JP5073432B2 - 垂直磁気記録媒体、及び垂直磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
IEEE Trans.Magn.vol.40、pp.2383(2004)
最初に、アモルファスのアルミノシリケートガラスをダイレクトプレスで円盤状に成型し、ガラスディスクを作成した。そして、このガラスディスクに研削、研磨、化学強化を順次施し、化学強化ガラスディスクからなる平滑な非磁性ディスク基体である基板110を得た。基板110の直径は、65mm、内径は20mm、ディスク厚は0.635mmの2.5インチ型磁気ディスク用基板である。得られた基板110の表面粗さをAFM(原子間力顕微鏡)で観察したところ、Rmaxが2.18nm、Raが0.18nmの平滑な表面であることを確認した。尚、Rmax及びRaは、日本工業規格(JIS)に従う。
第1非磁性層204a及び第3非磁性層204cを設けず、軟磁性裏打ち層114における軟磁性層を第2軟磁性層202b及び第3軟磁性層202cの2層のみにした。また、第2軟磁性層202b及び第3軟磁性層202cの膜厚を30nmとした。上記以外は実施例1と同様にして、比較例1に係る垂直磁気記録媒体を作成した。
第1非磁性層204a及び第3非磁性層204cとして、Mo、W、V、Nb、Ta、Tiの各層を形成した以外は実施例1と同様にして、実施例2〜7に係る垂直磁気記録媒体100を作成した。
第1非磁性層204aとして、第1軟磁性層202aの表面を酸化した酸化膜を形成した。また、第3非磁性層204cとして、第3軟磁性層202cの表面を酸化した酸化膜を形成した。この酸化膜は、FeCoTaZrをO2で酸化した酸化膜(FeCoTaZr+O2)である。
第1軟磁性層202a、第2軟磁性層202b、第3軟磁性層202c、及び第4軟磁性層202dの膜厚を表1に示すように変更した以外は実施例8と同様にして、実施例9〜12に係る垂直磁気記録媒体100を作成した。
第1非磁性層204aとして、第1軟磁性層202aの表面を窒化した窒化膜を形成した。また、第3非磁性層204cとして、第3軟磁性層202cの表面を窒化した窒化膜を形成した。この窒化膜は、FeCoTaZrをN2で窒化した酸化膜(FeCoTaZr+N2)である。
上記の各実施例及び比較例に対し、交換結合磁界Hexの測定を行った。この測定においては、まず、垂直磁気記録媒体の一部の領域を抜き取り、基板の半径方向の磁化曲線の測定を行った。そして、この磁化曲線において、磁化が0になっている最大の磁界の大きさを交換結合磁界Hexとした。尚、磁化曲線の測定は、例えば、各実施例及び比較例と同様にして、軟磁性裏打ち層までが形成された試料を作成して行ってもよい。
Claims (8)
- 垂直磁気記録方式で情報を記録する垂直磁気記録媒体であって、
基板と、
非磁性層を挟んで積層された複数の軟磁性層を含み、前記基板の上方に形成される軟磁性裏打ち層と、
前記軟磁性裏打ち層の上方に形成される磁気記録層と
を備え、
前記軟磁性裏打ち層は、少なくとも、
前記基板の上方に形成される第1軟磁性層と、
前記第1軟磁性層の上方に形成される第1非磁性層と、
前記第1非磁性層の上方に形成される第2軟磁性層と、
前記第2軟磁性層の上方に形成される第2非磁性層と、
前記第2非磁性層の上方に形成される第3軟磁性層と、
前記第3軟磁性層の上方に形成される第3非磁性層と、
前記第3非磁性層の上方に形成される第4軟磁性層と
を有し、
前記第2非磁性層は、前記第2軟磁性層と、前記第3軟磁性層とを、反強磁性的層間相互作用により磁気的に交換結合させ、
前記第1非磁性層は、前記第2非磁性層とは異なる材料で形成され、
前記第3非磁性層は、前記第1非磁性層と同じ材料で形成され、
前記第2非磁性層は、Ru層であり、
前記第1非磁性層及び前記第3非磁性層は、Cr、Mo、W、V、Nb、Ta、Ti、Zr、Hf、Cu、Ag、Au、B、Al、C、Si、Pの中から選ばれる一の非磁性材料、又はこれらのうちの複数の非磁性材料を含む合金の材料で形成されることを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 垂直磁気記録方式で情報を記録する垂直磁気記録媒体であって、
基板と、
非磁性層を挟んで積層された複数の軟磁性層を含み、前記基板の上方に形成される軟磁性裏打ち層と、
前記軟磁性裏打ち層の上方に形成される磁気記録層と
を備え、
前記軟磁性裏打ち層は、少なくとも、
前記基板の上方に形成される第1軟磁性層と、
前記第1軟磁性層の上方に形成される第1非磁性層と、
前記第1非磁性層の上方に形成される第2軟磁性層と、
前記第2軟磁性層の上方に形成される第2非磁性層と、
前記第2非磁性層の上方に形成される第3軟磁性層と、
前記第3軟磁性層の上方に形成される第3非磁性層と、
前記第3非磁性層の上方に形成される第4軟磁性層と
を有し、
前記第2非磁性層は、前記第2軟磁性層と、前記第3軟磁性層とを、反強磁性的層間相互作用により磁気的に交換結合させ、
前記第1非磁性層は、前記第2非磁性層とは異なる材料で形成され、
前記第3非磁性層は、前記第1非磁性層と同じ材料で形成され、
前記第1非磁性層は、前記第1軟磁性層の表面を酸化した酸化膜、又は前記第1軟磁性層の表面を窒化した窒化膜であり、
前記第3非磁性層は、前記第3軟磁性層の表面を酸化した酸化膜、又は前記第3軟磁性層の表面を窒化した窒化膜であることを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 垂直磁気記録方式で情報を記録する垂直磁気記録媒体であって、
基板と、
非磁性層を挟んで積層された複数の軟磁性層を含み、前記基板の上方に形成される軟磁性裏打ち層と、
前記軟磁性裏打ち層の上方に形成される磁気記録層と
を備え、
前記軟磁性裏打ち層は、少なくとも、
前記基板の上方に形成される第1軟磁性層と、
前記第1軟磁性層の上方に形成される第1非磁性層と、
前記第1非磁性層の上方に形成される第2軟磁性層と、
前記第2軟磁性層の上方に形成される第2非磁性層と、
前記第2非磁性層の上方に形成される第3軟磁性層と、
前記第3軟磁性層の上方に形成される第3非磁性層と、
前記第3非磁性層の上方に形成される第4軟磁性層と
を有し、
前記第2非磁性層は、前記第2軟磁性層と、前記第3軟磁性層とを、反強磁性的層間相互作用により磁気的に交換結合させ、
前記第1非磁性層は、前記第2非磁性層とは異なる材料で形成され、
前記第3非磁性層は、前記第1非磁性層と同じ材料で形成され、
前記第1非磁性層は、前記第1軟磁性層と、前記第2軟磁性層とを静磁気的に結合させ、
前記第3非磁性層は、前記第3軟磁性層と、前記第4軟磁性層とを静磁気的に結合させることを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 前記第3軟磁性層の膜厚は、前記第2軟磁性層と同じであり、
前記第4軟磁性層の膜厚は、前記第1軟磁性層と同じであることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。 - 前記第2軟磁性層及び前記第3軟磁性層の膜厚は、前記第1軟磁性層及び前記第4軟磁性層の膜厚よりも小さいことを特徴とする請求項4に記載の垂直磁気記録媒体。
- 垂直磁気記録方式で情報を記録する垂直磁気記録媒体の製造方法であって、
基板を準備する準備工程と、
非磁性層を挟んで積層された複数の軟磁性層を含む軟磁性裏打ち層を、前記基板の上方に形成する軟磁性裏打ち層形成工程と、
前記軟磁性裏打ち層の上方に磁気記録層を形成する記録層形成工程と
を備え、
前記軟磁性裏打ち層形成工程は、少なくとも、
前記基板の上方に第1軟磁性層を形成する第1軟磁性層形成段階と、
前記第1軟磁性層の上方に第1非磁性層を形成する第1非磁性層形成段階と、
前記第1非磁性層の上方に第2軟磁性層を形成する第2軟磁性層形成段階と、
前記第2軟磁性層の上方に第2非磁性層を形成する第2非磁性層形成段階と、
前記第2非磁性層の上方に第3軟磁性層を形成する第3軟磁性層形成段階と、
前記第3軟磁性層の上方に第3非磁性層を形成する第3非磁性層形成段階と、
前記第3非磁性層の上方に第4軟磁性層を形成する第4軟磁性層形成段階と
を有し、
前記第2非磁性層は、前記第2軟磁性層と、前記第3軟磁性層とを、反強磁性的層間相互作用により磁気的に交換結合させ、
前記第1非磁性層は、前記第2非磁性層とは異なる材料で形成され、
前記第3非磁性層は、前記第1非磁性層と同じ材料で形成され、
前記第2非磁性層は、Ru層であり、
前記第1非磁性層及び前記第3非磁性層は、Cr、Mo、W、V、Nb、Ta、Ti、Zr、Hf、Cu、Ag、Au、B、Al、C、Si、Pの中から選ばれる一の非磁性材料、又はこれらのうちの複数の非磁性材料を含む合金の材料で形成されることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。 - 垂直磁気記録方式で情報を記録する垂直磁気記録媒体の製造方法であって、
基板を準備する準備工程と、
非磁性層を挟んで積層された複数の軟磁性層を含む軟磁性裏打ち層を、前記基板の上方に形成する軟磁性裏打ち層形成工程と、
前記軟磁性裏打ち層の上方に磁気記録層を形成する記録層形成工程と
を備え、
前記軟磁性裏打ち層形成工程は、少なくとも、
前記基板の上方に第1軟磁性層を形成する第1軟磁性層形成段階と、
前記第1軟磁性層の上方に第1非磁性層を形成する第1非磁性層形成段階と、
前記第1非磁性層の上方に第2軟磁性層を形成する第2軟磁性層形成段階と、
前記第2軟磁性層の上方に第2非磁性層を形成する第2非磁性層形成段階と、
前記第2非磁性層の上方に第3軟磁性層を形成する第3軟磁性層形成段階と、
前記第3軟磁性層の上方に第3非磁性層を形成する第3非磁性層形成段階と、
前記第3非磁性層の上方に第4軟磁性層を形成する第4軟磁性層形成段階と
を有し、
前記第2非磁性層は、前記第2軟磁性層と、前記第3軟磁性層とを、反強磁性的層間相互作用により磁気的に交換結合させ、
前記第1非磁性層は、前記第2非磁性層とは異なる材料で形成され、
前記第3非磁性層は、前記第1非磁性層と同じ材料で形成され、
前記第1非磁性層は、前記第1軟磁性層の表面を酸化した酸化膜、又は前記第1軟磁性層の表面を窒化した窒化膜であり、
前記第3非磁性層は、前記第3軟磁性層の表面を酸化した酸化膜、又は前記第3軟磁性層の表面を窒化した窒化膜であることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。 - 垂直磁気記録方式で情報を記録する垂直磁気記録媒体の製造方法であって、
基板を準備する準備工程と、
非磁性層を挟んで積層された複数の軟磁性層を含む軟磁性裏打ち層を、前記基板の上方に形成する軟磁性裏打ち層形成工程と、
前記軟磁性裏打ち層の上方に磁気記録層を形成する記録層形成工程と
を備え、
前記軟磁性裏打ち層形成工程は、少なくとも、
前記基板の上方に第1軟磁性層を形成する第1軟磁性層形成段階と、
前記第1軟磁性層の上方に第1非磁性層を形成する第1非磁性層形成段階と、
前記第1非磁性層の上方に第2軟磁性層を形成する第2軟磁性層形成段階と、
前記第2軟磁性層の上方に第2非磁性層を形成する第2非磁性層形成段階と、
前記第2非磁性層の上方に第3軟磁性層を形成する第3軟磁性層形成段階と、
前記第3軟磁性層の上方に第3非磁性層を形成する第3非磁性層形成段階と、
前記第3非磁性層の上方に第4軟磁性層を形成する第4軟磁性層形成段階と
を有し、
前記第2非磁性層は、前記第2軟磁性層と、前記第3軟磁性層とを、反強磁性的層間相互作用により磁気的に交換結合させ、
前記第1非磁性層は、前記第2非磁性層とは異なる材料で形成され、
前記第3非磁性層は、前記第1非磁性層と同じ材料で形成され、
前記第1非磁性層は、前記第1軟磁性層と、前記第2軟磁性層とを静磁気的に結合させる層であり、
前記第3非磁性層は、前記第3軟磁性層と、前記第4軟磁性層とを静磁気的に結合させる層であることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
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