JP2009167101A - シリコンインゴットの製造方法および製造装置 - Google Patents
シリコンインゴットの製造方法および製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009167101A JP2009167101A JP2009112633A JP2009112633A JP2009167101A JP 2009167101 A JP2009167101 A JP 2009167101A JP 2009112633 A JP2009112633 A JP 2009112633A JP 2009112633 A JP2009112633 A JP 2009112633A JP 2009167101 A JP2009167101 A JP 2009167101A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon
- liquid
- crucible
- temperature
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/02—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt
- C30B15/04—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt adding doping materials, e.g. for n-p-junction
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】シリコンとの共晶反応を持ち、シリコン合金となったときの共晶点がシリコンの融点より低い元素と、金属シリコンとを、坩堝内で加熱融解し合金融液を生成する工程と、前記合金融液に対し共晶反応を利用してシリコンを低温凝固精製すると共に、前記合金融液より引き上げ法によりシリコンインゴットを生成する工程とを含むことを特徴とするシリコンインゴットの製造方法。
【選択図】図1
Description
2 1273Kの温度の線
10 容器
11 真空排気系
12 ガス導入系
13 坩堝
14 グラファイト坩堝
15 ヒータ
16 引き上げ機構
17 軸
18 種結晶
19 二波長式放射温度計
20 融液
21 制御装置
Claims (14)
- シリコンとの共晶反応を持ち、シリコン合金となったときの共晶点がシリコンの融点より低い元素と、純度98%以上の金属シリコンとを、坩堝内で加熱融解して合金融液を生成し、前記合金融液より引き上げ法によりシリコンインゴットを生成するシリコンインゴットの製造方法であって、
シリコンの偏析係数特性を利用し、シリコンに含有されている不純物を前記合金融液側へ排出させると共に、
シリコン合金となったときの共晶点がシリコンの融点より低い前記元素とシリコンとの共晶反応を利用してシリコンの融点より低い温度でシリコンをインゴット化する太陽電池用シリコンインゴットを製造
するシリコンインゴットの製造方法。 - 前記合金融液の液面以外の部分の液温を前記合金融液が凝固しない温度に維持すると共に、
前記合金融液の液面温度を、前記合金融液中のシリコン濃度に対応した前記合金融液の初晶温度より僅かに下側の温度に保つ
ことを特徴とする請求項1記載のシリコンインゴットの製造方法。 - 前記合金融液の液面温度を、前記共晶点と1273Kより僅かに下側の温度との間における、前記合金融液中のシリコン濃度に対応した前記合金融液の初晶温度より僅かに下側の温度に保つ
ことを特徴とする請求項2記載のシリコンインゴットの製造方法。 - 前記元素は、アルミニウムであることを特長とする請求項1乃至3のいずれか一項記載のシリコンインゴットの製造方法。
- 前記合金融液を生成する工程と、前記シリコンインゴットを生成する工程とは、アルゴンガス雰囲気で行う請求項1〜4のいずれか一項記載のシリコンインゴットの製造方法。
- 前記坩堝は、窒化珪素製とする請求項1〜5のいずれか一項記載のシリコンインゴットの製造方法。
- 前記合金融液中のシリコン濃度が1273K(1000℃)より僅かに下側の温度で融点を迎えるような割合で、前記シリコンとの共晶反応を持ち、シリコン合金となったときの共晶点がシリコンの融点より低い元素と、純度98%以上の金属シリコンとによる合金融液が生成されることを特徴とする請求項1記載のシリコンインゴットの製造方法。
- 前記シリコンとの共晶反応を持ち、シリコン合金となったときの共晶点がシリコンの融点より低い元素がアルミニウムであり、前記アルゴンガス雰囲気を高純度Arガス(999.9999%)によるものとして、アルミニウムの参加による不純物の吸収効率を低下させることを特徴とする請求項5記載のシリコンインゴットの製造方法。
- 真空排気系とガス導入系とが接続されている容器と、
当該容器内に設置された坩堝と、
当該坩堝を加熱して当該坩堝内に、シリコンとの共晶反応を持ち、シリコン合金となったときの共晶点がシリコンの融点より低い元素と、純度98%以上の金属シリコンとの合金融液を生成する加熱手段と、
シリコン結晶をインゴット化させるための引き上げ手段と、
前記坩堝内の前記合金融液の液面温度を測定する液面温度測定手段とを備え、
前記加熱手段は、前記坩堝内に生成されている前記合金融液の液面の領域と、それ以外の領域とに対してそれぞれ独立した強度で加熱する機能を有し、
前記合金融液中におけるシリコン濃度の低下量を把握すると共に、前記合金融液の液面温度が、当該把握された前記合金融液中のシリコン濃度に対応した初晶温度より僅かに下側の温度に保たれるように、前記加熱手段による加熱を制御する制御手段を備えている
ことを特徴とするシリコンインゴットの製造装置。 - 前記ガス導入系が、前記容器内にアルゴンガスを導入するものであることを特徴とする請求項9記載のシリコンインゴットの製造装置。
- 前記坩堝は、窒化珪素製とする請求項9又は10記載のシリコンインゴットの製造装置。
- 前記制御手段は、引き上げ手段によって引きあげられたシリコン結晶の重量増加を参照して前記合金融液中におけるシリコン濃度の低下量を把握する機能を有し、
前記シリコンインゴットの製造装置は、更に、
前記容器内に設置された坩堝に前記純度98%以上の金属シリコンを充填する金属シリコン充填装置を備えていて、当該金属シリコン充填装置は、前記検出されたシリコン結晶の重量増加に対応する金属シリコンを秤量してこれを前記坩堝に充填する
ことを特徴とする請求項9記載のシリコンインゴットの製造装置。 - 前記シリコンインゴットの製造装置は、更に、
添加材料充填装置を具備しており、
前記シリコンとの共晶反応を持ち、シリコン合金となったときの共晶点がシリコンの融点より低い元素についての蒸発プロファイルに基づいて、当該元素が、前記添加材料充填装置によって、前記容器内に設置された坩堝に充填される
ことを特徴とする請求項9記載のシリコンインゴットの製造装置。 - 前記添加材料充填装置によって、前記容器内に設置された坩堝に充填される前記元素がアルミニウムであると共に、前記添加材料充填装置は更にチタンを前記容器内に設置された坩堝に充填する機能を有することを特徴とする請求項13記載のシリコンインゴットの製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009112633A JP4358300B2 (ja) | 2007-03-19 | 2009-05-07 | シリコンインゴットの製造方法および製造装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007069741 | 2007-03-19 | ||
JP2009112633A JP4358300B2 (ja) | 2007-03-19 | 2009-05-07 | シリコンインゴットの製造方法および製造装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009505240A Division JP4337954B2 (ja) | 2007-03-19 | 2008-03-19 | シリコンインゴットの製造方法および製造装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009167101A true JP2009167101A (ja) | 2009-07-30 |
JP2009167101A5 JP2009167101A5 (ja) | 2009-09-10 |
JP4358300B2 JP4358300B2 (ja) | 2009-11-04 |
Family
ID=39765926
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009505240A Expired - Fee Related JP4337954B2 (ja) | 2007-03-19 | 2008-03-19 | シリコンインゴットの製造方法および製造装置 |
JP2009112633A Expired - Fee Related JP4358300B2 (ja) | 2007-03-19 | 2009-05-07 | シリコンインゴットの製造方法および製造装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009505240A Expired - Fee Related JP4337954B2 (ja) | 2007-03-19 | 2008-03-19 | シリコンインゴットの製造方法および製造装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100143231A1 (ja) |
EP (1) | EP2138610A1 (ja) |
JP (2) | JP4337954B2 (ja) |
KR (1) | KR20100015652A (ja) |
CN (1) | CN101680111A (ja) |
CA (1) | CA2681353A1 (ja) |
WO (1) | WO2008114822A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012082087A (ja) * | 2010-10-08 | 2012-04-26 | Sumitomo Metal Fine Technology Co Ltd | 単結晶引上装置および坩堝支持装置 |
CN102774839A (zh) * | 2012-01-27 | 2012-11-14 | 金子恭二郎 | 硅提纯法 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NO329987B1 (no) | 2009-02-26 | 2011-01-31 | Harsharn Tathgar | Halvkontinuerlig fremgangsmate for dannelse, separasjon og smelting av store, rene silisiumkrystaller |
CN101798705A (zh) * | 2010-03-12 | 2010-08-11 | 上海太阳能电池研究与发展中心 | 一种从低温熔体中连续拉晶提纯多晶硅的方法及专用装置 |
CN101812727B (zh) * | 2010-04-13 | 2011-12-28 | 上海太阳能电池研究与发展中心 | 一种直流电场下定向凝固提纯多晶硅的方法 |
KR101690490B1 (ko) | 2010-10-21 | 2016-12-28 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 탄화규소 단결정의 제조방법 및 장치 |
CN102749128B (zh) * | 2011-04-19 | 2014-08-27 | 蒂雅克股份有限公司 | 测压元件单元 |
JP5679120B2 (ja) * | 2011-04-19 | 2015-03-04 | ティアック株式会社 | ロードセルユニット |
CN102311121A (zh) * | 2011-08-29 | 2012-01-11 | 大连理工大学 | 一种合金化分凝提纯工业硅的方法 |
KR101317198B1 (ko) * | 2011-10-24 | 2013-10-15 | 한국생산기술연구원 | 성장로 감시 장치 |
TWI627131B (zh) | 2012-02-01 | 2018-06-21 | 美商希利柯爾材料股份有限公司 | 矽純化之模具及方法 |
CN102605424A (zh) * | 2012-03-06 | 2012-07-25 | 浙江宏业新能源有限公司 | 多晶硅铸锭炉控制系统及控制方法 |
CN102786060B (zh) * | 2012-08-15 | 2016-08-17 | 大连理工大学 | 一种增强合金化分凝提纯多晶硅的方法 |
CN104635805B (zh) * | 2014-12-24 | 2017-05-17 | 湖南顶立科技有限公司 | 一种温度控制系统 |
JP6451333B2 (ja) * | 2015-01-14 | 2019-01-16 | 株式会社Sumco | シリコン単結晶の製造方法 |
FR3052773B1 (fr) * | 2016-06-15 | 2020-10-30 | Snecma | Procede de fabrication d'une piece de turbomachine |
CN108018602A (zh) * | 2016-11-03 | 2018-05-11 | 上海新昇半导体科技有限公司 | 自动进料系统及进料方法 |
CN108796606B (zh) * | 2018-07-07 | 2020-11-03 | 玉环市几偶孵化器有限公司 | 太阳能级多晶硅制备装置 |
CN108706590A (zh) * | 2018-07-07 | 2018-10-26 | 孟静 | 太阳能级多晶硅制备方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5950629B2 (ja) * | 1982-04-20 | 1984-12-10 | 東芝セラミツクス株式会社 | 単結晶シリコン引上げ用窒化珪素製治具の製造方法 |
JPH0633235B2 (ja) * | 1989-04-05 | 1994-05-02 | 新日本製鐵株式会社 | 酸化膜耐圧特性の優れたシリコン単結晶及びその製造方法 |
JP2795030B2 (ja) * | 1992-01-29 | 1998-09-10 | 信越半導体株式会社 | 単結晶シリコン棒の製造方法 |
JP3085568B2 (ja) * | 1993-11-01 | 2000-09-11 | コマツ電子金属株式会社 | シリコン単結晶の製造装置および製造方法 |
JP3000923B2 (ja) * | 1996-03-28 | 2000-01-17 | 住友金属工業株式会社 | 単結晶引き上げ方法 |
DE69621348T2 (de) | 1996-10-14 | 2002-09-05 | Kawasaki Steel Corp., Kobe | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von polykristallinem silizium und verfahren zur herstellung eines siliziumsubstrats für eine solarzelle |
JPH10273313A (ja) | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Kawasaki Steel Corp | 多結晶シリコン鋳塊の製造方法 |
JP4383639B2 (ja) | 2000-07-31 | 2009-12-16 | 信越半導体株式会社 | Gaドープシリコン単結晶の製造方法およびGaドープシリコン単結晶、並びにこれから作製されたシリコン単結晶太陽電池 |
JP2003277040A (ja) | 2002-03-19 | 2003-10-02 | Sharp Corp | シリコンの精製方法および該方法により精製したシリコンを用いて製造する太陽電池 |
JP4060106B2 (ja) | 2002-03-27 | 2008-03-12 | 三菱マテリアル株式会社 | 一方向凝固シリコンインゴット及びこの製造方法並びにシリコン板及び太陽電池用基板及びスパッタリング用ターゲット素材 |
JP2004067452A (ja) * | 2002-08-07 | 2004-03-04 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 単結晶の引き上げ条件の設計方法 |
JP4380204B2 (ja) * | 2003-04-10 | 2009-12-09 | 株式会社Sumco | シリコン単結晶及び単結晶育成方法 |
JP2008069055A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Covalent Materials Corp | シリコン単結晶の製造方法 |
-
2008
- 2008-03-19 EP EP08722473A patent/EP2138610A1/en not_active Withdrawn
- 2008-03-19 CN CN200880015497A patent/CN101680111A/zh active Pending
- 2008-03-19 CA CA002681353A patent/CA2681353A1/en not_active Abandoned
- 2008-03-19 US US12/532,019 patent/US20100143231A1/en not_active Abandoned
- 2008-03-19 KR KR1020097021676A patent/KR20100015652A/ko not_active Withdrawn
- 2008-03-19 JP JP2009505240A patent/JP4337954B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-03-19 WO PCT/JP2008/055098 patent/WO2008114822A1/ja active Application Filing
-
2009
- 2009-05-07 JP JP2009112633A patent/JP4358300B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012082087A (ja) * | 2010-10-08 | 2012-04-26 | Sumitomo Metal Fine Technology Co Ltd | 単結晶引上装置および坩堝支持装置 |
CN102774839A (zh) * | 2012-01-27 | 2012-11-14 | 金子恭二郎 | 硅提纯法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2681353A1 (en) | 2008-09-25 |
JPWO2008114822A1 (ja) | 2010-07-08 |
KR20100015652A (ko) | 2010-02-12 |
JP4358300B2 (ja) | 2009-11-04 |
JP4337954B2 (ja) | 2009-09-30 |
EP2138610A1 (en) | 2009-12-30 |
CN101680111A (zh) | 2010-03-24 |
US20100143231A1 (en) | 2010-06-10 |
WO2008114822A1 (ja) | 2008-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4358300B2 (ja) | シリコンインゴットの製造方法および製造装置 | |
JP5564418B2 (ja) | ポリクリスタルシリコンまたはマルチクリスタルシリコンの製造装置および方法、それらによって製造されるポリクリスタルシリコンまたはマルチクリスタルシリコンのインゴットおよびウエハ、ならびにそれらの太陽電池製造のための使用 | |
US20090314198A1 (en) | Device and method for production of semiconductor grade silicon | |
JP5459004B2 (ja) | サファイア単結晶の製造方法 | |
US20080178793A1 (en) | Method and system for forming a higher purity semiconductor ingot using low purity semiconductor feedstock | |
US20070006916A1 (en) | Solar-cell polycrystalline silicon and method for producing the same | |
CN104903496A (zh) | 用于改善的连续直拉法的热屏障 | |
JP5007126B2 (ja) | 多結晶シリコンインゴットの製造方法 | |
JP2005132671A (ja) | 高品質多結晶シリコンの製造方法 | |
JP4423805B2 (ja) | シリコン単結晶の製造装置並びに製造方法 | |
KR20100022516A (ko) | 금속 규소의 응고 방법 | |
JP4672579B2 (ja) | 固形状原料のリチャージ方法 | |
JP5201446B2 (ja) | ターゲット材およびその製造方法 | |
JP5724226B2 (ja) | シリコン単結晶の育成方法 | |
JP2008081394A (ja) | 金属シリコンとその製造方法 | |
EP2551238A1 (en) | Method for purifying silicon | |
JP2004284892A (ja) | 多結晶シリコンの製造方法 | |
JP5029184B2 (ja) | 半導体結晶の製造方法及びその製造装置 | |
JP2007254162A (ja) | 単結晶製造装置およびリチャージ方法 | |
JP6147788B2 (ja) | Cu−Ga合金スパッタリングターゲット | |
JP2008069055A (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
KR20250031162A (ko) | 산화갈륨 단결정 성장 방법 및 이를 통해 제조된 산화갈륨 단결정 | |
US10072350B2 (en) | Method for manufacturing a silicon ingot having uniform phosphorus concentration | |
JP2024158672A (ja) | FeGa合金単結晶の製造方法 | |
JP2006273668A (ja) | 半導体インゴットの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090630 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090630 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20090630 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20090724 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090804 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090805 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120814 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |