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Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4866606B2 (ja) * 2005-12-28 2012-02-01 富士フイルム株式会社 感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
JP4695996B2 (ja) * 2006-02-27 2011-06-08 富士フイルム株式会社 感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
EP2125713B1 (en) 2006-10-04 2012-04-18 Basf Se Sulphonium salt photoinitiators
CN101778818B (zh) * 2007-08-07 2014-01-08 株式会社Adeka 芳香族硫鎓盐化合物
KR101599562B1 (ko) * 2007-10-10 2016-03-03 바스프 에스이 술포늄 염 개시제
US8512934B2 (en) * 2007-10-10 2013-08-20 Basf Se Sulphonium salt initiators
EP2197869B1 (en) * 2007-10-10 2013-04-24 Basf Se Sulphonium salt initiators
CN102056913A (zh) * 2008-06-12 2011-05-11 巴斯夫欧洲公司 锍衍生物及其作为潜酸的用途
JP5385017B2 (ja) * 2008-07-11 2014-01-08 信越化学工業株式会社 レジストパターン形成方法及びフォトマスクの製造方法
WO2010046240A1 (en) * 2008-10-20 2010-04-29 Basf Se Sulfonium derivatives and the use therof as latent acids
JP2012511527A (ja) * 2008-12-12 2012-05-24 バイエル ファーマ アクチエンゲゼルシャフト 陽電子放出アイソトープ標識のためのトリアリール−スルホニウム化合物、キット及び方法
EP2199856B1 (en) 2008-12-18 2013-08-07 Agfa Graphics N.V. Cationic radiation curable compositions
JP5576139B2 (ja) * 2009-02-20 2014-08-20 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩,光酸発生剤,光硬化性組成物,及びその硬化体
WO2010095385A1 (ja) * 2009-02-20 2010-08-26 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩,光酸発生剤及び感光性樹脂組成物
JP5448157B2 (ja) * 2009-03-13 2014-03-19 株式会社Adeka 芳香族スルホニウム塩化合物
JP5491913B2 (ja) * 2009-03-18 2014-05-14 サンアプロ株式会社 化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
EP2495234B1 (en) * 2009-10-26 2018-06-06 Adeka Corporation Aromatic sulfonium salt compound
JP5543757B2 (ja) * 2009-11-11 2014-07-09 サンアプロ株式会社 スルホニウム塩,光酸発生剤,硬化性組成物及びポジ型フォトレジスト組成物
US9382352B2 (en) 2009-11-12 2016-07-05 Ndsu Research Foundation Polymers derived from plant oil
EP2499171A4 (en) * 2009-11-12 2014-06-18 Ndsu Res Foundation POLYMERS FROM A VEGETABLE OIL
US20120251841A1 (en) 2009-12-17 2012-10-04 Dsm Ip Assets, B.V. Liquid radiation curable resins for additive fabrication comprising a triaryl sulfonium borate cationic photoinitiator
CN102725689B (zh) 2010-01-22 2014-10-08 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 能固化成具有选择性视觉效果的层的液体可辐射固化树脂及其使用方法
US8871423B2 (en) * 2010-01-29 2014-10-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Photoresist composition for fabricating probe array, method of fabricating probe array using the photoresist composition, composition for photosensitive type developed bottom anti-reflective coating, fabricating method of patterns using the same and fabricating method of semiconductor device using the same
BR112012024919B1 (pt) * 2010-03-30 2019-01-02 Surmodics Inc agente ligante degradável, método de revestir uma superfície de suporte com um agente ligante para prover a superfície com um ou mais grupos reativos latentes, superfície de suporte e dispositivo médico revestido
US10315987B2 (en) 2010-12-13 2019-06-11 Surmodics, Inc. Photo-crosslinker
JP5787720B2 (ja) * 2010-12-16 2015-09-30 キヤノン株式会社 感光性ネガ型樹脂組成物
KR101229312B1 (ko) * 2011-01-03 2013-02-04 금호석유화학 주식회사 술포늄 화합물, 광산발생제 및 이의 제조방법
US8816211B2 (en) * 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
EP2502728B1 (en) 2011-03-23 2017-01-04 DSM IP Assets B.V. Lightweight and high strength three-dimensional articles producible by additive fabrication processes
US9631040B2 (en) 2012-05-18 2017-04-25 Ndsu Research Foundation Functionalized amphiphilic plant-based polymers
EP2850120A4 (en) 2012-05-18 2016-02-10 Ndsu Res Foundation FUNCTIONALIZED AMPHIPHILE POLYMERS ON PLANT BASIS
JP5899068B2 (ja) * 2012-06-28 2016-04-06 東京応化工業株式会社 厚膜用ポジ型レジスト組成物、厚膜レジストパターンの製造方法、接続端子の製造方法
JP5739497B2 (ja) * 2012-09-15 2015-06-24 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC 酸発生剤化合物およびそれを含むフォトレジスト
TWI498675B (zh) * 2012-09-15 2015-09-01 羅門哈斯電子材料有限公司 酸產生劑化合物及含該化合物之光阻劑
TWI573782B (zh) * 2012-12-07 2017-03-11 Dsp五協食品&化學品股份有限公司 新穎鋶鹽化合物、其製造方法及光酸產生劑
WO2014113326A2 (en) 2013-01-15 2014-07-24 Ndsu Research Foundation Plant oil-based materials
CN103642383B (zh) * 2013-12-04 2016-04-20 江南大学 一种本征型光固化抗静电树脂的制备方法
JP6278367B2 (ja) * 2014-05-13 2018-02-14 東洋合成工業株式会社 オニウム塩、光酸発生剤、感光性樹脂組成物及びデバイスの製造方法
JP6583136B2 (ja) * 2016-05-11 2019-10-02 信越化学工業株式会社 新規スルホニウム化合物及びその製造方法、レジスト組成物、並びにパターン形成方法
JP6561937B2 (ja) * 2016-08-05 2019-08-21 信越化学工業株式会社 ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
US10416558B2 (en) * 2016-08-05 2019-09-17 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Positive resist composition, resist pattern forming process, and photomask blank
CN107698477B (zh) 2016-08-08 2020-05-12 常州强力电子新材料股份有限公司 一种新型阳离子型光引发剂及其制备方法和应用
CN109456242B (zh) 2017-09-06 2021-02-12 常州强力电子新材料股份有限公司 硫鎓盐光引发剂、其制备方法、包含其的光固化组合物及其应用
JP2021522086A (ja) 2018-05-03 2021-08-30 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ.Dsm Ip Assets B.V. 積層造形によって作られる光造形物品の後加工方法
JP7499071B2 (ja) * 2019-06-04 2024-06-13 住友化学株式会社 塩、クエンチャー、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法並びに塩の製造方法
CN114901638B (zh) * 2020-03-17 2024-10-29 三亚普罗股份有限公司 锍盐、光酸产生剂、固化性组合物和抗蚀剂组合物

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ZA805273B (en) * 1979-09-28 1981-11-25 Gen Electric Process of deep section curing photocurable compositions
JPH107649A (ja) * 1996-06-18 1998-01-13 Nippon Kayaku Co Ltd 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物
KR100279497B1 (ko) * 1998-07-16 2001-02-01 박찬구 술포늄 염의 제조방법
TWI250379B (en) 1998-08-07 2006-03-01 Az Electronic Materials Japan Chemical amplified radiation-sensitive composition which contains onium salt and generator
JP3476374B2 (ja) * 1998-10-09 2003-12-10 富士写真フイルム株式会社 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
US6723483B1 (en) * 1999-12-27 2004-04-20 Wako Pure Chemical Industries, Ltd. Sulfonium salt compounds
JP3972568B2 (ja) * 2000-05-09 2007-09-05 住友化学株式会社 化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩
JP4177952B2 (ja) * 2000-05-22 2008-11-05 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物
TWI286664B (en) * 2000-06-23 2007-09-11 Sumitomo Chemical Co Chemical amplification type positive resist composition and sulfonium salt
JP4262402B2 (ja) * 2000-10-20 2009-05-13 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物
JP4150509B2 (ja) * 2000-11-20 2008-09-17 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物
US6749987B2 (en) 2000-10-20 2004-06-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition
JP2002202605A (ja) * 2000-12-28 2002-07-19 Fuji Photo Film Co Ltd 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
ATE438638T1 (de) 2001-07-19 2009-08-15 Lamberti Spa Sulfoniumsalze als photoinitiatoren für strahlungshärtbare systeme
JP2003255542A (ja) * 2002-03-04 2003-09-10 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性組成物
GB0204467D0 (en) 2002-02-26 2002-04-10 Coates Brothers Plc Novel fused ring compounds, and their use as cationic photoinitiators
US6911297B2 (en) * 2002-06-26 2005-06-28 Arch Specialty Chemicals, Inc. Photoresist compositions
US7611817B2 (en) * 2002-09-25 2009-11-03 Adeka Corporation Aromatic sulfonium salt compound, photo-acid generator comprising the same and photopolymerizable composition containing the same, resin composition for optical three-dimensional shaping, and method of optically forming three-dimensional shape
JP4253486B2 (ja) * 2002-09-25 2009-04-15 富士フイルム株式会社 ポジ型又はネガ型レジスト組成物、酸発生剤及びパターン形成方法
JP4115309B2 (ja) 2003-03-24 2008-07-09 富士フイルム株式会社 ポジ型レジスト組成物
JP4399192B2 (ja) * 2003-06-03 2010-01-13 富士フイルム株式会社 感光性組成物

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