JP2009525404A5 - - Google Patents
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 2qpq Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- 229940072107 Ascorbate Drugs 0.000 claims description 4
- TYQCGQRIZGCHNB-JLAZNSOCSA-N L-ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(O)=C(O)C1=O TYQCGQRIZGCHNB-JLAZNSOCSA-N 0.000 claims description 4
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 claims description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M methanoate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 claims description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-L oxalate Chemical compound [O-]C(=O)C([O-])=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 239000003638 reducing agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 4
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZGKNDXOLMOFEJH-UHFFFAOYSA-M Sodium hypophosphite Chemical compound [Na+].[O-]P=O ZGKNDXOLMOFEJH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 238000000909 electrodialysis Methods 0.000 claims description 2
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims 4
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M Potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N Carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GUWSLQUAAYEZAF-UHFFFAOYSA-L Lead(II) acetate Chemical compound O1C(C)=O[Pb]21O=C(C)O2 GUWSLQUAAYEZAF-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- AIYYMMQIMJOTBM-UHFFFAOYSA-L Nickel(II) acetate Chemical compound [Ni+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O AIYYMMQIMJOTBM-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 229940085605 Saccharin Sodium Drugs 0.000 claims 1
- WINXNKPZLFISPD-UHFFFAOYSA-M Saccharin sodium Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)[N-]S(=O)(=O)C2=C1 WINXNKPZLFISPD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 claims 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims 1
- 230000002596 correlated Effects 0.000 claims 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 1
- 229940046892 lead acetate Drugs 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 claims 1
- 230000001172 regenerating Effects 0.000 claims 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 38
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001960 metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- -1 sodium cations Chemical class 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
Description
実際には、このことは、電解液組成物の調整可能な量がコーティング溶液から連続的に回収されている電解液によって遂行することができ、それにより電解液は、人工的に転用される。
有利には、コンピュータ・ユニットは、コーティング溶液の密度が記憶された基準密度値と相関することを条件として、電解液組成物または少なくとも電解液組成物の成分を除去または補充するための電子的に制御可能な除去および/または添加のデバイスを制御する。
装置に関しては、本発明の目的は、金属または酸化物の層で基板表面をコーティングするために電解液の少なくとも1つの電解液成分を連続的に除去および/または添加するための装置によって達成され、少なくとも1つの電解液成分を除去および/または添加するための前記装置は、電解液の密度を測定するためのデバイスおよびコンピュータ・ユニットを含み、少なくとも1つの電解液成分を除去および/または添加するための前記装置は、電解液の密度が、電解液の少なくとも1つの成分の添加および/または除去によって、データ記憶デバイスに記憶される予め定められた参照密度値と相関することを条件として、記憶された基準密度値と電解液の密度を測定するためのデバイスにより測定される密度値とを比較するコンピュータ・ユニットによって制御される。
有利には、本発明による装置は、温度、導電率、pH、比吸収係数、白濁などの溶液の特性の測定のための追加のデバイスを含んでもよく、ここで、これらのデバイスが測定される値は、コンピュータ装置に送り、記憶デバイスに記憶された基準値と比較することもでき、コンピュータ装置は、溶液の特性が、記憶された基準値と相関することを条件として、溶液の検出された特性に影響する加熱冷却システムのような追加のデバイスを制御するために適合される。
人工的な転用と密度に応じての消耗した溶液成分のトラッキングとの組合せ、揮発性の陰イオンを含む電解液の使用および第一に平衡状態にある電解液の使用によって、基板表面の無電解コーティングのためのコーティング処理は、初めて本発明による方法を提供され、そのコーティング処理は、理論的には無限の耐用寿命を有する。従って、金属コーティング溶液の新しい調製が回避され、それによって資源が節約され、その結果、これまで達成されたことのない生態学的なおよび経済的な利益が達成される。
本発明による方法の好ましい実施のための上述の種類の電解液は、例えばニッケルめっきの場合、以下の組成物を実質的に有してもよい:
4乃至6g/l ニッケル・イオン
25乃至60g/l 還元剤
25−70g/l 錯体形成剤
1乃至25g/l 触媒
0.1乃至2mg/l 安定化剤
0乃至3g/l 追加の成分
当該ベース電解液のpH範囲は、4.0乃至5.0である。既に上述したように、金属受容体として、好ましくは金属塩が使用され、その陰イオンは揮発性である。金属塩(その陰イオンは揮発性である)として、好ましくは、金属酢酸塩、金属ギ酸塩、金属硝酸塩、金属シュウ酸塩、金属プロピオン酸塩、金属クエン酸塩および金属アスコルビン酸塩からなる群からの一または複数の塩、最も好ましくは金属酢酸塩のみが使用される。反応の間、pHはH*−イオンの連続生成により減少し、水酸化物、炭酸塩などのアルカリ性媒質、または通常選択されるアンモニアによって複雑な方法でpHを目標範囲に維持しなければならないため、特別の利点は、陰イオンが揮発性であり、好ましくは酢酸塩、ギ酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、プロピオン酸塩、クエン酸塩およびアスコルビン酸塩の群に由来する金属塩の単独の使用に存在する。その理由は、金属−リン層の析出において、酢酸塩、ギ酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、プロピオン酸塩、クエン酸塩およびアスコルビン酸塩の陰イオンがナトリウム次亜リン酸塩からのナトリウム・カチオンと反応して、アルカリナトリウム塩を形成するからである。従って、析出処理の全体にわたって、電解液は、より多量のアルカリ性媒体を加える必要なしに、4.0乃至5.2、好ましくは4.3乃至4.8のpH範囲で作用する。この非常に有利なpH自己制御によって、処理の間、アルカリ性添加物はもちろん、連続pH制御も不要とすることができる。
4乃至6g/l ニッケル・イオン
25乃至60g/l 還元剤
25−70g/l 錯体形成剤
1乃至25g/l 触媒
0.1乃至2mg/l 安定化剤
0乃至3g/l 追加の成分
当該ベース電解液のpH範囲は、4.0乃至5.0である。既に上述したように、金属受容体として、好ましくは金属塩が使用され、その陰イオンは揮発性である。金属塩(その陰イオンは揮発性である)として、好ましくは、金属酢酸塩、金属ギ酸塩、金属硝酸塩、金属シュウ酸塩、金属プロピオン酸塩、金属クエン酸塩および金属アスコルビン酸塩からなる群からの一または複数の塩、最も好ましくは金属酢酸塩のみが使用される。反応の間、pHはH*−イオンの連続生成により減少し、水酸化物、炭酸塩などのアルカリ性媒質、または通常選択されるアンモニアによって複雑な方法でpHを目標範囲に維持しなければならないため、特別の利点は、陰イオンが揮発性であり、好ましくは酢酸塩、ギ酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、プロピオン酸塩、クエン酸塩およびアスコルビン酸塩の群に由来する金属塩の単独の使用に存在する。その理由は、金属−リン層の析出において、酢酸塩、ギ酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、プロピオン酸塩、クエン酸塩およびアスコルビン酸塩の陰イオンがナトリウム次亜リン酸塩からのナトリウム・カチオンと反応して、アルカリナトリウム塩を形成するからである。従って、析出処理の全体にわたって、電解液は、より多量のアルカリ性媒体を加える必要なしに、4.0乃至5.2、好ましくは4.3乃至4.8のpH範囲で作用する。この非常に有利なpH自己制御によって、処理の間、アルカリ性添加物はもちろん、連続pH制御も不要とすることができる。
多くの異なるタイプの基板がこのベース電解液中に置かれ、電流を流される。電解液の寿命および安定性を維持するために、電解液を、析出処理の間、電気透析および/またはイオン交換樹脂によって再生することができる。補充溶液(その例を下で挙げる)を、析出処理の間、電解液に添加することができる。これらの補充溶液は、ベース成分の個々の含有量の調節のために特別に構成され、異なる量で電解液に添加される。
以下に、図の解説を示す。
図2においては、電解液の処理時間および電解液の除去された量に応じた、異なる電解液組成物の密度特徴が示される。グラフ1は、先行技術から知られているニッケル層の析出に関する電解液の密度特徴を示す。グラフ2は、3.3%の電解液除去の設定量におけるニッケル層の析出に関する先行技術の電解液の密度特徴を示す。グラフ3は、欧州特許出願EP1413646から知られている種類の電解液の密度特徴を示し、その電解液において、金属塩(その陰イオンは揮発性である)は、電解液組成物の金属ベースの塩として使用される。グラフ4は、3.3%の電解液除去の設定量でグラフ3に関連して記載された電解液を示す。グラフ5は、10%の電解液除去の設定量でグラフ3に関連して記載された電解液を示す。
図2においては、電解液の処理時間および電解液の除去された量に応じた、異なる電解液組成物の密度特徴が示される。グラフ1は、先行技術から知られているニッケル層の析出に関する電解液の密度特徴を示す。グラフ2は、3.3%の電解液除去の設定量におけるニッケル層の析出に関する先行技術の電解液の密度特徴を示す。グラフ3は、欧州特許出願EP1413646から知られている種類の電解液の密度特徴を示し、その電解液において、金属塩(その陰イオンは揮発性である)は、電解液組成物の金属ベースの塩として使用される。グラフ4は、3.3%の電解液除去の設定量でグラフ3に関連して記載された電解液を示す。グラフ5は、10%の電解液除去の設定量でグラフ3に関連して記載された電解液を示す。
図3は、平衡状態における電解液の補充回数と比較した、1MTOあたりの電解液における相対的な材料損失を示す。左の境界線は、従来の電解液システムを示す。右の境界は、EP1413646A2による電解液システムに相当する。
4.6乃至5.2までpH範囲を増加させることによって、0乃至−15N/mm2の残留圧縮応力を有する層が析出される。第2のpH間隔の固定は、12乃至20μm/hまで析出速度を大幅に増大させる。これらの層のリン含有量は、8乃至10%Pに達する。さらに5.5乃至6.2までpH範囲を増加させることによって、−5乃至−30N/mm2の残留圧縮応力を有する層が析出される。これらの層のリン含有量は、2乃至7%Pに達する。
Claims (18)
- コーティング溶液において金属または酸化物の層で基板表面をコーティングする方法であって、ここで、溶液が少なくとも1つの成分を含み、その濃度がコーティング処理の経過で変化し、その結果、溶液の品質を維持するためにそれを補充または除去されなければならないものであって、ここで、前記方法の開始時から使用される前記溶液組成物は、基準密度値と相関する密度を有し、ここで、使用中に溶液の密度は基準密度値と比較され、少なくとも一成分の補充および/または除去が溶液組成物の密度に応じて行われ、そしてここで、均一な金属層が、少なくとも14金属ターンオーバーにおいて基板表面に析出するもの
- 少なくとも1成分の補充が前記溶液組成物の密度に応じて行われることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- コーティング溶液の測定された密度値が基準密度値と比較され、少なくとも1成分の補充および/または除去が、測定された密度値の基準密度値からの偏差に応じて行われることを特徴とする、請求項1又は請求項2の何れか1項に記載の方法。
- 前記溶液が、アニオンが揮発性である金属ベースの塩からなることを特徴とする、請求項1〜3の何れか1項に記載の方法。
- 前記溶液が以下からなる請求項1〜4の何れか1項に記載の方法。
(a)初期の金属イオン濃度が0.01から0.3モル/lである、アニオンが揮発性である金属ベースの塩
(b)還元剤
(c)錯体形成剤
(d)触媒、並びに
(e)安定化剤 - 前記金属ベースの塩が、酢酸塩、ギ酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、プロピオン酸塩、クエン酸塩、アスコルビン酸塩およびそれらの組合わせからなる群から選ばれるアニオンからなることを特徴とする、請求項4又は請求項5の何れか1項に記載の方法。
- 金属塩基性塩のアニオンが酢酸塩である、請求項6に記載の方法。
- 前記溶液がニッケルイオンからなる金属ベースの塩からなることを特徴とする、請求項1〜7の何れか1項に記載の方法。
- ニッケルイオン濃度が0.04〜0.16モル/lである、請求項8に記載の方法。
- 前記基準密度値が1.05〜1.3 g/cm 3 の密度範囲からなることを特徴とする、請求項8又は請求項9の何れか1項に記載の方法。
- 前記溶液組成物のpHが4.0〜5.2である請求項1〜10の何れか1項に記載の方法。
- 前記方法がさらに、コーティング工程中の電気透析法および/またはイオン交換によって再生する工程からなる請求項1〜11の何れか1項に記載の方法。
- 前記溶液が以下からなる請求項1〜12の何れか1項に記載の方法。
(a)4〜6g/l濃度のニッケルイオン
(b)25〜60g/l濃度の還元剤
(c)25〜70g/l濃度の錯体形成剤
(d)1〜25g/l濃度の触媒、並びに
(e)0.1〜2mg/l濃度の安定化剤 - 前記溶液が以下からなる第1の補充用液で補充されることを特徴とする、請求項13に記載の方法。
(a)500〜580g/l濃度の還元剤
(b)5〜15g/l濃度の錯体形成剤
(c)50〜150g/l濃度のアルカリ性緩衝剤
(d)11〜20g/l濃度の触媒 - 前記溶液がさらに以下からなる第2の補充溶液によって補充されることを特徴とする、請求項14に記載の方法。
(a)10〜50g/l濃度の錯体形成剤
(b)0.68〜2.283モル/l濃度の金属受容体
(c)1〜25g/l濃度の触媒、並びに
(d)40〜80mg/l濃度の安定化剤 - 前記溶液が以下からなる請求項1〜12の何れか1項に記載の方法。
(a)12.5〜25.5g/l濃度の酢酸ニッケル−4−水和物
(b)30〜50g/l濃度のナトリウム次亜リン酸塩
(c)32〜55g/l濃度のヒドキシカルボン酸
(d)0.5〜5g/l濃度のヒドキシポリカルボン酸
(e)2.5〜22g/l濃度のサッカリン・ナトリウム
(f)0.1〜2g/l濃度のヨウ化カリウム
(g)0.3〜1mg/l濃度の酢酸鉛、並びに
(h)100〜150ml/l濃度の25重量%アンモニウム - 金属または酸化物の層で基板表面をコーティングするための溶液の少なくとも1つの成分の連続的な補充および/または除去のための装置であって、前記装置が少なくとも1つの成分の補充および/または除去のためのデバイス、前記溶液の密度を測定するためのデバイス、およびコンピュータ・ユニットを含み、ここで、少なくとも1つの成分の補充および/または除去のためのデバイスが、密度を測定するためのデバイスによって測定される密度値に応じてコンピュータ・ユニットによって制御され、ここで、コンピュータ・ユニットが、記憶された基準密度値と前記溶液の密度を測定するためのデバイスによって測定された密度値とを比較するものであって、前記溶液の密度が、少なくとも1つの成分の補充および/または除去によって、記憶された基準密度値と相関することを条件とするもの。
- 密度を測定するためのデバイスが比重瓶、屈折計、比重計、密度天秤または曲げ共振器であることを特徴とする、請求項17に記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP06002099.7 | 2006-02-02 | ||
EP06002099A EP1816237A1 (de) | 2006-02-02 | 2006-02-02 | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substratoberflächen |
PCT/EP2007/000658 WO2007088008A2 (de) | 2006-02-02 | 2007-01-26 | Verfahren und vorrichtung zur beschichtung von substratoberflächen |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009525404A JP2009525404A (ja) | 2009-07-09 |
JP2009525404A5 true JP2009525404A5 (ja) | 2010-03-18 |
JP5695295B2 JP5695295B2 (ja) | 2015-04-01 |
Family
ID=36576014
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008552727A Active JP5695295B2 (ja) | 2006-02-02 | 2007-01-26 | 基板表面をコーティングする方法および装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090324804A1 (ja) |
EP (2) | EP1816237A1 (ja) |
JP (1) | JP5695295B2 (ja) |
KR (1) | KR101466995B1 (ja) |
CN (1) | CN101437986B (ja) |
ES (1) | ES2706874T3 (ja) |
PL (1) | PL1979511T3 (ja) |
WO (1) | WO2007088008A2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
PL2449148T3 (pl) * | 2009-07-03 | 2019-06-28 | Macdermid Enthone Inc. | Elektrolit zawierający beta-aminokwas i sposób osadzania warstwy metalu |
US20130087463A1 (en) * | 2011-10-05 | 2013-04-11 | Globalfoundries Inc. | Method and System for Metal Deposition in Semiconductor Processing |
KR101502795B1 (ko) * | 2012-03-15 | 2015-03-13 | 김종호 | 포물선의 전체 또는 일부의 굴절경로를 갖는 진주광택 안료 입자 및 이의 제조방법 |
US9708693B2 (en) * | 2014-06-03 | 2017-07-18 | Macdermid Acumen, Inc. | High phosphorus electroless nickel |
DE102018008312A1 (de) | 2018-10-22 | 2020-04-23 | RIAG Oberflächentechnik AG | Verfahren zur Beschichtung von Substratoberflächen, Vorrichtung mit Beschichtungsbad, Dichtemesseinrichtung, Entnahmeeinrichtung, Zugabeeinrichtungen und Steuerung |
CN113755937B (zh) * | 2021-09-09 | 2022-12-09 | 中国航发南方工业有限公司 | 电镀铂槽液的维护方法 |
CN114351231B (zh) * | 2022-01-04 | 2022-11-25 | 深圳技术大学 | 电解液中金属离子浓度的测量和监控的设备和方法 |
Family Cites Families (25)
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- 2006-02-02 EP EP06002099A patent/EP1816237A1/de not_active Withdrawn
-
2007
- 2007-01-26 CN CN2007800119432A patent/CN101437986B/zh active Active
- 2007-01-26 WO PCT/EP2007/000658 patent/WO2007088008A2/de active Application Filing
- 2007-01-26 KR KR1020087021543A patent/KR101466995B1/ko active IP Right Grant
- 2007-01-26 PL PL07703047T patent/PL1979511T3/pl unknown
- 2007-01-26 EP EP07703047.6A patent/EP1979511B1/de active Active
- 2007-01-26 ES ES07703047T patent/ES2706874T3/es active Active
- 2007-01-26 US US12/278,256 patent/US20090324804A1/en not_active Abandoned
- 2007-01-26 JP JP2008552727A patent/JP5695295B2/ja active Active
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