JP2010515246A - エッチング後残留物を除去するための液体洗浄剤 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、マイクロ電子デバイスからエッチング後残留物(チタン含有、銅含有および/またはタングステン含有のエッチング後残留物を含む)を除去するための組成物、ならびにその製造および使用方法に関する。
半導体回路内の相互接続回路は、絶縁性誘電材料に包囲された導電性金属回路からなる。かつては、誘電材料としてテトラエチルオルトシリケート(TEOS)から蒸着されたシリケートガラスが広く使用され、金属相互接続のためにはアルミニウム合金が使用された。より速い処理速度への要求によって、TEOSおよびアルミニウム合金をより高性能の材料で代替すると共に、回路素子の小型化がもたらされた。アルミニウム合金は、銅の導電率がより高いために、銅または銅合金で代替された。TEOSおよびフッ素化シリケートガラス(FSG)は、有機ポリマー、有機/無機複合材料、有機シリケートガラス(OSG)、および炭素ドープ酸化物(CDO)ガラスなどの低極性材料を含むいわゆる低誘電率(low-k)誘電体によって代替された。これらの材料に多孔性、すなわち空気で満たされた細孔を取り込むと、材料の誘電率はさらに低下する。
本発明は、一般に、洗浄組成物ならびにその製造および使用方法に関する。本発明の1つの態様は、プラズマエッチング後残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから前記残留物を洗浄するが、同時に、マイクロ電子デバイス表面上の金属およびILD材料を傷つけない組成物および方法に関する。
(I)少なくとも1種のキレート剤、場合により少なくとも1種の有機溶媒、および場合により少なくとも1種の腐食防止剤、
(II)少なくとも1種の金属腐食防止剤、場合により少なくとも1種の有機溶媒、および場合により少なくとも1種の金属キレート剤、または
(III)少なくとも1種の有機溶媒、場合により少なくとも1種のキレート剤、および場合により少なくとも1種の腐食防止剤、
を含むことを特徴とし、キットは、プラズマエッチング後残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから前記残留物を洗浄するために適切である水性洗浄組成物を形成するように適合される。
本発明は、残留物、好ましくはエッチング後残留物、より好ましくはチタン含有エッチング後残留物、高分子側壁残留物、銅含有ビアおよびライン残留物、ならびに/またはタングステン含有エッチング後残留物を、前記残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから除去するための組成物に関し、前記組成物は、好ましくは、マイクロ電子デバイス表面上の、超低誘電率(ULK)ILD材料、例えばOSGおよび多孔質CDOなど、金属相互接続材料、例えば銅およびタングステン、ハードマスクキャッピング層、例えばTiN、ならびにコバルトキャッピング層、例えばCoWPと適合性である。さらに、本発明は、残留物、好ましくはエッチング後残留物、より好ましくはチタン含有エッチング後残留物、高分子側壁残留物、銅含有ビアおよびライン残留物、タングステン含有エッチング後残留物、ならびに/またはコバルト含有エッチング後残留物を、前記残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから、組成物を用いて除去する方法に関し、前記組成物は、好ましくは、マイクロ電子デバイス表面上の超低誘電率(ULK)ILD材料、金属相互接続材料、およびキャッピング層と適合性である。
配合物A: フルオロケイ酸:1.2重量%、ブチルカルビトール:15.0重量%、水:72.8重量%、アスコルビン酸:1.0重量%、メタンスルホン酸:10.0重量%
配合物B: フルオロケイ酸:1.2重量%、ブチルカルビトール:15.0重量%、水:72.8重量%、アスコルビン酸:1.0重量%、酢酸:10.0重量%
配合物C: フルオロケイ酸:1.2重量%、水:87.8重量%、ZONYL FSO−100:0.5重量%、アスコルビン酸:0.5重量%、酢酸:10.0重量%
配合物D: フルオロケイ酸:0.7重量%、ブチルカルビトール:8.0重量%、水:86.1重量%、アスコルビン酸:0.2重量%、メタンスルホン酸:5.0重量%
配合物E: フルオロケイ酸:0.9重量%、ブチルカルビトール:32.4重量%、水:59.9重量%、アスコルビン酸:0.3重量%、メタンスルホン酸:6.5重量%
配合物F: フルオロケイ酸:0.6重量%、ブチルカルビトール:19.7重量%、水:67.7重量%、アスコルビン酸:0.2重量%、メタンスルホン酸:11.8重量%
配合物G: フルオロケイ酸:0.7重量%、ブチルカルビトール:8.0重量%、水:85.9重量%、アスコルビン酸:0.2重量%、メタンスルホン酸:5.0重量%、塩酸:0.2重量%
配合物H: フルオロケイ酸:0.7重量%、ブチルカルビトール:8.0重量%、水:88.3重量%、アスコルビン酸:0.5重量%、NMMO:2.5重量%
配合物I: 水:88.63重量%、ジ(プロピレングリコール)メチルエーテル:6.75重量%、H2SiF6:1.01重量%、TEOS:0.29重量%、ペンタメチルジエチレントリアミン:1.20重量%、アスコルビン酸:2.41重量%、pH=3、密度=1.01g/mL
配合物J: 水:91.64重量%、ジ(プロピレングリコール)メチルエーテル:5.00重量%、H2SiF6:1.01重量%、TEOS:0.35重量%、スルホラン:2.00重量%、pH=1.60、密度=1.01g/mL
配合物K: 3−クロロ−1,2−プロパンジオール:40.00重量%、水:43.40重量%、ホウ酸:1.00重量%、トリプロピレングリコールメチルエーテル:25.00重量%、アスコルビン酸:0.50重量%、TBA−BF4:0.10重量%
配合物L: 3−クロロ−1,2−プロパンジオール:40.00重量%、水:35.50重量%、ホウ酸:1.00重量%、トリプロピレングリコールメチルエーテル:20.00重量%、アスコルビン酸:2.00重量%、TBA−BF4:0.50重量%、マロン酸:1.00重量%
配合物M: 水:88.97重量%、ジ(プロピレングリコール)メチルエーテル:6.71重量%、H2SiF6:1.01重量%、TEOS:0.30重量%、アスコルビン酸:2.39重量%、イミノ二酢酸:0.62重量%
配合物N: 水:89.45重量%、ジ(プロピレングリコール)メチルエーテル:6.83重量%、(NH4)2SiF6:0.99重量%、TEOS:0.29重量%、アスコルビン酸:2.44重量%、pH=2.9、密度=1.01g/mL
配合物O: 水:79.0重量%、3−クロロ−1,2−プロパンジオール:20.0重量%、Bz TMAF:0.15重量%、プロピレングリコール:0.85重量%、pH=2.7
配合物P: 水:78.7重量%、3−クロロ−1,2−プロパンジオール:20.0重量%、Bz TMAF:0.15重量%、プロピレングリコール:0.85重量%、BTA:0.3重量%、pH=3.5
配合物Q: 水:90.6重量%、3−クロロ−1,2−プロパンジオール:8.0重量%、Bz TMAF:0.2重量%、プロピレングリコール:1.1重量%、BTA:0.1重量%、pH=3.6
配合物R: 水:90.45重量%、3−クロロ−1,2−プロパンジオール:8.0重量%、Bz TMAF:0.19重量%、プロピレングリコール:1.06重量%、BTA:0.3重量%、pH3.5
配合物S: 水:79.50〜79.99重量%、DMSO:20.0重量%、ヘキサフルオロリン酸テトラメチルアンモニウム0.01〜0.5重量%
配合物AA: 30.0重量%のジエチレングリコールブチルエーテル、62.87重量%の水、5.63重量%のHCl、1.00重量%のトリエタノールアミン、0.50重量%のアスコルビン酸
配合物AB: 30.0重量%のジエチレングリコールブチルエーテル、54.00重量%の水、10.00重量%のメタンスルホン酸、5.00重量%アセチルアセトン、0.50重量%のイミノ二酢酸、0.50重量%のアスコルビン酸
配合物AC: 30.0重量%のジエチレングリコールブチルエーテル、15.0重量%のジエチレングリコールメチルエーテル、44.00重量%の水、10.00重量%のメタンスルホン酸、0.50重量%のイミノ二酢酸、0.50重量%のアスコルビン酸
配合物AD: 30.0重量%のジエチレングリコールブチルエーテル、15.0重量%のトリプロピレングリコールメチルエーテル、44.00重量%の水、10.00重量%のメタンスルホン酸、0.50重量%のイミノ二酢酸、0.50重量%のアスコルビン酸
配合物AE: 90.0重量%の3−クロロ−1,2−プロパンジオール、10.0重量%のメタンスルホン酸
配合物AF: 90.0重量%の3−クロロ−1,2−プロパンジオール、9.0重量%のメタンスルホン酸、1.0重量%の塩化テトラメチルアンモニウム
配合物AG: 80.0重量%の3−クロロ−1,2−プロパンジオール、20.0重量%のジイソプロピルアミン
配合物AH: 80.0重量%のトリプロピレングリコールメチルエーテル、20.0重量%のジイソプロピルアミン
配合物AI: 80.0重量%のトリプロピレングリコールメチルエーテル、20.0重量%のペンタメチルジエチレントリアミン
配合物AJ: 40.0重量%の3−クロロ−1,2−プロパンジオール、40.0重量%のトリプロピレングリコールメチルエーテル、20.0重量%のペンタメチルジエチレントリアミン
配合物AK: 30.0重量%の3−クロロ−1,2−プロパンジオール、30.0重量%のトリプロピレングリコールメチルエーテル、30.0重量%のプロピレンカルボナート、10.0重量%のメタンスルホン酸
配合物AL: メタンスルホン酸:10.00重量%、トリ(プロピレングリコール)メチルエーテル:50.00重量%、3−クロロ−1,2−プロパンジオール:40.00重量%、pH=1.70(水で50:1に希釈)、密度=1.14gmL−1、25℃における粘度=31.35cSt
配合物AM: ペンタメチルジエチレントリアミン:10.00重量%、トリ(プロピレングリコール)メチルエーテル:50.00重量%、プロピレングリコール:40.00重量%、pH=10.56(水で50:1に希釈)、密度=0.98gmL−1、25℃における粘度=14.55cSt
配合物AN: ペンタメチルジエチレントリアミン:10.00重量%、トリ(プロピレングリコール)メチルエーテル:50.00重量%、プロピレングリコール:39.25重量%、PG/HF(96:4):0.75重量%、pH=10.40(水で50:1に希釈)、密度=0.98g/mL
配合物AO: ペンタメチルジエチレントリアミン:10.00重量%、トリ(プロピレングリコール)メチルエーテル:50.00重量%、プロピレングリコール:39.50重量%、PG/HF(96:4):0.50重量%、pH=10.40(水で50:1に希釈)、密度=0.98g/mL
配合物AP: ペンタメチルジエチレントリアミン:20.00重量%、トリ(プロピレングリコール)メチルエーテル:44.444重量%、プロピレングリコール:35.556重量%、pH=10.56(水で50:1に希釈)、密度=0.98g/mL
配合物AQ: ペンタメチルジエチレントリアミン:9.756重量%、トリ(プロピレングリコール)メチルエーテル:48.780重量%、プロピレングリコール:39.024重量%、PG/テトラブチルフッ化アンモニウム(85:15):2.440重量%
配合物AR: ペンタメチルジエチレントリアミン:9.756重量%、トリ(プロピレングリコール)メチルエーテル:48.780重量%、プロピレングリコール:39.024重量%、PG/ベンジルメチルフッ化アンモニウム(85:15):2.440重量%
配合物AS: ペンタメチルジエチレントリアミン:20.00重量%、トリ(プロピレングリコール)メチルエーテル:44.20重量%、プロピレングリコール:35.30重量%、テトラフルオロホウ酸テトラブチルアンモニウム(TBA−BF4):0.50重量%
配合物AT: ペンタメチルジエチレントリアミン:20.00重量%、トリ(プロピレングリコール)メチルエーテル:39.75重量%、プロピレングリコール:39.75重量%、テトラフルオロホウ酸テトラブチルアンモニウム(TBA−BF4):0.50重量%
配合物AU: ペンタメチルジエチレントリアミン:20.00重量%、トリ(プロピレングリコール)メチルエーテル:22.30重量%、プロピレングリコール:57.20重量%、テトラフルオロホウ酸テトラブチルアンモニウム(TBA−BF4):0.50重量%
配合物AV: ペンタメチルジエチレントリアミン:20.00重量%、トリ(プロピレングリコール)メチルエーテル:20.00重量%、プロピレングリコール:42.00重量%、ガンマ−ブチロラクトン(GBL):15.00重量%、PG/HF(96:4):3.00重量%
配合物AW: ペンタメチルジエチレントリアミン:20.00重量%、プロピレングリコール:52.00重量%、ガンマ−ブチロラクトン:25.00重量%、PG/HF(96:4):3.00重量%、pH=9.90(水で50:1に希釈)、密度=1.03g/mL
配合物AX: ペンタメチルジエチレントリアミン:20.00重量%、プロピレングリコール:52.00重量%、トリ(プロピレングリコール)メチルエーテル:25.00重量%、PG/HF(96:4):3.00重量%
配合物AY: ペンタメチルジエチレントリアミン:19.98重量%、プロピレングリコール:51.31重量%、ガンマ−ブチロラクトン:24.97重量%、PG/HF(96:4):2.99重量%、ベンゾトリアゾール:0.75重量%、pH=10.03(水で50:1に希釈)、密度=1.03g/mL
配合物A〜H中のブランケット化ULK、窒化チタン、CuおよびWのエッチング速度を決定した。ブランケット化材料の厚さは、50℃で配合物A〜H中に浸漬する前および浸漬した後に測定した。厚さは、組成物の抵抗率を、残存する膜の厚さおよびそれから計算されるエッチング速度と相関させる4点プローブ測定を用いて決定した。実験的エッチング速度は表1に報告される。
配合物AAおよびAB中のブランケット化ULK、窒化チタン、CuおよびWのエッチング速度を決定した。ブランケット化材料の厚さは、50℃で配合物AAおよびAB中に浸漬する前および浸漬した後に測定した。厚さは、組成物の抵抗率を、残存する膜の厚さおよびそれから計算されるエッチング速度と相関させる4点プローブ測定を用いて決定した。実験的エッチング速度は表3に報告される。
配合物AC〜AK中のブランケット化ULK、窒化チタン、CuおよびWのエッチング速度を決定した。ブランケット化材料の厚さは、50℃で65分間、配合物AC〜AK中に浸漬する前および浸漬した後に測定した。厚さは、組成物の抵抗率を、残存する膜の厚さおよびそれから計算されるエッチング速度と相関させる4点プローブ測定を用いて決定した。実験的エッチング速度は表5に報告される。
配合物AL〜AY中のブランケット化ULK、窒化チタン、CuおよびWのエッチング速度を決定した。ブランケット化材料の厚さは、他に記載がない限り、50℃で65分間、配合物AL〜AY中に浸漬する前および浸漬した後に測定した。厚さは、組成物の抵抗率を、残存する膜の厚さおよびそれから計算されるエッチング速度と相関させる4点プローブ測定を用いて決定した。実験的エッチング速度は表7に報告される。
配合物I〜L中のブランケット化ULK、窒化チタン、CuおよびWのエッチング速度を決定した。ブランケット化材料の厚さは、他に記載がない限り50℃で65分間、配合物I〜L中に浸漬する前および浸漬した後に測定した。厚さは、組成物の抵抗率を、残存する膜の厚さおよびそれから計算されるエッチング速度と相関させる4点プローブ測定を用いて決定した。実験的エッチング速度は表9に報告される。
配合物N〜R中のブランケット化ULK、窒化チタン、CuおよびWのエッチング速度を決定した。ブランケット化材料の厚さは、50℃で30分間、配合物N〜R中に浸漬する前および浸漬した後に測定した。厚さは、組成物の抵抗率を、残存する膜の厚さおよびそれから計算されるエッチング速度と相関させる4点プローブ測定を用いて決定した。実験的エッチング速度は表10に報告される。
Claims (33)
- 少なくとも1種のエッチャントと、水と、場合により少なくとも1種の低誘電率不動態化剤と、場合により少なくとも1種の界面活性剤と、場合によりシリカ源とを含む水性洗浄組成物であって、前記組成物がさらに、成分(I)、(II)または(III):
(I)少なくとも1種のキレート剤、場合により少なくとも1種の有機溶媒、および場合により少なくとも1種の腐食防止剤、
(II)少なくとも1種の金属腐食防止剤、場合により少なくとも1種の有機溶媒、および場合により少なくとも1種の金属キレート剤、または
(III)少なくとも1種の有機溶媒、場合により少なくとも1種のキレート剤、および場合により少なくとも1種の腐食防止剤
を含むことを特徴とし、プラズマエッチング後残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから前記残留物を洗浄するために適切である水性洗浄組成物。 - 少なくとも1種の有機溶媒と、少なくとも1種の金属キレート剤と、場合により少なくとも1種の界面活性剤と、場合により少なくとも1種の腐食防止剤と、場合により少なくとも1種の低誘電率不動態化剤と、場合により少なくとも1種のエッチャントと、場合により水とを含む洗浄組成物であって、プラズマエッチング後残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから前記残留物を洗浄するために適切である洗浄組成物。
- 前記プラズマエッチング後残留物が、チタン含有化合物、高分子化合物、銅含有化合物、タングステン含有化合物、コバルト含有化合物、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される残留物を含む請求項1または2に記載の洗浄組成物。
- 前記少なくとも1種のエッチャントが、フッ化水素酸、フルオロケイ酸、フルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸テトラメチルアンモニウム、フッ化アンモニウム塩、重フッ化アンモニウム塩、フルオロケイ酸アンモニウム、テトラフルオロホウ酸テトラブチルアンモニウム、プロピレングリコール/HF、プロピレングリコール/フッ化テトラアルキルアンモニウム、プロピレングリコール/フッ化ベンジルトリメチルアンモニウム、およびこれらの組み合わせからなる群から選択されるフッ素種を含む請求項1または2に記載の洗浄組成物。
- 前記少なくとも1種の有機溶媒が、アルコール、エーテル、ピロリジノン、アミン、グリコール、グリコールエーテル、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される種を含む請求項1または2に記載の洗浄組成物。
- 前記少なくとも1種の有機溶媒が、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジオール、3−クロロ−1,2−プロパンジオール、トリオール、3−クロロ−1−プロパンチオール、1−クロロ−2−プロパノール、2−クロロ−1−プロパノール、3−クロロ−1−プロパノール、3−ブロモ−1,2−プロパンジオール、1−ブロモ−2−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノール、3−ヨード−1−プロパノール、4−クロロ−1−ブタノール、2−クロロエタノール、ジクロロメタン、クロロホルム、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、テトラヒドロフラン(THF)、N−メチルピロリジノン(NMP)、シクロヘキシルピロリジノン、N−オクチルピロリジノン、N−フェニルピロリジノン、メチルジエタノールアミン、ギ酸メチル、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、テトラメチレンスルホン(スルホラン)、ジエチルエーテル、フェノキシ−2−プロパノール(PPh)、プロプリオフェノン、乳酸エチル、酢酸エチル、安息香酸エチル、アセトニトリル、アセトン、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−プロパンジオール、ジオキサン、ブチリルラクトン、ブチレンカルボナート、エチレンカルボナート、プロピレンカルボナート、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールn−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールn−プロピルエーテル(DPGPE)、トリプロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールn−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールn−ブチルエーテル、プロピレングリコールフェニルエーテル、ガンマ−ブチロラクトン、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される亜種を含む請求項1または2に記載の洗浄組成物。
- 前記少なくとも1種のキレート剤が、1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロ−2,4−ペンタンジオン(hfacH)、1,1,1−トリフルオロ−2,4−ペンタンジオン(tfac)、およびアセチルアセトナート(acac)、イミノ二酢酸、ピラゾラート、アミジナート、グアニジナート、ケトイミン、ジエン、ポリアミン、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、1,2−シクロヘキサンジアミン−N,N,N’,N’−四酢酸(CDTA)、エチドロン酸、メタンスルホン酸、塩酸、酢酸、アルキルアミン、アリールアミン、グリコールアミン、アルカノールアミン、トリアゾール、チアゾール、テトラゾール、イミダゾール、1,4−ベンゾキノン、8−ヒドロキシキノリン、サリチリデンアニリン、テトラクロロ−1,4−ベンゾキノン、2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾオキサゾール、2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾチアゾール、ヒドロキシキノリンスルホン酸(HQSA)、スルホサリチル酸(SSA)、サリチル酸(SA)、フッ化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テトラメチルアンモニウム、ピリジン、2−エチルピリジン、2−メトキシピリジン、3−メトキシピリジン、2−ピコリン、ピリジン誘導体、ジメチルピリジン、ピペリジン、ピペラジン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、エチルアミン、メチルアミン、イソブチルアミン、tert−ブチルアミン、トリブチルアミン、ジプロピルアミン、ジメチルアミン、ジグリコールアミン、モノエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、ピロール、イソオキサゾール、1,2,4−トリアゾール、ビピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、インドール、イミダゾール、N−メチルモルホリン−N−オキシド(NMMO)、トリメチルアミン−N−オキシド、トリエチルアミン−N−オキシド、ピリジン−N−オキシド、N−エチルモルホリン−N−オキシド、N−メチルピロリジン−N−オキシド、N−エチルピロリジン−N−オキシド、1−メチルイミダゾール、ジイソプロピルアミン、ジイソブチルアミン、アニリン、アニリン誘導体、ペンタメチルジエチレントリアミン、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される種を含む請求項1または2に記載の洗浄組成物。
- 前記少なくとも1種の金属腐食防止剤が、ベンゾトリアゾール(BTA)、1,2,4−トリアゾール(TAZ)、5−アミノテトラゾール(ATA)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2−チオール、3−アミノ−1H−1,2,4トリアゾール、3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾール、トリルトリアゾール、5−フェニル−ベンゾトリアゾール、5−ニトロ−ベンゾトリアゾール、3−アミノ−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、1−アミノ−1,2,4−トリアゾール、2−(5−アミノ−ペンチル)−ベンゾトリアゾール、1−アミノ−1,2,3−トリアゾール、1−アミノ−5−メチル−1,2,3−トリアゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3−イソプロピル−1,2,4−トリアゾール、5−フェニルチオール−ベンゾトリアゾール、ハロ−ベンゾトリアゾール(ハロ=F、Cl、Br、I)、ナフトトリアゾール、1H−テトラゾール−5−酢酸、2−メルカプトベンゾチアゾール(2−MBT)、1−フェニル−2−テトラゾリン−5−チオン、2−メルカプトベンゾイミダゾール(2−MBI)、4−メチル−2−フェニルイミダゾール、2−メルカプトチアゾリン、2,4−ジアミノ−6−メチル−1,3,5−トリアジン、チアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、トリアジン、メチルテトラゾール、ビスムチオールI、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1,5−ペンタメチレンテトラゾール、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、ジアミノメチルトリアジン、イミダゾリンチオン、4−メチル−4H−1,2,4−トリアゾール−3−チオール、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2−チオール、ベンゾチアゾール、リン酸トリトリル、インダゾール、アデニン、シトシン、グアニン、チミン、リン酸阻害剤、アミン、ピラゾール、プロパンチオール、シラン、第2級アミン、ベンゾヒドロキサム酸、複素環式窒素阻害剤、クエン酸、アスコルビン酸、チオ尿素、1,1,3,3−テトラメチル尿素、尿素、尿素誘導体、尿酸、エチルキサントゲン酸カリウム、グリシン、イミノ二酢酸、酸、ホウ酸、マロン酸、コハク酸、ニトリロ三酢酸、スルホラン、2,3,5−トリメチルピラジン、2−エチル−3,5−ジメチルピラジン、キノキサリン、アセチルピロール、ピリダジン、ヒスタジン、ピラジン、グルタチオン(還元型)、システイン、シスチン、チオフェン、メルカプトピリジンN−オキシド、チアミンHCl、テトラエチルチウラムジスルフィド、2,5−ジメルカプト−1,3−チアジアゾールアスコルビン酸、アスコルビン酸、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される種を含む請求項1に記載の洗浄組成物。
- シリカ源を含み、前記シリカ源がTEOSを含む請求項1に記載の洗浄組成物。
- 前記組成物が、チタン含有残留物、高分子残留物、銅含有残留物、タングステン含有残留物、コバルト含有残留物、およびこれらの組み合わせからなる群から選択されるプラズマエッチング後残留物をさらに含む請求項1または2に記載の洗浄組成物。
- 少なくとも1種の有機溶媒と、少なくとも1種のエッチャントと、少なくとも1種のキレート剤と、シリカ源と、少なくとも1種の腐食防止剤と、水とを含み、エッチャントに対する有機溶媒の重量パーセント比が約5〜約8であり、エッチャントに対する水の重量パーセント比が約85〜約91であり、エッチャントに対するシリカ源の重量パーセント比が約0.1〜約0.5であり、エッチャントに対するキレート剤の重量パーセント比が約0.5〜約2.5であり、エッチャントに対する腐食防止剤の重量パーセント比が約1〜約4である請求項1に記載の洗浄組成物。
- 少なくとも1種の有機溶媒と、少なくとも1種のエッチャントと、シリカ源と、少なくとも1種の腐食防止剤と、水とを含み、エッチャントに対する有機溶媒の重量パーセント比が約3〜約7であり、エッチャントに対する水の重量パーセント比が約88〜約93であり、エッチャントに対するシリカ源の重量パーセント比が約0.1〜約0.5であり、エッチャントに対する腐食防止剤の重量パーセント比が約1〜約4である請求項1に記載の洗浄組成物。
- 少なくとも1種の有機溶媒と、少なくとも1種のエッチャントと、少なくとも1種の腐食防止剤と、水とを含み、エッチャントに対する有機溶媒の重量パーセント比が約60〜約90であり、エッチャントに対する水の重量パーセント比が約2〜約30であり、エッチャントに対する腐食防止剤の重量パーセント比が約0.01〜約0.5である請求項1に記載の洗浄組成物。
- pHが約0〜約5の範囲である請求項1、11、12または13のいずれか一項に記載の洗浄組成物。
- 少なくとも1種の腐食防止剤と、少なくとも1種の低誘電率不動態化剤と、水とをさらに含む請求項2に記載の洗浄組成物。
- 少なくとも1種のエッチャントをさらに含む請求項2に記載の洗浄組成物。
- 少なくとも1種の腐食防止剤および少なくとも1種のエッチャントをさらに含む請求項2に記載の洗浄組成物。
- ペンタメチルジエチレントリアミン、プロピレングリコール、ガンマ−ブチロラクトン、およびプロピレングリコール/HFを含む請求項2に記載の洗浄組成物。
- ペンタメチルジエチレントリアミン、プロピレングリコール、ガンマ−ブチロラクトン、プロピレングリコール/HF、およびベンゾトリアゾールを含む請求項17に記載の洗浄組成物。
- 水性洗浄組成物を形成するために以下の試薬の1つまたは複数を1つまたは複数の容器内に含むキットであって、前記1つまたは複数の試薬が、少なくとも1種のエッチャント、水、場合により少なくとも1種の低誘電率不動態化剤、場合により少なくとも1種の界面活性剤、および場合によりシリカ源からなる群から選択され、前記組成物がさらに、成分(I)、(II)または(III):
(I)少なくとも1種のキレート剤、場合により少なくとも1種の有機溶媒、および場合により少なくとも1種の腐食防止剤、
(II)少なくとも1種の金属腐食防止剤、場合により少なくとも1種の有機溶媒、および場合により少なくとも1種の金属キレート剤、または
(III)少なくとも1種の有機溶媒、場合により少なくとも1種のキレート剤、および場合により少なくとも1種の腐食防止剤
を含むことを特徴とし、プラズマエッチング後残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから前記残留物を洗浄するために適切である水性洗浄組成物を形成するように適合されたキット。 - 洗浄組成物を形成するために以下の試薬の1つまたは複数を1つまたは複数の容器内に含むキットであって、前記1つまたは複数の試薬が、少なくとも1種の有機溶媒、少なくとも1種の金属キレート剤、場合により少なくとも1種の界面活性剤、場合により少なくとも1種の腐食防止剤、場合により少なくとも1種の低誘電率不動態化剤、場合により少なくとも1種のエッチャント、および場合により水からなる群から選択され、プラズマエッチング後残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから前記残留物を洗浄するために適切である洗浄組成物を形成するように適合されたキット。
- 材料をその上に有するマイクロ電子デバイスから前記材料を除去する方法であって、前記方法が、前記マイクロ電子デバイスから前記材料を少なくとも部分的に除去するのに十分な時間、前記マイクロ電子デバイスを水性洗浄組成物と接触させることを含み、前記水性洗浄組成物が、少なくとも1種のエッチャント、水、場合により少なくとも1種の低誘電率不動態化剤、場合により少なくとも1種の界面活性剤、および場合によりシリカ源を含み、前記組成物がさらに、成分(I)、(II)または(III):
(I)少なくとも1種のキレート剤、場合により少なくとも1種の有機溶媒、および場合により少なくとも1種の腐食防止剤、
(II)少なくとも1種の金属腐食防止剤、場合により少なくとも1種の有機溶媒、および場合により少なくとも1種の金属キレート剤、または
(III)少なくとも1種の有機溶媒、場合により少なくとも1種のキレート剤、および場合により少なくとも1種の腐食防止剤
を含むことを特徴とする方法。 - プラズマエッチング後残留物をその上に有するマイクロ電子デバイスから前記残留物を除去する方法であって、前記方法が、前記マイクロ電子デバイスから前記残留物を少なくとも部分的に除去するのに十分な時間、前記マイクロ電子デバイスを洗浄組成物と接触させることを含み、前記洗浄組成物が、少なくとも1種の有機溶媒、少なくとも1種の金属キレート剤、場合により少なくとも1種の界面活性剤、場合により少なくとも1種の腐食防止剤、場合により少なくとも1種の低誘電率不動態化剤、場合により少なくとも1種のエッチャント、および場合により水を含む方法。
- 前記材料が、プラズマエッチング後残留物、TiN、またはこれらの組み合わせを含む請求項22に記載の方法。
- 前記プラズマエッチング後残留物が、チタン含有化合物、高分子化合物、銅含有化合物、タングステン含有化合物、コバルト含有化合物、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される残留物を含む請求項23または24に記載の方法。
- 前記接触が、約1分〜約30分の時間、約40℃〜約70℃の範囲の温度、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される条件を含む請求項22または23に記載の方法。
- 前記マイクロ電子デバイスが、半導体基板、フラットパネルディスプレイ、およびマイクロエレクトロメカニカルシステム(MEMS)からなる群から選択される物品の一部である請求項22または23に記載の方法。
- 前記マイクロ電子デバイスが、超低誘電率誘電体層を含む請求項22または23に記載の方法。
- 前記接触が、前記マイクロ電子デバイスの表面に前記組成物をスプレーする工程、十分な容積の前記組成物中に前記マイクロ電子デバイスを浸漬する工程、前記マイクロ電子デバイスの表面を、前記組成物で飽和した別の材料と接触させる工程、および前記マイクロ電子デバイスを循環する組成物と接触させる工程からなる群から選択される工程を含む請求項22または23に記載の方法。
- 前記組成物との接触後に前記マイクロ電子デバイスを脱イオン水で洗い流すことをさらに含む請求項22または23に記載の方法。
- 前記組成物が、チタン含有残留物、高分子残留物、銅含有残留物、タングステン含有残留物、コバルト含有残留物、およびこれらの組み合わせからなる群から選択されるプラズマエッチング後残留物をさらに含む請求項22または23に記載の方法。
- 前記マイクロ電子デバイスから不揮発性材料を除去するためのポストベークステップをさらに含む請求項22または23に記載の方法。
- 前記マイクロ電子デバイスから不揮発性材料を除去するためのイソプロパノール蒸気乾燥ステップをさらに含む請求項22または23に記載の方法。
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