JP2010067903A - 発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】Inx(AlyGa1−y)1−xP(0≦x≦1、0≦y≦1)からなる発光層と、Inx(AlyGa1−y)1−xP(0≦x≦1、0≦y≦1)からなるp型クラッド層と、半導体からなる接着層と、を少なくとも有する積層体と、前記接着層との間の接着界面における格子のずれが、前記発光層と前記接着層との間の格子のずれよりも大きい基板と、を備え、前記接着界面からみて、前記p型クラッド層は前記発光層よりも遠くに設けられ、前記p型クラッド層のキャリア濃度は、0.5×1017cm−3以上、3×1017cm−3以下であることを特徴とする発光素子が提供される。
【選択図】図1
Description
しかしながら、この技術開示例を用いても、低輝度から高輝度までの広い輝度範囲において劣化を低減するには十分とは言えない。
図1は、本発明の第1の実施形態にかかる発光素子の模式断面図である。
n型GaPなどからなる第1の基板10と、n型Inx(Al0.5Ga0.5)1−xP(0≦x≦1)からなる接着層23と、が接着界面15において接着されている。
また、成長層は、Inx(AlyGa1−y)1−xP(0≦x≦1、0≦y≦1)なる組成式で表すことができる。
■で表す定格電流における順方向電圧VFはp型クラッド層34のキャリア濃度が低下するに従い高くなる。本実施形態のp型クラッド層濃度範囲において、順方向電圧VFは、2.30V以下2.22V以上の範囲にある。
図5(a)において、電流拡散層36は、第1の実施形態と同様にp型In0.5(Al0.7Ga0.3)0.5Pなる組成、且つ1×1018cm−3なるキャリア濃度とするが、厚さT2をT1(=1.5μm)よりも大きくする。T2を、例えば3μmとすると、電流Jが発光層32の面内により広がって流れることにより高輝度とすることが容易となる。また、p側電極40による遮光量を低減でき上方及び側方からの光取り出し効率を高めることが容易となる。
GaAsなどからなる第3の基板60上に、p型GaAsからなるコンタクト層62、p型電流拡散層64(キャリア濃度 1×1018cm−3)、InAlPからなるp型クラッド層66(キャリア濃度 1.5×1017cm−3)、p型MQWからなる発光層68、n型InAlPからなるクラッド層70(キャリア濃度 4×1017cm−3)、及びn側コンタクト層72、がこの順序で、MOCVD法またはMBE法などを用いて成長され積層体74を形成する(図6(a))。すなわち、第2の実施形態では、結晶成長工程は1回でよい。
まず、図6(a)のように、GaAsなどからなる第3の基板60上に、p型GaAsからなるコンタクト層62、p型電流拡散層64、p型クラッド層66、及び発光層68、n型クラッド層70、コンタクト層72、などを結晶成長法により積層する(図7(a))。
Claims (5)
- Inx(AlyGa1−y)1−xP(0≦x≦1、0≦y≦1)からなる発光層と、Inx(AlyGa1−y)1−xP(0≦x≦1、0≦y≦1)からなるp型クラッド層と、半導体からなる接着層と、を少なくとも有する積層体と、
前記接着層との間の接着界面における格子のずれが、前記発光層と前記接着層との間の格子のずれよりも大きい基板と、
を備え、
前記接着界面からみて、前記p型クラッド層は前記発光層よりも遠くに設けられ、
前記p型クラッド層のキャリア濃度は、0.5×1017cm−3以上、3×1017cm−3以下であることを特徴とする発光素子。 - 前記基板は、前記発光層からの放出光を透過可能であり且つ導電性を有し、
前記発光層及び前記p型クラッド層は、前記接着界面とは反対側の前記接着層の面に順次結晶成長されたことを特徴とする請求項1記載の発光素子。 - 前記基板は、前記発光層からの放出光を透過可能であり且つ高抵抗であり、
前記接着界面とは反対側の前記接着層の面の一部に、n型電極が形成されたことを特徴とする請求項1記載の発光素子。 - 基板と、
Inx(AlyGa1−y)1−xP(0≦x≦1、0≦y≦1)からなる発光層と、Inx(AlyGa1−y)1−xP(0≦x≦1、0≦y≦1)からなるp型クラッド層と、コンタクト層と、を少なくとも有する積層体と、
前記コンタクト層上に設けられ、前記発光層からの放出光を反射可能な第1の金属膜と、
前記基板上に設けられ、前記第1の金属膜と接着された第2の金属膜と、
を備え、
前記第1の金属膜と前記第2の金属膜との接着界面からみて、前記p型クラッド層は前記発光層よりも遠くに設けられ、
前記p型クラッド層のキャリア濃度は、0.5×1017cm−3以上、3×1017cm−3以下であることを特徴とする発光素子。 - 前記発光層は、p型であり、
前記発光層のキャリア濃度は、前記p型クラッド層のキャリア濃度以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の発光素子。
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