JP2010164933A5 - 化学増幅型レジスト組成物 - Google Patents

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  1. 少なくとも、下記一般式(1)で示されるカルボキシル基を有するアミン化合物の1種又は2種以上を含有するものであることを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
    Figure 2010164933
    (式中、R 、R はそれぞれ炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数2〜10のヒドロキシアルキル基、炭素数2〜10のアルコキシアルキル基、炭素数2〜10のアシルオキシアルキル基、炭素数1〜10のアルキルチオアルキル基のいずれかである。またR とR が結合して環構造を形成してもよい。R は、水素、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数2〜10のヒドロキシアルキル基、炭素数2〜10のアルコキシアルキル基、炭素数2〜10のアシルオキシアルキル基、炭素数1〜10のアルキルチオアルキル基、ハロゲン基のいずれかである。R は炭素数0〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基、炭素数6〜20のアリーレン基である。)
  2. 更に、下記一般式(4)で示されるアミン化合物の1種又は2種以上を含有するものであることを特徴とする請求項1に記載の化学増幅型レジスト組成物。
    Figure 2010164933
    (式中、R 、R 、R は、それぞれ水素原子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数2〜10のヒドロキシアルキル基、炭素数2〜10のアルコキシアルキル基、炭素数2〜10のアシルオキシアルキル基、炭素数1〜10のアルキルチオアルキル基のいずれかである。またR 7、 8、 の2個が結合して環構造もしくは芳香族環を形成してもよい。)
  3. 更に、下記一般式(5)で示されるアミンオキシド化合物の1種又は2種以上を含有するものであることを特徴とする請求項1に記載の化学増幅型レジスト組成物。
    Figure 2010164933
    (式中、R 、R 、R は、それぞれ水素原子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数2〜10のヒドロキシアルキル基、炭素数2〜10のアルコキシアルキル基、炭素数2〜10のアシルオキシアルキル基、炭素数1〜10のアルキルチオアルキル基のいずれかである。またR 7、 8、 の2個が結合して環構造もしくは芳香族環を形成してもよい。)
  4. 更に、主要成分として、
    (A1)酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂
    (B)酸発生剤
    を含有するものであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の化学増幅型レジスト組成物。
  5. 更に、主要成分として、
    (A2)アルカリ可溶性であり、酸触媒によりアルカリ不溶性となるベース樹脂、及び/または、アルカリ可溶性であり、酸触媒により架橋剤と反応してアルカリ不溶性になるベース樹脂と架橋剤の組み合わせ
    (B)酸発生剤
    を含有するものであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の化学増幅型レジスト組成物。
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