JP2004221356A - 発光ダイオード - Google Patents
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Abstract
【課題】高出力を得ることが可能な厚さのAlGaAsウインドウ層を有し、かつ信頼性が高い発光ダイオードを提供する。
【解決手段】第1導電型の半導体基板101に、第1導電型のバッファー層102と、第1導電型のAlGaInPクラッド層103と、活性層104と、第2導電型のAlGaInPクラッド層105と、前記活性層104で発光する光に対して透明なAlGaAsウインドウ層106とが積層された本発明の発光ダイオードは、第1導電型の半導体基板101がゲルマニウム基板であり、ウインドウ層106の厚さが6〜40μmであることを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】第1導電型の半導体基板101に、第1導電型のバッファー層102と、第1導電型のAlGaInPクラッド層103と、活性層104と、第2導電型のAlGaInPクラッド層105と、前記活性層104で発光する光に対して透明なAlGaAsウインドウ層106とが積層された本発明の発光ダイオードは、第1導電型の半導体基板101がゲルマニウム基板であり、ウインドウ層106の厚さが6〜40μmであることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は寿命が長く、かつ発光出力が大きい発光ダイオードに関する。
【0002】
【従来の技術】
発光ダイオード(LED)は各種表示用光源として広く用いられている。特に屋外ディスプレイや交通信号用光源は高出力で安価であることが求められている。高出力を得るためには発光部層の上部に位置する活性層の発光に対し透明な層(いわゆるウインドウ層)の厚膜化が行われており、その材料としてはAlGaAs(例えば特許文献1参照。)、GaP(例えば特許文献2参照。)等が広く用いられている。特許文献1にはGaAs基板上にAlGaInP発光部層と、AlGaInP発光部層の上に発光部層よりバンドギャップの大きいAlGaAsウインドウ層が形成されたLEDが開示されている。AlGaAsウインドウ層を設けることにより素子内の電流が拡散され発光出力を高める効果を有するが、このような構成のLEDでは素子内の歪みが依然大きく、LEDの信頼性が充分でない。また、特許文献2にはGaAs基板上にAlGaInP発光部層と、発光部層の上にGaPウインドウ層が形成されたLEDが開示されている。しかし、GaPとAlGaInP及びGaAsは格子不整合であり素子内の歪みが大きい。
【0003】
AlGaInP系の発光ダイオードを作製するための半導体基板としてはGaAsを用いるのが一般的であるが、最近では、例えば非特許文献1に開示されているように、GaAs基板より低価格でしかも機械的強度が高いという特徴を活かし、ゲルマニウム(Ge)基板を用いる試みがなされている。しかしながら、Ge基板上に厚さ6μm以上のAlGaAsウインドウ層を形成した場合の発光ダイオードの信頼性については、これまで詳細な調査がなされていなかった。
【0004】
一方、ウインドウ層を厚膜化することによりLEDチップ内での発光を効率よく外部に取り出すことが可能になるが、ウインドウ層を厚くしていくと基板との格子不整合に起因した歪みがチップ内に蓄積し、LEDチップの寿命が低下してしまうことが明らかとなった。図2及び図3はGaAs基板上に、(Al0.2Ga0.8)0.5In0.5P活性層と、(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5Pクラッド層と、様々な膜厚のAlGaAsウインドウ層が形成されたLEDチップの信頼性の評価結果及び発光出力の測定結果である。発光出力はウインドウ層の膜厚に応じて増加するものの、ウインドウ層の膜厚が約6μmを超えると急激に信頼性が低下するという問題が生じた。
【0005】
【特許文献1】
特開平3−171679号公報
【特許文献2】
米国特許第5008718号明細書
【非特許文献1】
「フォトニクス・テクノロジー・レターズ(Photonics Technology Letters)」, 2000年8月, 第12巻, p.957
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明の目的は、高出力を得ることが可能な厚さのAlGaAsウインドウ層を有し、かつ信頼性が高い発光ダイオードを提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、AlGaAsウインドウ層との格子定数差がGaAs基板より小さいGe基板を用いることにより、LEDチップ内の歪みが低減され、高出力で、かつ信頼性の高い発光ダイオードが得られることを発見し、本発明に想到した。
【0008】
すなわち、本発明の発光ダイオードは、第1導電型の半導体基板に、第1導電型のバッファー層と、第1導電型のAlGaInPクラッド層と、活性層と、第2導電型のAlGaInPクラッド層と、前記活性層で発光する光に対して透明なAlGaAsウインドウ層とが積層された発光ダイオードにおいて、前記第1導電型の半導体基板がゲルマニウム基板であり、前記ウインドウ層の厚さが6〜40μmであることを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】
[1] 発光ダイオード
図1は本発明の一実施例による半導体発光素子の層構造を示す断面図である。この実施例では第一導電型はn型であり、第二導電型はp型であるが、この逆であっても良い。
【0010】
n型Ge基板101の第一主面上にn型AlGaAsバッファー層102が形成され、バッファー層102の上にn型AlGaInPクラッド層103が形成され、n型クラッド層103の上にアンドープAlGaInP活性層104が形成され、活性層104の上にp型AlGaInPクラッド層105が形成され、p型クラッド層105の上にp型AlGaAsウインドウ層106が形成されている。n型クラッド層103と、活性層104と、p型クラッド層105とはダブルヘテロ構造の発光部層を構成している。ウインドウ層106の上には部分的にp型GaAsコンタクト層107が形成されているが、コンタクト層107は必須ではない。コンタクト層107の上にはp型表面電極109が形成されており、また基板101の裏面にはn型裏面電極108が形成されている。
【0011】
基板101は発光部層との電気的接触を得るとともに、極力歪みの少ないエピタキシャル層を形成できるものが好ましい。本発明では第1導電型の半導体基板としてGe基板を用いる。LEDチップ内の歪みは基板の格子定数と厚さ、及び基板に次ぐ厚さを有するウインドウ層の格子定数と厚さによってほぼ決まる。従って、基板とウインドウ層の格子定数差が小さければチップ内の歪みを低減することが可能になり、LEDチップの信頼性を向上させることができる。本発明で基板材料として使用するGeと、基板材料として一般に広く使用されているGaAsと、ウインドウ層に使用するAlGaAsとの格子定数を比較すると、GaAs、AlxGa1−xAs及びGeの格子定数は、室温においてそれぞれ0.5633 nm、0.5661x+0.5653(1−x) nm及び0.5658 nmである。これらの格子定数から明らかなように、GaAs基板上にAlGaAsウインドウ層を有するLEDを作製する場合と、Ge基板上にAlGaAsウインドウ層を有するLEDを作製する場合とでは、Ge基板上に作製する場合の方が格子定数差が小さく、LEDチップ内の歪みが小さい。
【0012】
基板からの不純物の拡散を防止し、結晶欠陥の影響を排除するため、n型Ge基板上にバッファー層102が設けられている。バッファー層102は特に限定されないが、n型AlGaAsにより形成されるのが好ましい。本発明ではバッファー層のほかに反射層が適宜設けられていてもよい。例えば、発光強度を高める観点からバッファー層102と発光部層との間に反射層が設けられた構成とすることもできる。
【0013】
発光部層は、第一導電型のクラッド層(n型AlGaInPクラッド層103)、活性層104及び第二導電型のクラッド層(p型AlGaInPクラッド層105)からなる。活性層よりバンドギャップの大きいクラッド層で活性層を挟むことにより、活性層内のキャリアの閉じ込め効果が向上し、さらに活性層で発光した光をクラッド層で吸収することなく外部に取り出せるようになる。発光部層は、p−n接合型のダブルへテロ接合構造を有する(AlxGa1−x)yIn1−yP混晶(0≦x≦1、0<y<1)とするのが好ましい。この場合、活性層104のAlとGaの比率を調整することによりバンドギャップを変化させ、所望の発光波長の光を得ることが可能である。すなわち、xが増大するとともにバンドギャップが増大し、発光波長が短波長側にシフトする。xを適宜設定することにより目標とする発光波長の光を得ることができる。AlGaInPを発光部層とするp−n接合型のLEDでは、赤色から緑色の高輝度の発光が可能である。
【0014】
ダブルヘテロ構造の発光部層は、結晶性を向上させ発光効率を高める観点からGe基板101との格子整合がよいものが好ましい。基板を構成するGeの格子定数は上記のようにGaAsの格子定数と非常に近いため、(AlxGa1−x)yIn1−yP混晶の場合、インジウム組成比(1−y)を約0.5とする(AlxGa1−x)0.5In0.5Pが、Ge単結晶基板101との格子整合がよく好ましい。
【0015】
電流拡散効果を高めるとともに活性層で発光する光を外部に取り出すため、活性層で発光する光に対して透明なウインドウ層106が発光部層の上に設けられている。ウインドウ層106はn型AlGaAsにより形成される。AlGaAsウインドウ層106は、AlGaInP層よりもバンドギャップが大きく、活性層で発光する光に対して透明である。AlGaAsウインドウ層106は透明であるだけでなく、AlGaInPよりも電気伝導性が高い(抵抗率が低い)ため、電流の拡散を促進することができる。図1に示すような面発光LEDでは上部電極から注入されるキャリアが活性層の広い面積に広がり、発光面積を拡大することが発光効率を高め素子輝度を高める上で重要である。p型AlGaInPクラッド層105は、抵抗率が高くキャリア移動度が低いため電流が拡散しにくい。発光出力をより高めるためには、AlGaAsウインドウ層106を膜厚構造にし、電流拡散効果を高めることが必要である。AlGaAsウインドウ層106を膜厚構造にするためには、Ge基板101との格子整合がよいことが重要である。上述のようにAlGaAsウインドウ層106はGe基板との格子整合がよいため、ウインドウ層106を膜厚に形成してもLED内の歪みが小さく、発光出力を長期間安定して保持することができる。
【0016】
図3はAlGaAsウインドウ層の厚さと発光出力との関係を示す。AlGaAsウインドウ層106の膜厚が厚くなるに従いLEDの発光出力が増大する。発光出力の高いLEDを得るためにはAlGaAsウインドウ層106の厚さを6μm以上にするのが好ましい。一般に用いられているGaAs基板上にウインドウ層106を形成する場合には、図2に示すようにウインドウ層の膜厚が約6μmを超えると急激に信頼性が低下する。これに対し、本発明の発光ダイオードはAlGaAsウインドウ層106と格子整合のよいGe基板を使用しているため、GaAs基板に比べ格子定数差が小さく、ウインドウ層106の厚さを6〜40μmにしても歪みにより信頼性が低下することがない。
【0017】
図4はGe基板上にLEDをエピタキシャル成長させた場合と、GaAs基板上にLEDをエピタキシャル成長させた場合の発光出力の経時変化を示す。ウインドウ層としてはどちらも膜厚12μmのAlGaAsウインドウ層が形成されている。図4から明らかなようにGaAs基板上にLEDを形成した場合には、通電直後から急速に発光出力が低下するのに対し、Ge基板上にLEDを形成した場合には発光出力が長時間安定しており、信頼性が高い。図5はGe基板上にLEDを形成した場合のAlGaAsウインドウ層の膜厚と発光出力の経時変化との関係を示す。AlGaAsウインドウ層の厚さが50μm以上ではAlGaAsウインドウ層とGe基板との間の格子定数差に起因する歪みにより発光出力が急激に低下する。このため、本発明ではウインドウ層106の厚さを6〜40μmとする。
【0018】
p型コンタクト層107は、その上に形成された金属電極とオーム性接触が取り易ければ特に限定されず、例えばp型GaAsコンタクト層とすることができる。GaAsは発光波長の光に対して不透明であるため、電極を形成する部分を残してエッチング等により除去するのが好ましい。
【0019】
p型表面電極109はワイヤボンディングに供され、n型裏面電極108はダイボンディングに供されるから、p型表面電極109及びn型裏面電極108には良好なボンディング特性、下層との良好なオーミック特性及び下層との密着性が要求される。そのため各電極109,108は複数の金属層により構成するのが好ましい。各電極109,108は酸化物層を有していても良い。さらに各電極109,108は最上層にAu、Al等のボンディング特性の良い金属層を有するのが好ましい。例えば、p型表面電極109にAu/Zn/Niの積層電極を使用し、n型裏面電極10にAu/Ge/Ni積層電極を使用することができる。
【0020】
上部クラッド層及びウインドウ層に添加されるドーパントとしては、Zn、Mg、Cd等のp型不純物を用いることができる。バッファー層及び下部クラッド層に添加されるドーパントとしては、Si、Se、Te等のn型不純物を用いることができる。クラッド層のキャリア濃度は特に限定されないが、一般に1×1017〜2×1018cm−3の範囲であるのが好ましい。
【0021】
【実施例】
本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はそれらに限定されるものではない。
【0022】
実施例1
図1に示す構造の発光ダイオードをMOVPE法により作製した。基板としてはn型Ge単結晶基板を使用し、キャリアガスに水素を使用し、それぞれAl供給源としてトリメチルアルミニウム(TMA)、Ga供給源としてトリメチルガリウム(TMG)又はトリエチルガリウム(TEG)、In供給源としてトリメチルインジウム(TMI)、As供給源としてアルシン(AsH3)、P供給源としてホスフィン(PH3)、Zn供給源としてジエチル亜鉛(DEZ)、及びSe(n型ドーパント)供給源としてH2Seを使用した。
【0023】
(1) エピタキシャルウエハの作製
まず成長炉内にn型Ge基板101を配置し、700℃に加熱したn型Ge基板101上に、厚さ0.5μmのn型(Seドープ)AlGaAsバッファー層102を形成した。Ga供給源としてトリエチルガリウム(TEG)を使用し、基板の面方位は(100)基板とした。
【0024】
次に基板温度700℃で厚さ1.0μmのn型(Seドープ)(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P下部クラッド層103(Seドープ量:1×1018cm−3)、厚さ0.5μmのアンドープ(Al0.1Ga0.9)0.5In0.5P活性層104、厚さ1.0μmのp型(Znドープ)(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5Pクラッド層105(Znドープ量:7×1017cm−3)を順次形成した。次いで基板温度を600℃に設定し、厚さ12μmのp型(Znドープ)Al0.7Ga0.3Asウインドウ層106(Znドープ量:2×1018cm−3)を形成した。Ga供給源としてトリメチルガリウム(TMG)を使用した。ウインドウ層106上には、厚さ30 nmのp型(Znドープ)GaAsコンタクト層107(Znドープ量:2×1019cm−3)を形成した。
【0025】
(2) LEDチップの作製
エピタキシャルウエハのp型コンタクト層107をエッチングにより部分的に除去し、直径150μmの円形のp型コンタクト層107部分を除いてウインドウ層106を露出させた。エピタキシャルウエハの基板101側にあたるチップ下面全体にAu−Ge−Ni合金からなる下部電極108を形成し、コンタクト層107の上にAu−Zn−Ni合金からなる直径150μmの円形の上部電極109を形成した。エピタキシャルウェハを、表面電極9を1つ含む300μm角のサイズでダイシングし、直径5mmの大きさに樹脂モールドし、表面電極9にワイヤボンディングを、裏面電極10にダイボンディングを行なって、LEDチップを作製した。得られたLEDチップを用い、−40℃、50 mAの条件で連続通電し、低温信頼性試験を行った。結果を図4に示す。
【0026】
実施例2
Al0.7Ga0.3Asウインドウ層106の厚さをそれぞれ12μm、40μm、50μm及び60μmとした以外、実施例1と同様にしてLEDチップを作製した。これらのLEDチップを用い、−40℃、50 mAの条件で連続通電し、低温信頼性試験を行った。結果を図5に示す。
【0027】
比較例1
Ge基板の代わりにGaAs基板を用いた以外、実施例1と同様にしてLEDチップを作製した。得られたLEDチップを用い、−40℃、50 mAの条件で連続通電し、低温信頼性試験を行った。結果を図4に示す。
【0028】
(評価)
図4に示すように、Ge基板上に作製したLEDとGaAs基板上に作製したLEDの初期時の発光出力は有意差が認められなかったが、Ge基板上に作製したLEDは、1000時間の低温信頼性試験後でも初期出力の90%以上の発光出力を保持していたのに対し、GaAs基板上に作製したLEDでは発光出力が急速に低下し、1000時間の低温信頼性試験後の発光出力が初期出力の80%以下となった。図4からGe基板上に作製したLEDの方が信頼性が格段に優れていることがわかる。また、図5に示すようにGe基板上に作製したLEDにおいて、ウインドウ層の膜厚が40μmまでは、1000時間の低温信頼性試験後でも初期出力の90%以上の発光出力を保持していたのに対し、AlGaAsウインドウ層の膜厚が40μm を超えるとLEDの発光出力が急速に低下し、1000時間の低温信頼性試験後の発光出力が初期出力の80%以下となった。図5からGe基板上にLEDを形成した場合のAlGaAsウインドウ層の膜厚は40μm以下が好ましいことがわかる。
【0029】
【発明の効果】
上記の通り、本発明の発光ダイオードは、AlGaAsウインドウ層との格子定数差がGaAs基板より小さいGe基板を用い、AlGaAsウインドウ層の厚さを6〜40μmに形成するので、格子定数差に起因する歪みが小さい。そのため、発光出力が大きく信頼性の高いLEDを作製することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による発光ダイオードを示す断面図である。
【図2】GaAs基板上に作製したLEDにおけるAlGaAsウインドウ層の厚さと発光出力の経時変化との関係を示すグラフである。
【図3】AlGaAsウインドウ層の厚さと発光出力との関係を示すグラフである。
【図4】Ge基板上に形成したLEDとGaAs基板上に形成したLEDによる発光出力の経時変化を示すグラフである。
【図5】Ge基板上に作製したLEDにおけるAlGaAsウインドウ層の厚さと発光出力の経時変化との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
101・・・基板
102・・・バッファー層
103・・・第1クラッド層
104・・・活性層
105・・・第2クラッド層
106・・・ウインドウ層
107・・・コンタクト層
108・・・裏面電極
109・・・表面電極
【発明の属する技術分野】
本発明は寿命が長く、かつ発光出力が大きい発光ダイオードに関する。
【0002】
【従来の技術】
発光ダイオード(LED)は各種表示用光源として広く用いられている。特に屋外ディスプレイや交通信号用光源は高出力で安価であることが求められている。高出力を得るためには発光部層の上部に位置する活性層の発光に対し透明な層(いわゆるウインドウ層)の厚膜化が行われており、その材料としてはAlGaAs(例えば特許文献1参照。)、GaP(例えば特許文献2参照。)等が広く用いられている。特許文献1にはGaAs基板上にAlGaInP発光部層と、AlGaInP発光部層の上に発光部層よりバンドギャップの大きいAlGaAsウインドウ層が形成されたLEDが開示されている。AlGaAsウインドウ層を設けることにより素子内の電流が拡散され発光出力を高める効果を有するが、このような構成のLEDでは素子内の歪みが依然大きく、LEDの信頼性が充分でない。また、特許文献2にはGaAs基板上にAlGaInP発光部層と、発光部層の上にGaPウインドウ層が形成されたLEDが開示されている。しかし、GaPとAlGaInP及びGaAsは格子不整合であり素子内の歪みが大きい。
【0003】
AlGaInP系の発光ダイオードを作製するための半導体基板としてはGaAsを用いるのが一般的であるが、最近では、例えば非特許文献1に開示されているように、GaAs基板より低価格でしかも機械的強度が高いという特徴を活かし、ゲルマニウム(Ge)基板を用いる試みがなされている。しかしながら、Ge基板上に厚さ6μm以上のAlGaAsウインドウ層を形成した場合の発光ダイオードの信頼性については、これまで詳細な調査がなされていなかった。
【0004】
一方、ウインドウ層を厚膜化することによりLEDチップ内での発光を効率よく外部に取り出すことが可能になるが、ウインドウ層を厚くしていくと基板との格子不整合に起因した歪みがチップ内に蓄積し、LEDチップの寿命が低下してしまうことが明らかとなった。図2及び図3はGaAs基板上に、(Al0.2Ga0.8)0.5In0.5P活性層と、(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5Pクラッド層と、様々な膜厚のAlGaAsウインドウ層が形成されたLEDチップの信頼性の評価結果及び発光出力の測定結果である。発光出力はウインドウ層の膜厚に応じて増加するものの、ウインドウ層の膜厚が約6μmを超えると急激に信頼性が低下するという問題が生じた。
【0005】
【特許文献1】
特開平3−171679号公報
【特許文献2】
米国特許第5008718号明細書
【非特許文献1】
「フォトニクス・テクノロジー・レターズ(Photonics Technology Letters)」, 2000年8月, 第12巻, p.957
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明の目的は、高出力を得ることが可能な厚さのAlGaAsウインドウ層を有し、かつ信頼性が高い発光ダイオードを提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、AlGaAsウインドウ層との格子定数差がGaAs基板より小さいGe基板を用いることにより、LEDチップ内の歪みが低減され、高出力で、かつ信頼性の高い発光ダイオードが得られることを発見し、本発明に想到した。
【0008】
すなわち、本発明の発光ダイオードは、第1導電型の半導体基板に、第1導電型のバッファー層と、第1導電型のAlGaInPクラッド層と、活性層と、第2導電型のAlGaInPクラッド層と、前記活性層で発光する光に対して透明なAlGaAsウインドウ層とが積層された発光ダイオードにおいて、前記第1導電型の半導体基板がゲルマニウム基板であり、前記ウインドウ層の厚さが6〜40μmであることを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】
[1] 発光ダイオード
図1は本発明の一実施例による半導体発光素子の層構造を示す断面図である。この実施例では第一導電型はn型であり、第二導電型はp型であるが、この逆であっても良い。
【0010】
n型Ge基板101の第一主面上にn型AlGaAsバッファー層102が形成され、バッファー層102の上にn型AlGaInPクラッド層103が形成され、n型クラッド層103の上にアンドープAlGaInP活性層104が形成され、活性層104の上にp型AlGaInPクラッド層105が形成され、p型クラッド層105の上にp型AlGaAsウインドウ層106が形成されている。n型クラッド層103と、活性層104と、p型クラッド層105とはダブルヘテロ構造の発光部層を構成している。ウインドウ層106の上には部分的にp型GaAsコンタクト層107が形成されているが、コンタクト層107は必須ではない。コンタクト層107の上にはp型表面電極109が形成されており、また基板101の裏面にはn型裏面電極108が形成されている。
【0011】
基板101は発光部層との電気的接触を得るとともに、極力歪みの少ないエピタキシャル層を形成できるものが好ましい。本発明では第1導電型の半導体基板としてGe基板を用いる。LEDチップ内の歪みは基板の格子定数と厚さ、及び基板に次ぐ厚さを有するウインドウ層の格子定数と厚さによってほぼ決まる。従って、基板とウインドウ層の格子定数差が小さければチップ内の歪みを低減することが可能になり、LEDチップの信頼性を向上させることができる。本発明で基板材料として使用するGeと、基板材料として一般に広く使用されているGaAsと、ウインドウ層に使用するAlGaAsとの格子定数を比較すると、GaAs、AlxGa1−xAs及びGeの格子定数は、室温においてそれぞれ0.5633 nm、0.5661x+0.5653(1−x) nm及び0.5658 nmである。これらの格子定数から明らかなように、GaAs基板上にAlGaAsウインドウ層を有するLEDを作製する場合と、Ge基板上にAlGaAsウインドウ層を有するLEDを作製する場合とでは、Ge基板上に作製する場合の方が格子定数差が小さく、LEDチップ内の歪みが小さい。
【0012】
基板からの不純物の拡散を防止し、結晶欠陥の影響を排除するため、n型Ge基板上にバッファー層102が設けられている。バッファー層102は特に限定されないが、n型AlGaAsにより形成されるのが好ましい。本発明ではバッファー層のほかに反射層が適宜設けられていてもよい。例えば、発光強度を高める観点からバッファー層102と発光部層との間に反射層が設けられた構成とすることもできる。
【0013】
発光部層は、第一導電型のクラッド層(n型AlGaInPクラッド層103)、活性層104及び第二導電型のクラッド層(p型AlGaInPクラッド層105)からなる。活性層よりバンドギャップの大きいクラッド層で活性層を挟むことにより、活性層内のキャリアの閉じ込め効果が向上し、さらに活性層で発光した光をクラッド層で吸収することなく外部に取り出せるようになる。発光部層は、p−n接合型のダブルへテロ接合構造を有する(AlxGa1−x)yIn1−yP混晶(0≦x≦1、0<y<1)とするのが好ましい。この場合、活性層104のAlとGaの比率を調整することによりバンドギャップを変化させ、所望の発光波長の光を得ることが可能である。すなわち、xが増大するとともにバンドギャップが増大し、発光波長が短波長側にシフトする。xを適宜設定することにより目標とする発光波長の光を得ることができる。AlGaInPを発光部層とするp−n接合型のLEDでは、赤色から緑色の高輝度の発光が可能である。
【0014】
ダブルヘテロ構造の発光部層は、結晶性を向上させ発光効率を高める観点からGe基板101との格子整合がよいものが好ましい。基板を構成するGeの格子定数は上記のようにGaAsの格子定数と非常に近いため、(AlxGa1−x)yIn1−yP混晶の場合、インジウム組成比(1−y)を約0.5とする(AlxGa1−x)0.5In0.5Pが、Ge単結晶基板101との格子整合がよく好ましい。
【0015】
電流拡散効果を高めるとともに活性層で発光する光を外部に取り出すため、活性層で発光する光に対して透明なウインドウ層106が発光部層の上に設けられている。ウインドウ層106はn型AlGaAsにより形成される。AlGaAsウインドウ層106は、AlGaInP層よりもバンドギャップが大きく、活性層で発光する光に対して透明である。AlGaAsウインドウ層106は透明であるだけでなく、AlGaInPよりも電気伝導性が高い(抵抗率が低い)ため、電流の拡散を促進することができる。図1に示すような面発光LEDでは上部電極から注入されるキャリアが活性層の広い面積に広がり、発光面積を拡大することが発光効率を高め素子輝度を高める上で重要である。p型AlGaInPクラッド層105は、抵抗率が高くキャリア移動度が低いため電流が拡散しにくい。発光出力をより高めるためには、AlGaAsウインドウ層106を膜厚構造にし、電流拡散効果を高めることが必要である。AlGaAsウインドウ層106を膜厚構造にするためには、Ge基板101との格子整合がよいことが重要である。上述のようにAlGaAsウインドウ層106はGe基板との格子整合がよいため、ウインドウ層106を膜厚に形成してもLED内の歪みが小さく、発光出力を長期間安定して保持することができる。
【0016】
図3はAlGaAsウインドウ層の厚さと発光出力との関係を示す。AlGaAsウインドウ層106の膜厚が厚くなるに従いLEDの発光出力が増大する。発光出力の高いLEDを得るためにはAlGaAsウインドウ層106の厚さを6μm以上にするのが好ましい。一般に用いられているGaAs基板上にウインドウ層106を形成する場合には、図2に示すようにウインドウ層の膜厚が約6μmを超えると急激に信頼性が低下する。これに対し、本発明の発光ダイオードはAlGaAsウインドウ層106と格子整合のよいGe基板を使用しているため、GaAs基板に比べ格子定数差が小さく、ウインドウ層106の厚さを6〜40μmにしても歪みにより信頼性が低下することがない。
【0017】
図4はGe基板上にLEDをエピタキシャル成長させた場合と、GaAs基板上にLEDをエピタキシャル成長させた場合の発光出力の経時変化を示す。ウインドウ層としてはどちらも膜厚12μmのAlGaAsウインドウ層が形成されている。図4から明らかなようにGaAs基板上にLEDを形成した場合には、通電直後から急速に発光出力が低下するのに対し、Ge基板上にLEDを形成した場合には発光出力が長時間安定しており、信頼性が高い。図5はGe基板上にLEDを形成した場合のAlGaAsウインドウ層の膜厚と発光出力の経時変化との関係を示す。AlGaAsウインドウ層の厚さが50μm以上ではAlGaAsウインドウ層とGe基板との間の格子定数差に起因する歪みにより発光出力が急激に低下する。このため、本発明ではウインドウ層106の厚さを6〜40μmとする。
【0018】
p型コンタクト層107は、その上に形成された金属電極とオーム性接触が取り易ければ特に限定されず、例えばp型GaAsコンタクト層とすることができる。GaAsは発光波長の光に対して不透明であるため、電極を形成する部分を残してエッチング等により除去するのが好ましい。
【0019】
p型表面電極109はワイヤボンディングに供され、n型裏面電極108はダイボンディングに供されるから、p型表面電極109及びn型裏面電極108には良好なボンディング特性、下層との良好なオーミック特性及び下層との密着性が要求される。そのため各電極109,108は複数の金属層により構成するのが好ましい。各電極109,108は酸化物層を有していても良い。さらに各電極109,108は最上層にAu、Al等のボンディング特性の良い金属層を有するのが好ましい。例えば、p型表面電極109にAu/Zn/Niの積層電極を使用し、n型裏面電極10にAu/Ge/Ni積層電極を使用することができる。
【0020】
上部クラッド層及びウインドウ層に添加されるドーパントとしては、Zn、Mg、Cd等のp型不純物を用いることができる。バッファー層及び下部クラッド層に添加されるドーパントとしては、Si、Se、Te等のn型不純物を用いることができる。クラッド層のキャリア濃度は特に限定されないが、一般に1×1017〜2×1018cm−3の範囲であるのが好ましい。
【0021】
【実施例】
本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はそれらに限定されるものではない。
【0022】
実施例1
図1に示す構造の発光ダイオードをMOVPE法により作製した。基板としてはn型Ge単結晶基板を使用し、キャリアガスに水素を使用し、それぞれAl供給源としてトリメチルアルミニウム(TMA)、Ga供給源としてトリメチルガリウム(TMG)又はトリエチルガリウム(TEG)、In供給源としてトリメチルインジウム(TMI)、As供給源としてアルシン(AsH3)、P供給源としてホスフィン(PH3)、Zn供給源としてジエチル亜鉛(DEZ)、及びSe(n型ドーパント)供給源としてH2Seを使用した。
【0023】
(1) エピタキシャルウエハの作製
まず成長炉内にn型Ge基板101を配置し、700℃に加熱したn型Ge基板101上に、厚さ0.5μmのn型(Seドープ)AlGaAsバッファー層102を形成した。Ga供給源としてトリエチルガリウム(TEG)を使用し、基板の面方位は(100)基板とした。
【0024】
次に基板温度700℃で厚さ1.0μmのn型(Seドープ)(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5P下部クラッド層103(Seドープ量:1×1018cm−3)、厚さ0.5μmのアンドープ(Al0.1Ga0.9)0.5In0.5P活性層104、厚さ1.0μmのp型(Znドープ)(Al0.7Ga0.3)0.5In0.5Pクラッド層105(Znドープ量:7×1017cm−3)を順次形成した。次いで基板温度を600℃に設定し、厚さ12μmのp型(Znドープ)Al0.7Ga0.3Asウインドウ層106(Znドープ量:2×1018cm−3)を形成した。Ga供給源としてトリメチルガリウム(TMG)を使用した。ウインドウ層106上には、厚さ30 nmのp型(Znドープ)GaAsコンタクト層107(Znドープ量:2×1019cm−3)を形成した。
【0025】
(2) LEDチップの作製
エピタキシャルウエハのp型コンタクト層107をエッチングにより部分的に除去し、直径150μmの円形のp型コンタクト層107部分を除いてウインドウ層106を露出させた。エピタキシャルウエハの基板101側にあたるチップ下面全体にAu−Ge−Ni合金からなる下部電極108を形成し、コンタクト層107の上にAu−Zn−Ni合金からなる直径150μmの円形の上部電極109を形成した。エピタキシャルウェハを、表面電極9を1つ含む300μm角のサイズでダイシングし、直径5mmの大きさに樹脂モールドし、表面電極9にワイヤボンディングを、裏面電極10にダイボンディングを行なって、LEDチップを作製した。得られたLEDチップを用い、−40℃、50 mAの条件で連続通電し、低温信頼性試験を行った。結果を図4に示す。
【0026】
実施例2
Al0.7Ga0.3Asウインドウ層106の厚さをそれぞれ12μm、40μm、50μm及び60μmとした以外、実施例1と同様にしてLEDチップを作製した。これらのLEDチップを用い、−40℃、50 mAの条件で連続通電し、低温信頼性試験を行った。結果を図5に示す。
【0027】
比較例1
Ge基板の代わりにGaAs基板を用いた以外、実施例1と同様にしてLEDチップを作製した。得られたLEDチップを用い、−40℃、50 mAの条件で連続通電し、低温信頼性試験を行った。結果を図4に示す。
【0028】
(評価)
図4に示すように、Ge基板上に作製したLEDとGaAs基板上に作製したLEDの初期時の発光出力は有意差が認められなかったが、Ge基板上に作製したLEDは、1000時間の低温信頼性試験後でも初期出力の90%以上の発光出力を保持していたのに対し、GaAs基板上に作製したLEDでは発光出力が急速に低下し、1000時間の低温信頼性試験後の発光出力が初期出力の80%以下となった。図4からGe基板上に作製したLEDの方が信頼性が格段に優れていることがわかる。また、図5に示すようにGe基板上に作製したLEDにおいて、ウインドウ層の膜厚が40μmまでは、1000時間の低温信頼性試験後でも初期出力の90%以上の発光出力を保持していたのに対し、AlGaAsウインドウ層の膜厚が40μm を超えるとLEDの発光出力が急速に低下し、1000時間の低温信頼性試験後の発光出力が初期出力の80%以下となった。図5からGe基板上にLEDを形成した場合のAlGaAsウインドウ層の膜厚は40μm以下が好ましいことがわかる。
【0029】
【発明の効果】
上記の通り、本発明の発光ダイオードは、AlGaAsウインドウ層との格子定数差がGaAs基板より小さいGe基板を用い、AlGaAsウインドウ層の厚さを6〜40μmに形成するので、格子定数差に起因する歪みが小さい。そのため、発光出力が大きく信頼性の高いLEDを作製することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による発光ダイオードを示す断面図である。
【図2】GaAs基板上に作製したLEDにおけるAlGaAsウインドウ層の厚さと発光出力の経時変化との関係を示すグラフである。
【図3】AlGaAsウインドウ層の厚さと発光出力との関係を示すグラフである。
【図4】Ge基板上に形成したLEDとGaAs基板上に形成したLEDによる発光出力の経時変化を示すグラフである。
【図5】Ge基板上に作製したLEDにおけるAlGaAsウインドウ層の厚さと発光出力の経時変化との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
101・・・基板
102・・・バッファー層
103・・・第1クラッド層
104・・・活性層
105・・・第2クラッド層
106・・・ウインドウ層
107・・・コンタクト層
108・・・裏面電極
109・・・表面電極
Claims (1)
- 第1導電型の半導体基板に、第1導電型のバッファー層と、第1導電型のAlGaInPクラッド層と、活性層と、第2導電型のAlGaInPクラッド層と、前記活性層で発光する光に対して透明なAlGaAsウインドウ層とが積層された発光ダイオードにおいて、前記第1導電型の半導体基板がゲルマニウム基板であり、前記ウインドウ層の厚さが6〜40μmであることを特徴とする発光ダイオード。
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