JP2009505156A5 - - Google Patents
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Claims (2)
- 導電性支持体、該導電性支持体上に配設された電気バリア層、及び該電気バリア層上に配設された、化学放射線に曝されたときに正の電荷キャリアを発生する電荷発生層を含んでなり、前記バリア層に、架橋剤、及びポリマー鎖中に繰返し単位として共有結合した下記式から誘導される芳香族テトラカルボニルビスイミド基を有する架橋可能な縮合ポリマーが含まれることを特徴とする光導電素子。
- 導電性支持体、該導電性支持体上に配設された電気バリア層、及び該電気バリア層上に配設された、化学放射線に曝されたときに正の電荷キャリアを発生する電荷発生層を含んでなり、前記バリア層に、架橋剤、及び下記式から誘導される芳香族テトラカルボニルビスイミド基を有する架橋可能なポリエステル−co−イミドを含む縮合ポリマーが含まれることを特徴とする光導電素子。
ｘは、モノマー供給体のジ酸成分におけるテトラカルボニルビスイミドのジ酸残基のモル分率であり、
ｙは、モノマー供給体のグリコール成分におけるテトラカルボニルビスイミドのグリコール残基のモル分率であり、そして
ｘ＋（１−ｙ）＝０．１〜１．９であり、
Ａｒ１及びＡｒ２には、６〜２０個の炭素原子を有する４価の芳香族基が含まれ、これらは同じであっても、異なっていてもよく、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４には、アルキレンが含まれ、これらは同じであっても、異なっていてもよく、
Ｒ５には、アルキレン又はアリーレンが含まれ、そして
Ｒ６には、アルキレンが含まれる。
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