板４００１に実装している例を示しているが、本実施の形態はこの構成に限定されない。走査線駆動回路を別途形成して実装しても良いし、信号線駆動回路の一部または走査線駆動回路の一部のみを別途形成して実装しても良い。

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と組み合わせて実施することが可能である。

（実施の形態３）
本発明により得られる液晶表示装置や発光装置等の表示装置によって、様々なモジュール（アクティブマトリクス型液晶モジュール、アクティブマトリクス型ＥＬモジュール）に用いることができる。即ち、それらを表示部に組み込んだ電子機器全てに本発明を実施できる。

その様な電子機器としては、ビデオカメラやデジタルカメラ等のカメラ、ヘッドマウントディスプレイ（ゴーグル型ディスプレイ）、カーナビゲーション、プロジェクタ、カーステレオ、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末（モバイルコンピュータ、携帯電話または電子書籍等）などが挙げられる。それらの一例を図２２に示す。

図２２（Ａ）はテレビジョン装置である。表示モジュールを、図２２（Ａ）に示すように、筐体に組みこんで、テレビジョン装置を完成させることができる。ＦＰＣまで取り付けられた表示パネルのことを表示モジュールとも呼ぶ。表示モジュールにより主画面２００３が形成され、その他付属設備としてスピーカー部２００９、操作スイッチなどが備えられている。このように、テレビジョン装置を完成させることができる。

図２２（Ａ）に示すように、筐体２００１に表示素子を利用した表示用パネル２００２が組みこまれ、受信機２００５により一般のテレビ放送の受信をはじめ、モデム２００４を介して有線又は無線による通信ネットワークに接続することにより一方向（送信者から受信者）又は双方向（送信者と受信者間、又は受信者間同士）の情報通信をすることもできる。テレビジョン装置の操作は、筐体に組みこまれたスイッチ又は別体のリモコン操作機２００６により行うことが可能であり、このリモコン装置にも出力する情報を表示する表示部２００７が設けられていても良い。

また、テレビジョン装置にも、主画面２００３の他にサブ画面２００８を第２の表示用パネルで形成し、チャネルや音量などを表示する構成が付加されていても良い。この構成において、主画面２００３を視野角の優れた発光表示パネルで形成し、サブ画面を低消費電力で表示可能な液晶表示パネルで形成しても良い。また、低消費電力化を優先させるためには、主画面２００３を液晶表示パネルで形成し、サブ画面２００８を発光表示パネルで形成し、サブ画面２００８は点滅可能とする構成としても良い。

勿論、本発明はテレビジョン装置に限定されず、パーソナルコンピュータのモニタをはじめ、鉄道の駅や空港などにおける情報表示盤や、街頭における広告表示盤など大面積の表示媒体としても様々な用途に適用することができる。

図２２（Ｂ）は携帯電話機２３０１の一例を示している。この携帯電話機２３０１は、表示部２３０２、操作部２３０３などを含んで構成されている。表示部２３０２においては、上記実施の形態で説明した表示装置を適用することで、量産性を高めることができる。

また、図２２（Ｃ）に示す携帯型のコンピュータは、本体２４０１、表示部２４０２等を含んでいる。表示部２４０２に、上記実施の形態に示す表示装置を適用することにより、量産性を高めることができる。

本発明の表示装置の作製方法を説明する断面図である。本発明の表示装置の作製方法を説明する断面図である。本発明の表示装置の作製方法を説明する断面図である。本発明の表示装置の作製方法を説明する断面図である。本発明の表示装置の作製方法を説明する断面図である。本発明の表示装置の作製方法を説明する断面図である。本発明の表示装置の作製方法を説明する断面図である。本発明に適用可能な多階調マスクを説明する図である。本発明に適用可能な多階調マスクを説明する図である。本発明のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置を説明する上面図である。本発明のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置の反応室を説明する断面図である。本発明のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置のガス供給部を説明する図である。本発明のマイクロ波プラズマＣＶＤ装置のガス精製装置を説明する図である。本発明に適用可能な発光装置における画素を説明する断面図である。本発明の表示パネルを説明する斜視図である。本発明に適用可能な表示装置の構成を説明するブロック図である。本発明に適用可能な表示装置の駆動回路の構成を説明する等価回路図である。本発明に適用可能な表示装置の駆動回路の構成を説明する等価回路図である。本発明に適用可能な表示装置の駆動回路のレイアウトを説明する上面図である。本発明の液晶表示パネルを説明する上面図及び断面図である。本発明の発光表示パネルを説明する上面図及び断面図である。本発明の表示装置を用いた電子機器を説明する斜視図である。

Claims

基板上にゲート電極を形成する第１の工程と、
前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成する第２の工程と、
前記ゲート絶縁膜上に微結晶半導体膜を形成する第３の工程と、
前記微結晶半導体膜上に非晶質半導体膜を形成する第４の工程と、
前記非晶質半導体膜上に一導電型を付与する不純物を含む第１の半導体膜を形成する第５の工程と、
前記第１の半導体膜上に第１の導電膜を形成する第６の工程と、
前記第１の導電膜、前記第１の半導体膜、前記非晶質半導体膜、及び前記微結晶半導体膜を島状に加工する第７の工程と、
島状に加工された前記第１の導電膜をエッチングして一対の第２の導電膜を形成する第８の工程と、
島状に加工された前記第１の半導体膜をエッチングして一対の第２の半導体膜を形成する第９の工程と、を有し、
前記第２の工程と前記第３の工程とは同一の反応室内で行われ、
前記第３の工程において、前記反応室内に水素化珪素を導入し、前記反応室内の酸素と前記水素化珪素と反応させることにより生じた反応物を前記反応室外に排出した後に前記微結晶半導体膜を形成し、
前記第４の工程の後であって前記第５の工程の前に、前記非晶質半導体膜表面をハロゲン化することを特徴とする表示装置の作製方法。
基板上にゲート電極を形成する第１の工程と、
前記ゲート電極上にゲート絶縁膜を形成する第２の工程と、
前記ゲート絶縁膜上に微結晶半導体膜を形成する第３の工程と、
前記微結晶半導体膜上に非晶質半導体膜を形成する第４の工程と、
前記非晶質半導体膜上に一導電型を付与する不純物を含む第１の半導体膜を形成する第５の工程と、
前記第１の半導体膜上に第１の導電膜を形成する第６の工程と、
前記第１の導電膜、前記第１の半導体膜、前記非晶質半導体膜、及び前記微結晶半導体膜を島状に加工する第７の工程と、
島状に加工された前記第１の導電膜をエッチングして一対の第２の導電膜を形成する第８の工程と、
島状に加工された前記第１の半導体膜をエッチングして一対の第２の半導体膜を形成する第９の工程と、を有し、
前記第２の工程と前記第３の工程とは同一の反応室内で行われ、
前記第３の工程において、前記反応室内に水素化珪素を導入し、前記反応室内の酸素と前記水素化珪素と反応させることにより生じた反応物を前記反応室外に排出した後に前記微結晶半導体膜を形成し、
前記第４の工程の後であって前記第５の工程の前に、前記非晶質半導体膜表面を窒素化することを特徴とする表示装置の作製方法。