JP2009295751A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. 基台と、
   前記基台に支持され、該基台に対して上下方向に相対移動可能な複数の基板支持部材と、
   前記基板支持部材の上端にそれぞれ設けられた基板把持部と、
   前記基板支持部材を上下動させる駆動機構と、
   前記基板支持部材の下降と連動して、少なくとも１つの前記基板支持部材上の前記基板把持部を基板に押圧し、前記基板支持部材の上昇と連動して、前記基板把持部を基板から離間させる押圧機構とを備えることを特徴とする基板把持機構。
2. 前記押圧機構は、前記基板支持部材の上下動と連動して、前記少なくとも１つの基板支持部材をその軸心周りに回転させる回転機構であることを特徴とする請求項１に記載の基板把持機構。
3. 前記押圧機構は、
   前記少なくとも１つの前記基板支持部材および前記基台のうちのいずれか一方に取り付けられた第１の磁石と、
   前記少なくとも１つの前記基板支持部材および前記基台のうちの他方に取り付けられた第２の磁石とを備え、
   前記第１の磁石は、前記基板支持部材の上下動に伴って、前記第２の磁石と近接した位置となるように配置され、
   前記第１の磁石と前記第２の磁石が近接したときに、前記第１の磁石と前記第２の磁石との間に発生する磁力により前記基板把持部が基板の周端部を押圧する方向に前記基板支持部材を移動させることを特徴とする請求項１に記載の基板把持機構。
4. 前記第２の磁石が取り付けられている前記少なくとも１つの前記基板支持部材または前記基台には、第３の磁石がさらに取り付けられており、
   前記第１の磁石は、前記基板支持部材の上下動に伴って、前記第２の磁石および前記第３の磁石のいずれか一方と近接した位置となるように配置されていることを特徴とする請求項３に記載の基板把持機構。
5. 前記少なくとも１つの基板支持部材には、その軸心に沿って延びる溝が形成されており、
   前記基台には、前記溝に緩やかに係合する突起部が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板把持機構。
6. 前記押圧機構は、
   前記少なくとも１つの基板支持部材に形成された螺旋溝と、
   前記基台に設けられた、前記螺旋溝に係合するピンとを有することを特徴とする請求項１に記載の基板把持機構。
7. 前記基台および前記複数の基板支持部材を回転させる機構をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板把持機構。
8. 基台と、
   前記基台に支持された複数の基板支持部材と、
   前記基板支持部材の上端にそれぞれ設けられた基板把持部および位置決め部と、
   前記基板支持部材の少なくとも１つをその軸心周りに回転させる回転機構とを備え、
   前記基板把持部は、前記基板支持部材の軸心から偏心して配置され、
   前記位置決め部は、前記基板支持部材と同心の円に沿って湾曲する側面を有することを特徴とする基板把持機構。
9. 基板を把持する方法において、
   複数の基板支持部材の上端に設けられた基板把持部により基板を押圧することで該基板を把持する把持工程と、
   該複数の基板支持部材を上昇させて前記基板把持部を基板から離間させる離間工程とを有し、
   前記把持工程と前記離間工程とが、前記複数の基板支持部材を上下動させる動作により行われることを特徴とする基板把持方法。
10. 前記把持工程は、前記複数の基板支持部材の少なくとも１つを回転させることにより、前記基板把持部を基板に押圧することを特徴とする請求項９に記載の基板把持方法。
11. 基板を把持しながら洗浄する方法において、
    回転カバーに覆われた複数の基板支持部材の上端に設けられた基板把持部により基板を押圧することで該基板を把持する把持工程と、
    前記基板把持部に把持された基板を回転させながら、該基板上に洗浄液を供給して該基板を洗浄する洗浄工程と、
    前記複数の基板支持部材を上昇させて前記基板把持部を基板から離間させる離間工程とを有し、
    前記把持工程と前記離間工程とが、前記複数の基板支持部材を上下動させる動作により行われることを特徴とする方法。
12. 基板を把持しながら乾燥する方法において、
    回転カバーに覆われた複数の基板支持部材の上端に設けられた基板把持部により基板を押圧することで該基板を把持する把持工程と、
    前記基板把持部に把持された基板を回転させて該基板を乾燥する乾燥工程と、
    前記複数の基板支持部材を上昇させて前記基板把持部を基板から離間させる離間工程とを有し、
    前記把持工程と前記離間工程とが、前記複数の基板支持部材を上下動させる動作により行われることを特徴とする方法。