JP2009210266A - 管状体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】セラミック繊維からなる骨材と前記セラミック繊維間に充填された炭素質とからなる管状の繊維強化炭素質基材の少なくとも外表面にSiC層が形成され、前記繊維強化炭素質基材と前記SiC層の境界領域から当該繊維強化炭素質基材の内部に向かってケイ素原子が拡散してなる管状体。上記骨材に熱分解炭素を気相成長させて繊維強化炭素質基材を形成した後、前記繊維強化炭素質基材の少なくとも外表面に位置する熱分解炭素をSiOガスでSiCに反応転化させてSiC層を形成して上記管状体を得る製造方法。
【選択図】図2
Description
しかしながら、このような全体としてSiCからなる被覆管は、モノシリックSiC層がCVD(化学気相成長)等で形成され、内層、中間層、外層とも剛性が高いため、特に運転開始時に発生する急激な温度差により発生する歪みが、被覆管の表裏を貫通するクラックに進展する恐れがある。
また、前記発明では、このような問題を防止するために、個々の繊維にクラックの進展を止めるための内側熱分解炭素副層と、酸化性の環境に対して炭素を保護する外側SiC副層からなる2重の被覆を設けることが提案されている。しかしながら、個々の繊維に2重の被覆を設けるためには、個々の繊維を分散させた状態で繊維表面に成膜させなければならず、十分に分散できなければ上記いずれか片方しか被覆できないことがあり、SiC繊維と、SiCマトリックスが接し、熱分解炭素層が十分に機能しない恐れがある。
また、前記に記載の発明は、2回のSiC表面に被覆を設ける工程とSiC繊維からなる予備成形物に、CVD、あるいはポリマー浸透/熱分解を繰り返し多段階処理でSiCマトリックスを形成している。このような製造方法は、何度も処理を繰り替えさなければならず、工程が複雑であった。
1)セラミック繊維からなる骨材と前記セラミック繊維間に充填された炭素質とからなる管状の繊維強化炭素質基材の少なくとも外表面にSiC層が形成され、
前記繊維強化炭素質基材と前記SiC層の境界領域から当該繊維強化炭素質基材の内部に向かってケイ素原子が拡散してなることを特徴とする管状体。
2)前記繊維強化炭素質基材を構成する骨材は、ワインディング法によりセラミック繊維を管状に形成されていることを特徴とする上記1)に記載の管状体。
3)前記繊維強化炭素質基材を構成する骨材は、セラミック繊維からなるストランドを組紐状に織り合せて形成された中空のメッシュ体であることを特徴とする上記1)に記載の管状体。
4)核燃料被覆管として使用されることを特徴とする上記1)〜3)のいずれかに記載の管状体。
5)上記1)に記載の骨材に熱分解炭素を気相成長させて繊維強化炭素質基材を形成した後、前記繊維強化炭素質基材の少なくとも外表面に位置する熱分解炭素をSiOガスでSiCに反応転化させてSiC層を形成して上記1)〜4)のいずれかに記載の管状体を得ることを特徴とする管状体の製造方法。
6)前記SiC層を形成した後、更に、前記SiC層の表面にSiCを堆積させることを特徴とする上記5)に記載の管状体の製造方法。
特に本発明は、炭素と反応する恐れのない冷却材を使用する高温ガス炉等において、構造が簡単で破損しにくい管状体を提供することができる。
繊維強化炭素質基材は、セラミック繊維からなる骨材と、前記セラミック繊維間に充填された炭素質とからなる管状体である。
本発明において、炭素質とは、実質的に炭素からなるものをいい、炭素質としては、熱分解炭素やガラス状炭素などどのような物であってもかまわないが特に熱分解炭素が好ましい。
熱分解炭素は、セラミック繊維、特にSiC繊維との付着性がよいうえ、高純度の原料ガスを使用することにより、高純度の炭素質を得ることができる。前記骨材に、熱分解炭素を気相成長させる化学蒸気浸透(CVI)処理を施すことによりセラミック繊維間に炭素質が充填され繊維強化炭素質基材を形成することができる。なお、CVIはCVDと同じ原理に基づく真空製膜法である。
繊維強化炭素質基材において、基材全体に対するセラミック繊維の質量比率は、10〜50%が好ましく、20〜30%が更に好ましい。10%を下回ると、基材の強度が低下し、50%を超えると、CVI処理前に圧縮したまま保持することが困難であり形状が変化しやすいからである。
繊維強化炭素質基材の厚みは、0.3〜2mmが好ましく、0.5〜1.2mmが更に好ましい。0.3mm未満では十分な強度を持つことが困難である場合があり、2mmを超えると、冷却材に熱を十分に伝えられない傾向があるからである。
SiC層は、実質的にSiCからなるものを言い、通常、SiCを95質量%以上含むものをいう。
SiC層は、SiOガスにより、繊維強化炭素質基材表面の炭素質をSiCに反応転化させて得ることができる。SiOガスは、例えばSi粉−SiO2粉、SiC粉−SiO2粉、炭素粉−SiO2粉その他の各種ケイ素混合物等を発生源として炉の底部に配し、その上部に前記繊維強化炭素質基材を配し1300〜2300℃で熱処理することにより得られる。
このように反応転化で形成されたSiC層(CVR−SiC層)は、SiC層と繊維強化炭素質基材との境界は明確ではなく、境界領域から当該繊維強化炭素質基材の内部に向かってケイ素原子が拡散した構造となっている(図2に示すように、CVR−SiCは、管の内側から外側方向へその密度が暫時増加するように境界領域7及びSiC層8を形成する)。尚、CVD等で形成されたCVD−SiC層の場合、繊維強化炭素質基材との境界領域から当該繊維強化炭素質基材の内部に向かってケイ素原子の拡散は見られない。
SiCは熱分解炭素に対して、熱膨張係数が2〜3倍であるため、剥離しやすいといった課題があるが、CVR−SiC層は元々炭素質をSiCに転化させたものであり炭素質と明確な境界を持たないため、層間剥離が発生しにくいといった利点がある。
また、水や、溶融金属等の炭素と反応性のある冷却材用の被覆管用途には本発明のSiC層表面上に新たにSiC層を堆積させても良い。堆積させる方法は特に限定されないが、特にCVD法によるCVD−SiC層が望ましい。CVD−SiC層の方が高密度であるため、熱媒体として使用される冷却水、溶融金属との反応性が低く遮蔽効果も高いため、長寿命の管状体が提供できる。
本発明のSiC層の厚みは、10〜500μmが好ましく、20〜100μmが更に好ましい。この範囲で本発明の効果が十分に奏されるが、10μm未満であると、摩耗により炭素質層が露出する傾向があり、500μmを超えると、繊維強化炭素質基材の炭素質が少なくなる場合がある。
本発明のSiC層の上にさらにCVD−SiC層をコーティングした場合その厚さは、2〜300μmが好ましく、10〜100μmが更に好ましい。2μm未満の場合には、CVD−SiC層の薄い部分が発生し易く、十分な遮蔽効果を得ることが出来ない場合があり、300μmを超える場合には、成膜の厚さムラによる寸法誤差が大きくなる上に、SiCは硬いために修正加工することも困難な傾向にある。
骨材を構成するセラミック繊維素材としては、SiC、炭素、ZrC等が挙げられるが、中でもSiCや、特に超高温ガス炉用途においてはZrCが好ましい。これらは、冷却材との反応が起こりにくい上に、耐熱性も備えているからである。
セラミック繊維の太さは、特に限定されないが、直径10〜20μmの太さのセラミック繊維を好適に利用できる。ストランドは繊維100〜1000本から構成されているものを好適に利用できる。
本発明の管状体の繊維強化炭素質基材を構成する骨材は、管状に形成されていれば特にその構成に制限はないが、セラミック繊維のストランドを用いてワインディングで形成したり、組紐中空のメッシュ体に編んで形成されるものが好ましい。組紐の場合は、セラミック繊維からなるストランドを、中芯型の中心軸に対して斜めに配向するように織り合せて形成されたり、さらに中心軸に平行なストランドを用いた3軸織りで形成される。
尚、本発明の管状体を形成するワインディング法には、フィラメントを巻き付けるフィラメントワインディング法の他、織布等のシートを巻き付けるシートワインディング法等がある。
(1)骨材形成工程
本発明の管状体の骨材はセラミック繊維をフィラメントワインディング、組紐等の方法で所定の太さの中芯型に巻き付けることによって得ることができる。
組紐状では、特に縦糸と互いに反対方向に周回する2組の横糸からなる3軸織りで骨材を構成することが望ましい。3軸織りの場合には2組の横糸に縦糸が筋交いとして加わることにより、より剛性が高く、個々の繊維にかかる張力を押さえた管状体を提供することができる。
セラミック繊維はどのようなものであっても構わないが、例えばSiC繊維として、日本カーボン製ハイニカロン等を利用することができる。
中芯型の材質は、特に限定されないが、後のCVD工程等において反応しないよう黒鉛製の中芯型を用いることが好ましい。
骨材の離型を行い易くするために、中芯型に離型剤を塗布しておくと良い。離型剤の種類は特に限定されないが、CVD後に離型しやすく、不純物の混入の恐れのない黒鉛粉末や、黒鉛粉末をベースとしたものが望ましい。
炭素質の形成方法は、CVIによる熱分解炭素や、炭素前駆体となる樹脂溶液の含浸を繰り返し焼成したガラス状炭素等があげられる。中でも、CVI(CVD)による熱分解炭素は、原料ガスを高純度にすることにより、高純度の炭素質が得られやすい上、連続的に原料ガスを供給し1回の処理で炭素質が得られるため、特に望ましい。
尚、CVI(CVD)は、炭化水素ガスを原材料、水素をキャリアガスとし、CVI(CVD)炉で真空度1〜30kPa、1200〜1900℃程度で処理することで得られる。
また、次工程のSiC層で、十分な厚さのSiC層を形成するために、骨材の繊維間に炭素質が充填されてからも引き続き処理を続け、繊維強化炭素質基材表面に熱分解炭素のみからなる厚い炭素質層を成長させても構わない。骨材の繊維間に炭素質が充填された段階でCVI(CVD)処理を停止した場合には、繊維強化炭素質基材表面には多くても100μm程度の熱分解炭素のみからなる炭素質層が形成されるのみであるが、引き続き処理を進めることにより、十分な厚さのSiC層を得るために必要な熱分解炭素のみからなる炭素質層を得ることができる。
尚、炭素質形成工程において、十分な厚さのSiC層を得るために必要な熱分解炭素のみからなる炭素質層を形成しない場合には、(図3)のように、繊維強化炭素質基材内部の炭素質にケイ素原子が拡散した管状体も得ることができる。
(3)SiC層形成工程
上記までに作られた中間製品を大気圧、1200〜2300℃の反応炉を用いて、熱分解炭素表面をSiOガス中で以下の反応(CVR)を行うことで反応転化SiCからなるCVR−SiC層を得ることができる。
2C+SiO→SiC+CO↑
SiC層は、前記繊維強化炭素質基材の外表面だけでなく、内表面にも形成しても構わない。
SiC層を両側に形成する場合は、管状の骨材をそのままCVD炉で熱分解炭素をCVI(CVD)処理し、引き続き反応炉でSiC化処理し、外表面及び内表面を反応転化しSiC化することによって得ることができる。また管状の骨材に中芯型を挿入しCVD炉で熱分解炭素をCVI(CVD)処理し、繊維強化炭素質基材を得た後、中芯型を抜き、外表面及び内表面を反応炉で反応転化しSiC化することによって得ることもできる。
また、本発明では、外表面をCVR−SiC層とした管状体を得るまでに、(1)骨材形成工程、(2)炭素質形成工程、(3)SiC層形成工程の3工程で得られることができ、特許文献1の発明に比べて大幅に工程を簡略化することができる。
まず、3軸織りの組紐を形成するための棒状の中芯型を用意する。中芯型の材質は、CVD工程等において反応しないよう黒鉛製の中芯型を用いる。
中芯型の太さ(直径)は核燃料の大きさ(直径8〜11mm)程度である。
なお、ここで使用するSiC繊維は高純度のものを使用することが望ましい。
前記工程で得られた骨材を、熱分解炭素のCVD炉に入れ、熱分解炭素をSiC繊維間に堆積させる。そのときの条件は、プロパンを原料ガスに、水素をキャリアガスとして1700℃程度、1時間程度で繊維間に熱分解炭素を堆積させて厚み1mmで、炭素質が20質量%の繊維強化炭素質基材を得る。
前記工程で得られた繊維強化炭素質基材表面を、反応炉によりSiOガスでSiCに反応転化する。尚、SiOガスは、炉内に設置されたSiC粉末とSiO2粉末を混合した発生源から発生させ、反応温度は1900℃、圧力は大気圧、反応時間は1時間、アルゴン雰囲気下で好適に転化することができる。CVR−SiC層の厚みは10μmである。
前記工程までで本発明の管状体は作ることができるが、より気密性を高めるため、反応転化したSiC表面にさらにCVD−SiC層を堆積する。CVD炉に前記中間製品を入れ、メチルトリクロロシランガスを用い、1350℃で成膜する。CVD−SiC層の厚みは20μmである。
以上の方法により、本発明の管状体を得ることができる。この管状体を核燃料被覆管に用いる例を図1に示す。
3 セラミックス繊維
4 炭素質
6 繊維強化炭素質基材
7 境界領域
8 SiC層
Claims (6)
- セラミック繊維からなる骨材と前記セラミック繊維間に充填された炭素質とからなる管状の繊維強化炭素質基材の少なくとも外表面にSiC層が形成され、
前記繊維強化炭素質基材と前記SiC層の境界領域から当該繊維強化炭素質基材の内部に向かってケイ素原子が拡散してなることを特徴とする管状体。 - 前記繊維強化炭素質基材を構成する骨材は、ワインディング法によりセラミック繊維を管状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の管状体。
- 前記繊維強化炭素質基材を構成する骨材は、セラミック繊維からなるストランドを組紐状に織り合せて形成された中空のメッシュ体であることを特徴とする請求項1に記載の管状体。
- 核燃料被覆管として使用されることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の管状体。
- 請求項1に記載の骨材に熱分解炭素を気相成長させて繊維強化炭素質基材を形成した後、前記繊維強化炭素質基材の少なくとも外表面に位置する熱分解炭素をSiOガスでSiCに反応転化させてSiC層を形成して請求項1〜4のいずれかに記載の管状体を得ることを特徴とする管状体の製造方法。
- 前記SiC層を形成した後、更に、前記SiC層の表面にSiCを堆積させることを特徴とする請求項5に記載の管状体の製造方法。
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