JP2010257565A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 231
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910018979 CoPt Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 229910020599 Co 3 O 4 Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 claims description 18
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910019222 CoCrPt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000002463 transducing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 189
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 33
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 31
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 9
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000009812 interlayer coupling reaction Methods 0.000 description 6
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910000684 Cobalt-chrome Inorganic materials 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 description 2
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 2
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 2
- 239000010952 cobalt-chrome Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 2
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005374 Kerr effect Effects 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000005316 antiferromagnetic exchange Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- UBEWDCMIDFGDOO-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+);cobalt(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Co+2].[Co+3].[Co+3] UBEWDCMIDFGDOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/82—Disk carriers
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
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Abstract
【解決手段】本発明は、垂直磁気記録方式での情報記録に用いる垂直磁気記録媒体であって、基板上に、少なくとも軟磁性層と下地層と磁性層とを備える垂直磁気記録媒体である。前記磁性層は、複数の磁性層を含む多層構成からなり、そのうちの少なくとも一層の磁性層は、酸化物を含有するCoPt磁性粒子を含む。また、この酸化物は、SiO2、TiO2、Cr2O3、Ta2O5、WO3、CoO、Co3O4から選ばれる少なくとも一つの材料である。
【選択図】図1
Description
垂直磁気記録方式での情報記録に用いる垂直磁気記録媒体であって、基板上に、少なくとも軟磁性層と下地層と磁性層とを備える垂直磁気記録媒体において、前記磁性層は、複数の磁性層を含む多層構成からなり、そのうちの少なくとも一層の磁性層は、酸化物を含有するCoPt磁性粒子を含むことを特徴とする垂直磁気記録媒体。
前記酸化物は、SiO2、TiO2、Cr2O3、Ta2O5、WO3、CoO、Co3O4から選ばれる少なくとも一つの材料であることを特徴とする構成1に記載の垂直磁気記録媒体。
前記最上の磁性層に含まれるCoPt磁性粒子中の酸化物含有量は、8〜15原子%の範囲であることを特徴とする構成1又は2に記載の垂直磁気記録媒体。
前記磁性層は2層の磁性層を含み、そのうちの下方または上方の磁性層は、酸化物を含有するCoCrPt磁性粒子を含むことを特徴とする構成1乃至3のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体。
前記下地層は、Ru又はその合金を主成分とする材料からなることを特徴とする構成1乃至4のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体。
したがって、磁気特性及び熱安定性を劣化させずに、電磁変換特性を向上させ、よりいっそうの高記録密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体を提供することができる。
図1は、本発明の一実施の形態に係る垂直磁気記録媒体100の層構造を示した断面図である。かかる垂直磁気記録媒体100は、基体(ディスク基体)110、付着層112、軟磁性層114、配向制御層116、下地層118、オンセット層120、第一磁性層122、第二磁性層124、層間結合層125、連続層126、媒体保護層128、潤滑層130で構成することができる。
(実施例1)
アモルファスのアルミノシリケートガラスをダイレクトプレスで円盤状に成型し、ガラスディスクを作製した。このガラスディスクに研削、研磨、化学強化を順次施し、化学強化ガラスディスクからなる平滑な非磁性ディスク基体を得た。ガラス基板の直径は、65mm、内径は20mm、ディスク厚は0.635mmの2.5インチ型磁気ディスク用基板であった。ここで、得られたガラス基板の表面粗さをAFM(原子間力顕微鏡)で観察したところ、Rmaxが2.18nm、Raが0.18nmの平滑な表面であることを確認した。なお、Rmax及びRaは、日本工業規格(JIS)に従う。
次に、軟磁性層114a、114cは、20nmのアモルファスFeCoTaZr(Fe:37at%、Co:55at%、Ta:3at%、Zr:5at%)層となるように、FeCoTaZrターゲットを用いて成膜した。非磁性スペーサ層114bとしてはRuターゲットを用いて0.5nmのRu層を成膜した。
この後、PFPE(パーフロロポリエーテル)からなる潤滑層130をディップコート法により形成した。潤滑層130の膜厚は1nmである。
以上のようにして、実施例1の垂直磁気記録媒体を得た。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoCrPt−TiO2(Co:62at%、Cr:7at%、Pt:19at%、TiO2:12at%)とした。
(比較例2)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoCrPt−TiO2(Co:66at%、Cr:3at%、Pt:19at%、TiO2:12at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−TiO2(Co:72at%、Pt:19at%、TiO2:9at%)とした。
(実施例3)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−TiO2(Co:71at%、Pt:19at%、TiO2:10at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−TiO2(Co:70at%、Pt:19at%、TiO2:11at%)とした。
(実施例5)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−TiO2(Co:68at%、Pt:19at%、TiO2:13at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−TiO2(Co:67at%、Pt:19at%、TiO2:14at%)とした。
(実施例7)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第一磁性層122としては、CoPt−TiO2(Co:69at%、Pt:19at%、TiO2:12at%)とし、第二磁性層124としては、CoCrPt−TiO2−SiO2−Co3O4(Co:64at%、Cr:9at%、Pt:16at%、TiO2:5at%、SiO2:5at%、Co3O4:1at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第一磁性層122としては、CoPt−TiO2−SiO2(Co:69at%、Pt:19at%、TiO2:9at%、SiO2:3at%)とし、第二磁性層124としては、CoCrPt−TiO2−SiO2−Co3O4(Co:64at%、Cr:9at%、Pt:16at%、TiO2:5at%、SiO2:5at%、Co3O4:1at%)とした。
(実施例9)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第一磁性層122としては、CoPt−TiO2−SiO2−Co3O4(Co:69at%、Pt:19at%、TiO2:8at%、SiO2:3at%、Co3O4:1at%)とし、第二磁性層124としては、CoCrPt−TiO2−SiO2−Co3O4(Co:64at%、Cr:9at%、Pt:16at%、TiO2:5at%、SiO2:5at%、Co3O4:1at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−TiO2(Co:70at%、Pt:17at%、TiO2:13at%)とした。
(実施例11)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−TiO2(Co:65at%、Pt:22at%、TiO2:13at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−SiO2(Co:69at%、Pt:19at%、SiO2:12at%)とした。
(実施例13)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−Cr2O3(Co:74at%、Pt:19at%、Cr2O3:7at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−Ta2O5(Co:76at%、Pt:19at%、Ta2O5:5at%)とした。
(実施例15)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−WO3(Co:76at%、Pt:19at%、WO3:5at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−CoO(Co:75at%、Pt:19at%、CoO:6at%)とした。
(実施例17)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−Co3O4(Co:75at%、Pt:19at%、Co3O4:6at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第一磁性層122としては、CoCrPt−Cr2O3(Co:65at%、Cr:11at%、Pt:17at%、Cr2O3:7at%)とした。
(実施例19)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第一磁性層122としては、CoCrPt−Cr2O3(Co:67at%、Cr:11at%、Pt:17at%、Cr2O3:5at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第一磁性層122としては、CoCrPt−Cr2O3−SiO2(Co:67at%、Cr:11at%、Pt:17at%、Cr2O3:2.5at%、SiO2:2.5at%)とした。
(実施例21)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第一磁性層122としては、CoCrPt−TiO2−SiO2−Co3O4(Co:69at%、Cr:7at%、Pt:14at%、TiO2:4.5at%、SiO2:4.5at%、Co3O4:1at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第一磁性層122としては、CoCrPt−TiO2−SiO2−Co3O4(Co:63at%、Cr:13at%、Pt:14at%、TiO2:4.5at%、SiO2:4.5at%、Co3O4:1at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−TiO2−SiO2(Co:69at%、Pt:19at%、TiO2:8at%、SiO2:4at%)とした。
(実施例24)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第二磁性層124としては、CoPt−TiO2−SiO2−Co3O4(Co:69at%、Pt:19at%、TiO2:8at%、SiO2:3at%、Co3O4:1at%)とした。
上述した実施例1と同様の膜構成で、第一磁性層122としては、CoPt−TiO2(Co:69at%、Pt:19at%、TiO2:12at%)とした。
(実施例26)
上述した実施例1と同様の膜構成で、第一磁性層122としては、CoPt−TiO2−SiO2(Co:69at%、Pt:19at%、TiO2:9at%、SiO2:3at%)とした。
上記で得られた実施例及び比較例の各垂直磁気記録媒体の評価を次のようにして行った。
磁気特性の飽和磁化(Ms)の評価には最大印加磁場が15kOeの振動試料型磁力計(VSM)を用いた。VSM測定用のサンプルには、基体(ディスク基体)110、付着層112、配向制御層116、下地層118、オンセット層120、媒体保護層128の構成で作製した。結晶磁気異方性Kuの評価には印加磁場25kOeトルク磁力計を用いた。なお、下記表3中のMsおよびKuは、第二磁性層に関する測定結果である。
また、保磁力Hc及び熱揺らぎの指標vKu/kTの評価には、最大印加磁場が20kOe極Kerr効果測定装置を用いた。さらに、記録再生特性の評価には、R/Wアナライザーと、記録側がSPT素子、再生側がGMR素子を備える垂直磁気記録方式用磁気ヘッドとを用いて、記録密度を1550kfciとして測定した。このとき、磁気ヘッドの浮上量は10nmであった。
すなわち、本発明によれば、磁気特性及び熱安定性を劣化させずに、電磁変換特性を向上させ、よりいっそうの高記録密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体を提供することができる。
110 ディスク基体
112 付着層
114 軟磁性層
116 配向制御層
118 下地層
120 オンセット層
122 第一磁性層
124 第二磁性層
125 層間結合層
126 連続層
128 媒体保護層
130 潤滑層
Claims (5)
- 垂直磁気記録方式での情報記録に用いる垂直磁気記録媒体であって、
基板上に、少なくとも軟磁性層と下地層と磁性層とを備える垂直磁気記録媒体において、
前記磁性層は、複数の磁性層を含む多層構成からなり、そのうちの少なくとも一層の磁性層は、酸化物を含有するCoPt磁性粒子を含むことを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 前記酸化物は、SiO2、TiO2、Cr2O3、Ta2O5、WO3、CoO、Co3O4から選ばれる少なくとも一つの材料であることを特徴とする請求項1に記載の垂直磁気記録媒体。
- 前記の磁性層に含まれるCoPt磁性粒子中の酸化物含有量は、8〜15原子%の範囲であることを特徴とする請求項1又は2に記載の垂直磁気記録媒体。
- 前記磁性層は2層の磁性層を含み、そのうちの下方もしくは上方の磁性層は、酸化物を含有するCoCrPt磁性粒子を含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体。
- 前記下地層は、Ru又はその合金を主成分とする材料からなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010067388A JP5583997B2 (ja) | 2009-03-30 | 2010-03-24 | 垂直磁気記録媒体 |
US12/749,147 US8431257B2 (en) | 2009-03-30 | 2010-03-29 | Perpendicular magnetic recording medium |
SG201002200-2A SG165293A1 (en) | 2009-03-30 | 2010-03-30 | Perpendicular magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009081885 | 2009-03-30 | ||
JP2009081885 | 2009-03-30 | ||
JP2010067388A JP5583997B2 (ja) | 2009-03-30 | 2010-03-24 | 垂直磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010257565A true JP2010257565A (ja) | 2010-11-11 |
JP5583997B2 JP5583997B2 (ja) | 2014-09-03 |
Family
ID=42784629
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010067388A Active JP5583997B2 (ja) | 2009-03-30 | 2010-03-24 | 垂直磁気記録媒体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8431257B2 (ja) |
JP (1) | JP5583997B2 (ja) |
SG (1) | SG165293A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP5583997B2 (ja) | 2014-09-03 |
SG165293A1 (en) | 2010-10-28 |
US20100247963A1 (en) | 2010-09-30 |
US8431257B2 (en) | 2013-04-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20100706 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20101019 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130322 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140128 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140424 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140430 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140528 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140617 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140717 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5583997 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |