JP2009123505A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このプラズマエッチング装置では、第1および第2の給電ライン上に設けられる2系統の第1段空芯コイル単体A(1),A(2)同士が、ボビン114Aに同心状に装着されている。すなわち、両空芯コイル単体A(1),A(2)をそれぞれ構成するコイル導線が、共通のボビン114Aの外周面に沿ってボビン軸方向に重なり合って並進しながら等しい巻線長で螺旋状に巻かれている。同様に、第2段空芯コイル単体B(1),B(2)同士も、それぞれのコイル導線が共通のボビン114Bの外周面に沿ってボビン軸方向に重なり合って並進しながら等しい巻線長で螺旋状に巻かれている。
【選択図】 図6
Description
State Relay)等の半導体スイッチング素子を使用して高感度のスイッチング制御またはON/OFF制御を行うため、高周波のノイズが入り込むと容易に誤動作を起こしやすい。そこで、不所望な高周波を十分減衰させるためのフィルタ回路をヒータ給電ラインに設けるのが通例となっている。
,112(2)におけるインピーダンスまたは電圧降下は無視できるほど小さく、また初段コンデンサ110(1),110(2)および次段コンデンサ114(1),114(2)を通ってアースへ抜ける漏れ電流も無視できるほど少ない。
における初段コイル108(2)を構成する2個の空芯コイル単体A(2),B(2)も、内側発熱線40(IN)側から見て電気的にこの順序で直列に接続されており、空芯コイル単体A(2)が最も初段の位置つまりフィタル端子T(1)に電気的に最も近い位置にある。
相互間の巻線構造も、上記した両空芯コイル単体A(1),A(2)相互間の巻線構造と同じであり、それぞれのコイル導線が共通のボビン114Bの外周面に沿ってボビン軸方向に重なり合って並進しながら等しい巻線長で螺旋状に巻かれている。
では、共通のボビン114A,114Bにそれぞれ装着される一対の空芯コイル単体[A(1),A(2)],[B(1),B(2)]の間で、自己インダクタンスが等しく、相互インダクタンスが最大になるようなコイル巻線構造が採られている。
distortion)の高調波であってもよい。
12 サセプタ(下部電極)
24 排気装置
28 第1の高周波電源
40 発熱体
40(IN) 内側発熱線
40(OUT) 外側発熱線
54(IN),54(OUT) フィルタユニット
58(IN),58(OUT) ヒータ電源
64 シャワーヘッド(上部電極)
74 処理ガス供給部
100(1) 第1の給電ライン
100(2) 第2の給電ライン
102(1) 第1の電源線フィルタ
102(2) 第2の電源線フィルタ
104(1),104(2) 初段LCローパス・フィルタ
106(1),106(2) 次段LCローパス・フィルタ
108(1),108(2) 初段コイル
110(1),110(2) 初段コンデンサ
A(1),A(2) 第1段空芯コイル単体
B(1),B(2) 第2段空芯コイル単体
Claims (27)
- 減圧可能な処理容器内に配設された第1の電極に第1の高周波を出力する第1の高周波電源を電気的に接続するとともに、前記第1の電極に設けられる発熱体とヒータ電源とを電気的に接続するための第1および第2の給電ライン上に前記発熱体から入ってくる高周波のノイズを減衰させるためのフィルタ回路を設けているプラズマ処理装置であって、
前記第1および第2の給電ライン上で前記発熱体から見て前記フィルタ回路の初段に第1および第2の空芯コイルがそれぞれ設けられ、
前記第1および第2の空芯コイルが、互いに同軸で、略等しい巻線長を有するプラズマ処理装置。 - 前記第1および第2の空芯コイルの巻線長の比が1である請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1および第2の空芯コイルが略等しい径を有する請求項1または請求項2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1および第2の空芯コイルが同心状に配置される請求項1〜3のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 減圧可能な処理容器内に配設された第1の電極に第1の高周波を出力する第1の高周波電源を電気的に接続するとともに、前記第1の電極に設けられる発熱体とヒータ電源とを電気的に接続するための第1および第2の給電ラインに前記発熱体を介して入ってくる高周波のノイズを減衰させるためのフィルタ回路を設けているプラズマ処理装置であって、
前記第1および第2の給電ライン上で前記発熱体から見て前記フィルタ回路の初段に第1および第2の空芯コイルがそれぞれ設けられ、
前記第1および第2の空芯コイルをそれぞれ構成する第1および第2のコイル導線が、共通のボビンの外周面に沿って並進しながら略等しい巻線長で螺旋状に巻かれているプラズマ処理装置。 - 前記第1および第2のコイル導線が前記ボビンの軸方向で交互に重なり合う請求項5に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1および第2のコイル導線の少なくとも一方が絶縁体で被覆されている請求項6に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1および第2のコイル導線が平角または薄板の銅線からなる請求項7に記載のプラズマ処理装置。
- 前記初段コイルを包囲または収容して接地される導電性のケーシングを有する請求項1〜8のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記初段コイルが、前記ケーシング内で空間的に並置され、電気的に直列接続された複数個の空芯コイル単体に分割されている請求項9に記載のプラズマ処理装置。
- 前記複数個の空芯コイル単体の中で、最も初段に位置する空芯コイル単体が他の全ての空芯コイル単体よりも大きなインダクタンスを有する請求項10に記載のプラズマ処理装置。
- 前記複数個の空芯コイル単体の中で、初段に位置する空芯コイル単体が他の全ての空芯コイル単体よりも小さな浮遊容量を有する請求項10または請求項11に記載のプラズマ処理装置。
- 前記発熱体が前記第1の電極の主面に絶縁体を介して埋め込まれている請求項1〜12のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1の電極が下部電極で、その上に被処理体が載置される請求項1〜13のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記処理容器内で前記第1の電極と所望のギャップを隔てて平行に対向する第2の電極を有する請求項1〜14のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第2の電極に、前記第1の高周波よりも高い周波数の第2の高周波を出力する第2の高周波電源が電気的に接続される請求項15に記載のプラズマ処理装置。
- 減圧可能な処理容器内で高周波を用いるプラズマ処理のために、前記処理容器内に設けられる所定の電気部品に第1および第2の線路を介して電気的に接続され、前記処理容器の外に設けられる電力系または信号系の外部回路を有し、前記電気部品を介して前記第1および第2の線路に入ってくる高周波のノイズを前記第1および第2の線路上に設けたフィルタ回路によって減衰させるプラズマ処理装置であって、
前記第1および第2の線路上で前記電気部品から見て前記フィルタ回路の初段に第1および第2の空芯コイルがそれぞれ設けられ、
前記第1および第2の空芯コイルが、互いに同軸で、略等しい巻線長を有するプラズマ処理装置。 - 前記第1および第2の空芯コイルの巻線長の比が1である請求項17に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1および第2の空芯コイルが略等しい径を有する請求項17または請求項18に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1および第2の空芯コイルが同心状に配置される請求項17〜19のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 減圧可能な処理容器内で高周波を用いるプラズマ処理のために、前記処理容器内に設けられる所定の電気部品に第1および第2の線路を介して電気的に接続され、前記処理容器の外に設けられる電力系または信号系の外部回路を有し、前記電気部品を介して前記第1および第2の線路に入ってくる高周波のノイズを前記第1および第2の線路上に設けたフィルタ回路によって減衰させるプラズマ処理装置であって、
前記第1および第2の線路上で前記電気部品から見て前記フィルタ回路の初段に第1および第2の空芯コイルがそれぞれ設けられ、
前記第1および第2の空芯コイルをそれぞれ構成する第1および第2のコイル導線が、共通のボビンの外周面に沿って並進しながら略等しい巻線長で螺旋状に巻かれているプラズマ処理装置。 - 前記第1および第2のコイル導線が前記ボビンの軸方向で交互に重なり合う請求項21に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1および第2のコイル導線の少なくとも一方が絶縁体で被覆されている請求項21に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1および第2のコイル導線が平角または薄板の銅線からなる請求項23に記載のプラズマ処理装置。
- 前記フィルタ回路は、前記処理容器内で主として処理ガスのプラズマの生成に寄与する高周波のノイズを選択的に減衰させる請求項17〜24のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記フィルタ回路は、前記処理容器内で主としてプラズマから被処理体へのイオンの引き込みに寄与する高周波のノイズを選択的に減衰させる請求項17〜24のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記フィルタ回路は、前記処理容器内のプラズマで発生した高調波または相互変調歪の高周波のノイズを選択的に減衰させる請求項17〜24のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置。
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