KR101811904B1 - 무선 주파수 (ｒｆ) 전력 필터들 및 ｒｆ 전력 필터들을 포함하는 플라즈마 프로세싱 시스템들 - Google Patents

무선 주파수 (ｒｆ) 전력 필터들 및 ｒｆ 전력 필터들을 포함하는 플라즈마 프로세싱 시스템들 Download PDF

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Abstract

플라즈마 프로세싱 시스템에서 정전척 (ESC) 으로부터 전송된 무선 주파수 (RF) 전력을 필터하는 필터. 플라즈마 프로세싱 시스템은 ESC에 배치된 가열 엘리먼트를 포함할 수도 있다. 플라즈마 프로세싱 시스템은 전력 공급기를 더 포함할 수도 있다. 필터는 코어 부재와, 제 1 세트의 인덕터들을 형성하기 위해 코어 부재 주위에 코어 부재를 따라 감긴 케이블을 포함할 수도 있다. 케이블은, 제 1 와이어 및 제 2 와이어를 포함하는 복수의 와이어들을 포함할 수도 있으며, 제 1 와이어의 일 부분 및 제 2 와이어의 일 부분은 함께 꼬여 있고, 제 1 와이어의 제 1 말단 및 제 2 와이어의 제 1 말단은 가열 엘리먼트에 접속되고, 제 1 와이어의 제 2 말단 및 제 2 와이어의 제 2 말단은 각각 캐패시터에 접속되고 또한 전력 공급기에 접속된다.

Description

무선 주파수 (ＲＦ) 전력 필터들 및 ＲＦ 전력 필터들을 포함하는 플라즈마 프로세싱 시스템들{RADIO FREQUENCY (RF) POWER FILTERS AND PLASMA PROCESSING SYSTEMS INCLUDING RF POWER FILTERS}
본 발명은 무선 주파수 (RF) 전력 필터에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 플라즈마 프로세싱 시스템에 사용되는 RF 전력 필터에 관한 것이다.
용량 결합형 플라즈마 (CCP) 시스템, 유도 결합형 플라즈마 (ICP) 시스템, 및 트랜스포머 결합형 플라즈마 (TCP) 시스템은, 웨이퍼 상에 디바이스를 제조하기 위한 다양한 산업들에 채용되고 있다. 예를 들어, 그 산업들은, 반도체, 자기 판독/기록 및 저장, 광학 시스템, 및 마이크로전자기계 시스템 (MEMS) 산업들을 포함한다.
플라즈마 프로세싱 시스템은 플라즈마 프로세싱 챔버 내에 플라즈마를 생성하고 유지하여, 웨이퍼 상에 디바이스 피쳐들이 형성될 수 있도록, 웨이퍼 상에서 식각 및/또는 성막 (deposition) 을 수행한다. 플라즈마 프로세싱 시스템은 하나 이상의 플라즈마 프로세싱 프로세스들 동안 웨이퍼를 지지하기 위한 정전척 (ESC) 를 포함할 수도 있다. 존-투-존 조정가능한 온도 능력을 갖는 ESC는 플라즈마 프로세싱 프로세스들에 민감한 온도에 대해 중요할 수도 있다. ESC 로부터 전송되고 플라즈마 프로세싱 챔버로부터 누설되는 RF 전력에 의해 야기될 수도 있는, 전자기 호환성 (EMC) 오류, 간섭 문제, 및 전력 손실 문제를 최소화하기 위해, 플라즈마 프로세싱 시스템에 RF 전력 필터가 구현될 수도 있다.
도 1a는 플라즈마 프로세싱 시스템 (100) 의 몇몇 컴포넌트들을 도시하는 개략도를 나타낸다. 플라즈마 프로세싱 시스템 (100) 은, 웨이퍼 (당업계에 잘 알려져 있으며 본 도면에 도시되지 않음) 의 플라즈마 프로세싱 동안 웨이퍼를 지지할 수도 있는 ESC (108) 를 포함할 수도 있다. 또한, ESC (108) 는 하부 전극으로서 작용할 수도 있고; ESC (108) 는 ESC (108) 와 상부 전극 (당업계에 잘 알려져 있으며 도면에 도시되지 않음) 사이에서 플라즈마를 생성 및/또는 유지하기 위해 그리고 플라즈마 프로세싱을 수행하기 위해 RF 공급부 (120) 를 통해 공급되는 RF 전력을 수신할 수도 있다.
ESC (108) 는 2-존 조정가능한 온도 제어를 할 수 있는 튜너블 ESC (TESC) 일 수도 있다. ESC (108) 의 온도 튜닝 능력은 ESC (108) 의 상단의 세라믹 퍽 (ceramic puck) 하부에 임베딩된 2 개의 전기 가열 엘리먼트들 (당업계에 잘 알려져 있어 본 도면에 도시되지 않음) 을 구현함으로써 달성될 수도 있으며, 하나의 전기 가열 엘리먼트가 2개의 존들 각각에 대해 구현된다.
2개의 전기 가열 엘리먼트들은, AC 컨넥터 (138), RF 전력 필터 (102), 케이블 (104) 및 단자들 (110a, 110b, 110c 및 110d) 을 통해 교류 (AC) 전력 공급기 (당업계에 잘 알려져 있으며 본 도면에 도시되지 않음) 에 의해 공급되는 AC에 의해 전력을 공급받을 수도 있다. 단자들 (110a, 110b, 110c 및 110d) 중 2개는 제 1 전기 가열 엘리먼트에 전력을 공급하기 위해 2개의 전기 가열 엘리먼트들 중 제 1 전기 가열 엘리먼트에 연결될 수도 있으며; 단자들 (110a, 110b, 110c 및 110d) 중 나머지 2개는 제 2 전기 가열 엘리먼트에 전력을 공급하기 위해 2개의 전기 가열 엘리먼트들 중 제 2 가열 엘리먼트에 연결될 수도 있다. 각각의 전기 가열 엘리먼트의 온도는 제로 크로싱 기술 (zero crossing technique) 에 의한 연이은 방식으로 제어될 수도 있다.
RF 전력 필터 (102) 는 전기 가열 엘리먼트들에 전력을 공급하기 위해 AC 전력을 전송할 수도 있다. 또한, RF 전력 필터 (102) 는, 상기 언급된 EMC 오류 문제들, 간섭 문제들 및 전력 손실 문제들을 최소화하기 위해, ESC (108) 로부터 플라즈마 프로세싱 챔버 바디 (106) 외부의 다른 컴포넌트들로 전송되는 RF 전력을 최소화하거나 차단할 수도 있다.
그럼에도 불구하고, 기존의 RF 전력 필터 설계들은, 도 1b의 예를 참조하여 논의된 바와 같이, 플라즈마 프로세싱 시스템에서의 프로세싱 균일성 및 성능 일관성과 관련된 문제들을 야기할 수도 있다.
도 1b는, 플라즈마 프로세싱 시스템, 예컨대 도 1a의 예에 도시된 플라즈마 프로세싱 시스템 (100) 에 사용되는 일 예의 종래 기술의 RF 전력 필터 (102) 를 도시하는 개략도를 나타낸다. 도 1b의 예에 도시된 바와 같이, RF 전력 필터 (102) 는 인클로저 (150) 를 포함할 수도 있다. 또한, RF 전력 필터 (102) 는 인클로저 (150) 내부에 배치된 코어 부재 (158) 를 포함할 수도 있다. 또한, RF 전력 필터 (102) 는 코어 부재 (158) 의 일 부분 주위에 그 부분을 따라 별도로 감긴, 와이어 (166a), 와이어 (166b), 와이어 (166c) 및 와이어 (166d) 에 의해 형성된 인덕터들의 세트 (156)(4개의 인덕터를 포함) 를 포함할 수도 있다. 와이어들 (166a 내지 166d) 은, 전기 히터들에 AC 전력을 공급하기 위해 케이블 (104)(도 1a의 예에 도시됨) 을 통해 단자들 (110a 내지 110d) 에 접속될 수도 있다. 인턱터들의 세트 (156)(와이어 (166a), 와이어 (166b), 와이어 (166c) 및 와이어 (166d) 에 의해 각각 형성됨) 는 접지된 캐패시터들의 세트 (154)(4개의 캐패시터들을 포함) 에 접속되어 튜닝된 회로들 (또는 공진 회로들) 을 형성하여, 예를 들어 케이블 (104)(도 1a의 예에 도시됨) 및 와이어들 (166a 내지 166d) 을 통해, ESC (108)(도 1a의 예에 도시됨) 로부터 전송되는 60 ㎒ 동작 주파수에서의 RF 전력을 필터하거나 차단할 수도 있다.
와이어 (166a), 와이어 (166b), 와이어 (166c) 및 와이어 (166d) 가 상당한 거리들로 이격되면, 와이어 (166a) 와 인클로저 (150) 의 벽들 사이에 형성된 스트레이 캐패시턴스들, 와이어 (166b) 와 인클로저 (150) 의 벽들 사이에 형성된 스트레이 캐패시턴스들, 와이어 (166c) 와 인클로저 (150) 의 벽들 사이에 형성된 스트레이 캐패시턴스들, 및 와이어 (166d) 와 인클로저 (150) 사이에 형성된 스트레이 캐패시턴스들에서 현저한 차이들이 있다. 예를 들어, 와이어 (166a) 의 섹션과 인클로저 (150) 의 측벽 사이에 형성된 스트레이 캐패시턴스는, 와이어 (166b) 의 섹션과 인클로저 (150)의 동일한 측벽 사이에 형성된 스트레이 캐패시턴스와 현저하게 상이할 수도 있다. 그 결과, ESC (108)(도 1a의 예에 도시됨) 에서, 단자 (110a)(와이어 (166a) 에 접속됨) 에서의 임피던스 레벨, 단자 (110b)(와이어 (166b) 에 접속됨) 에서의 임피던스 레벨, 단자 (110c)(와이어 (166c) 에 접속됨) 에서의 임피던스 레벨 및 단자 (110d)(와이어 (166d) 에 접속됨) 에서의 임피던스 레벨은 서로 현저하게 상이할 수도 있다. 결과적으로, 플라즈마 프로세싱 레이트 (예를 들어, 식각 레이트) 가, ESC (108) 상에 배치된 웨이퍼의 표면에 걸쳐 실질적으로 불균일하거나 또는 실질적으로 일관성이 없으며, 제조 수율이 실질적으로 바람직하지 않을 수도 있다.
일반적으로, 와이어들 (166a 내지 166d) 은 폴리테트라플로오로에틸렌 (PTFE) 와이어들 또는 PTFE로 코팅된 와이어들일 수도 있으며, 코어 부재 (158) 는 또한 오염을 최소화하기 위해 PTFE로 코팅될 수도 있다. PTFE는 일반적으로 낮은 마찰 계수를 가지며; 이에 따라 와이어들 (166a 내지 166d) 은 코어 부재 (158) 에 관하여 특정된 포지션들과 떨어져서 이동하기 쉬울 수 있다. 그 결과, 상기 언급된 스트레이 캐패시턴스들이 실질적으로 변화할 수도 있고, 플라즈마 프로세싱 프로파일들 (예를 들어, 식각 프로파일들) 은, 시스템 사양들 및 프로세싱 레시피들이 변화하지 않고 유지되더라도, 웨이퍼에서 웨이퍼로, RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로, 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로, 실질적으로 일관성이 없을 수도 있다. 결과적으로, 플라즈마 프로세싱에서의 수용가능한 일관성을 달성하기 위해, 고도의 숙련된 작업자들에 의해 수행되는 비용이 높고 시간 소모적인 교정 프로세스들이 요구될 수도 있다.
게다가, 접지된 캐패시터들의 세트 (154) 에서의 캐패시터들의 허용 범위 (또는 특정 값들로부터의 수용가능한 편차들) 는 또한 RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로, 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로의, 웨이퍼들 상의 플라즈마 프로세싱 프로파일들 (예를 들어, 식각 프로파일들) 에서의 실질적인 변동 (또는 실질적 불일치) 에 기여할 수도 있다.
또한, RF 전력 필터 (102) 는 코어 부재 (158) 의 일 부분 주위에 그리고 그 부분을 따라 별도로 감긴 와이어 (162a), 와이어 (162b), 와이어 (162c) 및 와이어 (162d) 에 의해 형성된 인덕터들의 세트 (152) (4개의 인덕터들을 포함) 를 포함할 수도 있다. 와이어들 (162a 내지 162d) 은, 전기 히터들에 AC 전력을 공급하기 위해, 와이어들 (166a 내지 166d) 및 케이블 (104)(도 1a의 예에 도시됨) 을 통해 단자들 (110a 내지 110d)(도 1a의 예에 도시됨) 에 접속될 수도 있다. 인덕터들의 세트 (152)(와이어 (162a), 와이어 (162b), 와이어 (162c) 및 와이어 (162d) 에 의해 각각 형성됨) 는 접지된 캐패시터들의 세트 (174)(4개의 캐패시터들을 포함) 에 접속되어 튜닝된 회로들을 형성하여, ESC (108)(도 1a의 예에 도시됨) 로부터 전송된 27 ㎒ 동작 주파수에서의 RF 전력을 필터하거나 차단할 수도 있다.
또한, RF 전력 필터 (102) 는 인클로저 (150) 내부에 배치된 다른 코어 부재 (178) 를 포함할 수도 있다. 또한, RF 전력 필터 (102) 는 코어 부재 (178) 의 일 부분 주위에 그리고 그 부분을 따라 별도로 감긴 와이어 (182a), 와이어 (182b), 와이어 (182c) 및 와이어 (182d) 에 의해 형성된 인덕터들의 세트 (172)(4개의 인덕터들을 포함) 을 포함할 수도 있다. 와이어들 (182a 내지 182d) 은 와이어들의 세트 (180) 및 AC 커넥터 (138)(도 1a의 예에 도시됨) 를 통해 AC 전력 공급기에 접속될 수도 있다. 와이어들 (182a 내지 182d) 은, 전기 히터들에 AC 전력을 공급하기 위해 와이어들 (162a 내지 162d), 와이어들 (166a 내지 166d), 케이블 (104)(도 1a의 예에 도시됨) 을 통해 단자들 (110a 내지 110d)(도 1a의 예에 도시됨) 에 접속될 수도 있다. 인덕터들의 세트 (172)(와이어 (182a), 와이어 (182b), 와이어 (182c) 및 와이어 (182d) 에 의해 각각 형성됨) 는 접지된 캐패시터들 (176) 의 세트 (4개의 캐패시터들을 포함) 에 접속되어 튜닝된 회로들을 형성하여, ESC (108)(도 1a의 예에 도시됨) 로부터 전송된 2 ㎒ 동작 주파수에서의 RF 전력을 필터하거나 차단할 수도 있다.
와이어들 (166a 내지 166d) 사이의 중요한 거리들 (또는 간격) 과 유사한, 와이어들 (162a 내지 162d) 사이의 중요한 거리들 (또는 간격) 및 와이어들 (182a 내지 182d) 사이의 중요한 거리들 (또는 간격) 은, 또한 웨이퍼들 상의 실질적으로 불균일한 플라즈마 프로세싱 레이트들과 실질적으로 바람직하기 않은 제조 수율에 기여할 수도 있다.
와이어들 (166a 내지 162d) 의 이동 (및 재포지셔닝) 과 유사한, 와이어들 (162a 내지 162d) 의 이동 (및 재포지셔닝) 및 와이어들 (182a 내지 182d) 의 이동 (및 재포지셔닝) 은 또한, 웨이퍼에서 웨이퍼로, RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로, 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로의, 플라즈마 프로세싱 프로파일들 (예를 들어, 식각 프로파일들) 에서의 실질적 변동 또는 실질적 불일치에 기여할 수도 있다.
게다가, 접지된 캐패시터들의 세트 (154) 에서의 캐패시터들의 허용 범위와 유사한, 접지된 캐패시터들의 세트 (174) 에서의 캐패시터터들의 허용 범위 및 접지된 캐패시터들의 세트 (176) 에서의 캐패시터들의 허용 범위는 또한, RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로, 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로의, 웨이퍼들 상의 플라즈마 프로세싱 프로파일들에서의 실질적 변동 (또는 실질적 불일치) 에 기여할 수도 있다.
본 발명의 실시형태는 플라즈마 프로세싱 시스템에서 적어도 정전척 (ESC) 으로부터 전송된 무선 주파수 (RF) 전력을 필터하는 필터와 관련된다. 플라즈마 프로세싱 시스템은 ESC 의 일 부분에 배치된 적어도 가열 엘리먼트를 포함할 수도 있다. 플라즈마 프로세싱 시스템은 적어도 전력 공급기를 더 포함할 수도 있다. 필터는 코어 부재를 포함할 수도 있다. 필터는 또한 복수의 캐패시터들을 포함할 수도 있으며, 복수의 캐패시터들은 적어도 제 1 캐패시터 및 제 2 캐패시터를 포함한다. 또한, 필터는 인덕턴스들의 세트를 갖는 적어도 인덕터들의 세트를 형성하기 위해 코어 부재의 적어도 일 부분 주위에 그 부분을 따라 감긴 케이블을 포함할 수도 있다. 케이블은 적어도 복수의 와이어들을 포함할 수도 있다. 복수의 와이어들은 적어도 제 1 와이어 및 제 2 와이어를 포함할 수도 있으며, 제 1 와이어는 제 2 와이어와 컨택하고, 제 1 와이어의 적어도 일 부분 및 제 2 와이어의 적어도 일 부분은 함께 꼬여 있으며 (twisted), 제 1 와이어의 제 1 말단은 가열 엘리먼트에 접속되고, 제 1 와이어의 제 2 말단은 제 1 캐패시터에 접속되고 또한 전력 공급기에 접속되고, 제 2 와이어의 제 1 말단은 가열 엘리먼트에 접속되고, 제 2 와이어의 제 2 말단은 제 2 캐패시터에 접속되고 또한 전력 공급기에 접속된다.
상기 개요는 본 명세서에서 개시된 본 발명의 많은 실시형태들 중 단지 하나에만 관련된 것이며, 본 명세서의 청구항들에서 제시되는 발명의 범위를 한정하려는 것은 아니다. 본 발명의 이러한 피쳐들 및 다른 피쳐들은 다음의 도면들과 함께 하기의 상세한 설명에서 보다 상세하게 설명될 것이다.
본 발명은 첨부 도면들의 도들에서 한정이 아닌 예시로서 도시되며, 도면들에서 같은 참조 번호들은 유사한 엘리먼트들을 지칭한다.
도 1a는 플라즈마 프로세싱 시스템의 수개의 컴포넌트들을 도시하는 개략도를 나타낸다.
도 1b는 도 1a의 예에 도시된 플라즈마 프로세싱 시스템과 같은, 플라즈마 프로세싱 시스템에서 사용되는 일 예의 종래 기술의 RF 전력 필터를 도시하는 개략도를 나타낸다.
도 2는 본 발명의 하나 이상의 실시형태에 따라, 도 1a의 예에 도시된 플라즈마 프로세싱 시스템과 같은, 플라즈마 프로세싱 시스템에 사용되는 RF 전력 필터를 도시하는 개략도를 나타낸다.
도 3은 본 발명의 하나 이상의 실시형태에 따라, 도 1a의 예에 도시된 플라즈마 프로세싱 시스템과 같은, 플라즈마 프로세싱 시스템에서 사용되는 RF 전력 필터를 도시하는 개략도를 나타낸다.
도 4는 본 발명의 하나 이상의 실시형태에 따라, 도 1a의 예에 도시된 플라즈마 프로세싱 시스템과 같은, 플라즈마 프로세싱 시스템에 사용되는 RF 전력 필터를 도시하는 개략도를 나타낸다.
이제, 본 발명이 첨부 도면들에 도시된 바와 같이 그 몇몇 실시형태들을 참조하여 상세하게 설명될 것이다. 다음의 설명에 있어서, 많은 특정 상세들이 본 발명의 완전한 이해를 제공하기 위해 설명된다. 그러나, 특정 상세들의 일부 또는 전부 없이도 본 발명이 실시될 수 있음이 당업자에게 자명할 것이다. 다른 예시들에 있어서, 주지된 프로세스 단계들 및/또는 구조들은 본 발명을 불필요하게 모호하게 하지 않도록 상세하게 설명되지 않는다.
이하, 방법들 및 기술들을 포함하는 다양한 실시형태들이 설명된다. 또한, 본 발명은 발명의 기술의 실시형태들을 실행하기 위한 컴퓨터 판독 가능 명령들이 저장된 컴퓨터 판독가능 매체를 포함하는 제조물을 포함할 수 있음을 유념해야 한다. 컴퓨터 판독가능 매체는, 예를 들어 반도체, 자기, 광자기, 광학 또는 컴퓨터 판독 가능 코드를 저장하기 위한 다른 형태의 컴퓨터 판독 가능 매체를 포함할 수도 있다. 게다가, 본 발명은 본 발명의 실시형태들을 실시하기 위한 장치들도 또한 커버할 수 있다. 이러한 장치는 전용 및/또는 프로그램 가능한 회로들을 포함하여, 본 발명의 실시형태들에 관한 작업들을 수행할 수도 있다. 이러한 장치의 예들은 적절하게 프로그램되는 경우 범용 컴퓨터 및/또는 전용 컴퓨팅 디바이스를 포함하고, 본 발명의 실시형태들에 관한 다양한 작업들에 적응된 전용/프로그램가능 회로들 및 컴퓨터/컴퓨팅 디바이스의 결합을 포함할 수도 있다.
본 발명의 하나 이상의 실시형태들은 플라즈마 프로세싱 시스템에서 적어도 정전척 (ESC) 으로부터 전송된 무선 주파수 (RF) 전력을 필터하는 필터에 관련된다. 플라즈마 프로세싱 시스템은 ESC의 제 1 부분에 배치된 제 1 가열 엘리먼트 및 ESC의 제 2 부분에 배치된 제 2 가열 엘리먼트를 포함할 수도 있다. 플라즈마 프로세싱 시스템은 가열 소자에 전력을 공급하기 위해 교류 (AC) 전력 공급기와 같은 전력 공급기를 더 포함할 수도 있다. 필터는 RF 전력을 필터하거나 RF 전력이 일 방향에서 전송되는 것을 차단할 수도 있으며 (이로써 EMC 오류, 간섭 문제들 및/또는 전력 손실 문제들을 최소화할 수 있음), 또한 AC 전력 (50 ㎐ 또는 60 ㎐) 이 다른 방향에서 가열 엘리먼트들로 전송되는 것을 허용할 수도 있다.
필터는 필터의 일부 컴포넌트들에 구조적 지지를 제공하기 위해 코어 부재를 포함할 수도 있다. 코어 부재는 필터의 인클로저 내부에 고정될 수도 있다.
또한, 필터는 인덕턴스들의 세트를 갖는 적어도 인덕터들의 세트를 형성하도록 코어 부재의 적어도 일 부분 주위에 그 부분을 따라 감긴 케이블을 포함할 수도 있다. 케이블은 제 1 와이어, 제 2 와이어, 제 3 와이어 및 제 4 와이어를 포함하는 복수의 와이어들을 포함할 수도 있다. 제 1 와이어 및 제 2 와이어는 AC 전력을 전송하기 위해 제 1 가열 엘리먼트에 접속되어 제 1 가열 엘리먼트에 전력을 공급할 수도 있다. 제 3 와이어 및 제 4 와이어는 AC 전력을 전송하기 위해 제 2 가열 엘리먼트에 접속되어 제 2 가열 엘리먼트에 전력을 공급할 수도 있다.
또한, 필터는 복수의 캐패시터들을 포함할 수도 있다. 제 1 와이어, 제 2 와이어, 제 3 와이어 및 제 4 와이어는 캐패시터들의 세트에서 4개의 캐패시터들에 또한 접속되어 ESC 로부터 전송된 하나 이상의 동작 주파수들 (예를 들어, 60 ㎒, 27 ㎒, 및/또는 2 ㎒) 에서 RF 전력을 필터하기 위한 튜닝된 회로들 (또는 공진 회로들) 을 형성한다.
제 1 와이어, 제 2 와이어, 제 3 와이어 및 제 4 와이어는 함께 꼬여 있어서 (그리고 서로 컨택되어서), 와이어들 사이의 거리들 (또는 간격) 을 최소화할 수도 있다. 그 결과, 제 1 와이어와 연관된 스트레이 캐패시턴스들, 제 2 와이어와 연관된 스트레이 캐패시턴스들, 제 3 와이어와 연관된 스트레이 캐패시턴스들, 및 제 4 와이어와 연관된 스트레이 캐패시턴스들 사이의 차이들이 최소화될 수도 있으며; ESC에서 측정된 바와 같은 와이어들과 연관된 임피던스들이 실질적으로 동일할 수도 있다. 유리하게, 플라즈마 프로세싱 시스템에서 프로세스되는 각각의 웨이퍼 상에서, 플라즈마 프로세싱 레이트들 (예를 들어, 식각 레이트들) 은 실질적으로 균일할 수도 있으며; 제조 수율은 최소화될 수도 있다.
하나 이상의 실시형태들에 있어서, 필터는 케이블의 하나 이상의 부분들을 포지셔닝 및/또는 고정하기 위해 코어 부재에서 구현되는 하나 이상의 포지셔닝 (또는 고정) 메커니즘들을 포함할 수도 있다. 예를 들어, 필터는 홈 구조, 예컨대 나선형 홈 구조를 포함할 수도 있어서, 하나 이상의 부분들이 홈 구조 내부에 배치될 수도 있고 특정 포지션 (들) 에서 실질적으로 유지될 수도 있다. 유리하게, 와이어들과 연관된 스트레이 캐패시턴스들은 실질적으로 일정하게 유지될 수도 있으며, 플라즈마 프로세싱 프로파일은, 동일한 시스템 사양들 및 동일한 프로세싱 레시피들이 주어지면, 웨이퍼에서 웨이퍼로, RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로, 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로 실질적으로 일관성이 있을 수도 있다.
하나 이상의 실시형태들에 있어서, 케이블의 제 1 부분은 코어 부재의 제 1 부분 주위에서 제 1 부분을 따라 감겨져서 제 1 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 1 서브세트의 인덕터들을 형성할 수도 있고, 케이블의 제 2 부분은 코어 부재의 제 2 부분 주위에서 제 2 부분을 따라 감겨져서 제 2 서브세트의 인덕턴스들 (제 1 서브세트의 인덕턴스들과 상이함) 을 갖는 제 2 서브세트의 인덕터들을 형성할 수도 있다. 복수의 캐패시터들에서의 캐패시터들과 제 1 서브세트의 인덕터들은 튜닝된 회로들 (공진 회로들) 을 형성하여 ESC로부터 전송된 제 1 동작 주파수 (예를 들어, 60 ㎒) 에서의 RF 전력을 필터할 수도 있고; 복수의 캐패시터들에서의 동일한 캐패시터들 및 제 2 서브세트의 인덕터들은 다른 튜닝된 회로들을 형성하여 ESC 로부터 전송된 제 2 동작 주파수 (예를 들어, 27 ㎒) 에서의 RF 전력을 필터할 수도 있다. 2개의 상이한 주파수들에서의 RF 전력들을 필터하기 위해 2 세트의 캐패시터들을 필요로 하는 상기 논의된 예의 종래 기술의 필터 (102) 와 대조적으로, 본 발명의 하나 이상의 실시형태들에 따른 필터는 단지 일 세트의 캐패시터들을 필요로 한다. 그 결과, 플라즈마 프로세싱에서 캐패시터 허용범위들의 영향들이 실질적으로 감소될 수도 있다. 유리하게, RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로, 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로의, 웨이퍼들 상의 플라즈마 프로세싱 프로파일들의 일관성이 더 개선될 수도 있다.
본 발명의 하나 이상의 실시형태들은 상기 논의된 하나 이상의 피쳐들을 갖는 필터를 포함하는 플라즈마 프로세싱 시스템에 관련된다. 플라즈마 프로세싱 시스템은 하나 이상의 상술된 이점들을 제공할 수도 있다.
본 발명의 피쳐들 및 이점들은 이어지는 도면들 및 설명들을 참조하여 보다 더 잘 이해될 수 있다.
도 2는, 본 발명의 하나 이상의 실시형태에 따라, 도 1a의 예에 도시된 플라즈마 프로세싱 시스템 (100) 과 같은, 플라즈마 프로세싱 시스템에서 사용되는 RF 전력 필터 (200)(필터 (200)) 를 도시하는 개략도를 나타낸다. 필터 (200) 는 필터 (200) 의 적어도 일부 컴포넌트들을 하우징하는 인클로져 (250) 를 포함할 수도 있다. 필터 (200) 는 또한 인덕터들 및 캐패시터들에 대한 구조적 지지를 제공하기 위해 인클로저 (250) 내부에 배치되고 인클로저 (250) 와 단단히 연결된 코어 부재 (208) 를 포함할 수도 있다. 또한, 필터 (200) 는, 플라즈마 프로세싱 레이트, 예를 들어 식각 레이트를 개선하기 위해, 적어도 임피던스들을 튜닝하여 ESC (108)(도 1a의 예에 도시됨) 로부터 RF 전력 손실을 최소화하기 위한, 적어도 캐패시터 (214a), 캐패시터 (214b), 캐패시터 (214c) 및 캐패시터 (214d) 를 포함하는 복수의 접지된 캐패시터들 (214) 를 포함할 수도 있다. 또한, 필터 (200) 는 인덕턴스들의 세트를 갖는 인덕터들의 세트 (206) 를 형성하도록 코어 부재 (208) 의 적어도 일 부분 주위에 그 부분을 따라 감긴 케이블 (216) 을 포함할 수 있다. 인덕터들의 세트 (206) 에서의 인덕터들 및 복수의 접지된 캐패시터들 (214) 에서의 캐패시터들은 튜닝된 회로들 (또는 공진 회로들) 을 형성하여, ESC (108) 로부터 전송된 소정의 동작 주파수 (예를 들어, 60 ㎒) 에서의 RF 전력을 필터하거나 차단할 수도 있다.
케이블 (216) 은 복수의 와이어들, 예를 들어 솔리드 이중 코팅된 마그넷 구리 와이어들과 같은, 코팅된 마그넷 와이어들을 포함할 수도 있다.
복수의 와이어들은 와이어 (216a) 및 와이어 (216b) 을 포함할 수도 있다. 와이어 (216a) 의 제 1 말단은 케이블 (104) 및 단자 (110a) (도 1a의 예에 도시됨) 을 통해 ESC (108) 에 배치된 제 1 전기 가열 엘리먼트에 접속될 수도 있고; 와이어 (216a) 의 제 2 말단은 제 1 공진 회로를 형성하기 위해 캐패시터 (214a) 에 접속될 수도 있고 또한 제 1 전기 가열 엘리먼트에 전력을 공급하기 위해 다른 와이어들을 통해 전력 공급기 (예를 들어, AC 전력 공급기) 에 접속될 수도 있다. 와이어 (216b) 의 제 1 말단은 케이블 (104) 및 단자 (110b)(도 1a의 예에 도시됨) 를 통해 제 1 전기 가열 엘리먼트에 접속될 수도 있고; 와이어 (216b) 의 제 2 말단은 제 2 공진 회로를 형성하기 위해 캐패시터 (214b) 에 접속될 수도 있고 또한 제 1 전기 가열 엘리먼트에 전력을 공급하기 위해 다른 와이어들을 통해 전력 공급기에 접속될 수도 있다.
복수의 와이어들은 와이어 (216c) 및 와이어 (216d) 을 더 포함할 수도 있다. 와이어 (216c) 의 제 1 말단은 단자 (110c)(도 1a의 예에 도시됨) 를 통해 ESC (108) 에 배치된 제 2 전기 가열 엘리먼트에 접속되고; 와이어 (216c) 의 제 2 말단은 제 3 공진 회로를 형성하기 위해 캐패시터 (214c) 에 접속될 수도 있고 또한 제 3 전기 가열 엘리먼트에 전력을 공급하기 위해 다른 와이어들을 통해 전력 공급기에 접속될 수도 있다. 와이어 (216d) 의 제 1 말단은 단자 (110d)(도 1a의 실시예에 도시됨) 를 통해 제 2 가열 엘리먼트에 접속될 수도 있고; 와이어 (216d) 의 제 2 말단은 공진 회로를 형성하기 위해 캐패시터 (214d) 에 접속될 수도 있고 또한 제 2 전기 가열 엘리먼트에 전력을 공급하기 위해 다른 와이어들을 통해 전력 공급기에 접속될 수도 있다.
와이어들 (216a 내지 216d) 및 캐패시터들 (214a 내지 214d) 에 의해 형성된 공진 회로들은 ESC (108) 로부터 누설되거나 또는 전송되는 소정의 동작 주파수 (예를 들어, 60 ㎒) 에서의 RF 전력을 필터할 수도 있다.
하나 이상의 실시형태들에 있어서, 와이어 (216a) 의 적어도 일 부분 및 와이어 (216b) 의 적어도 일 부분은 거리 (또는 간격) 와 연관된 영향을 최소화하기 위하여 함께 꼬여져서, 와이어 (216a) 의 그 부분과 와이어 (216b) 의 그 부분 사이의 거리를 최소화할 수도 있다. 그 결과, 와이어 (216a) 과 연관된 스트레이 캐패시턴스와 와이어 (216b) 과 연관된 스트레이 캐패시턴스 사이의 거리들이 최소화될 수도 있으며; ESC (도 1a의 예에 도시됨) 에서 와이어 (216a) 과 연관된 임피던스들 및 와이어 (216b) 와 연관된 임피던스들은 실질적으로 동등하다. 하나 이상의 실시형태들에 있어서, 와이어 (216c) 의 적어도 일 부분 및 와이어 (216d) 의 적어도 일 부분은 함께 꼬여져서 와이어 (216c) 의 그 부분과 와이어 (216d) 의 그 부분 사이의 거리를 최소화할 수도 있다.
하나 이상의 실시형태들에 있어서, 와이어 (216a)의 적어도 일 부분 및 와이어 (216c) 의 적어도 일 부분은 거리와 연관된 영향을 최소화하기 위하여 함께 꼬여져서 와이어 (216a) 의 그 부분과 와이어 (216c) 의 그 부분 사이의 거리를 최소화할 수 있다. 그 결과, 와이어 (216a) 와 연관된 스트레이 캐패시턴스들과 와이어 (216c) 와 연관된 스트레이 캐패시턴스들 사이의 차이들이 최소화될 수 있으며; ESC (108) 에서 와이어 (216a) 와 연관된 임피던스들 및 와이어 (216c) 와 연관된 임피던스들이 실질적으로 동등할 수 있다. 하나 이상의 실시형태들에 있어서, 와이어 (216b) 의 적어도 일 부분 및 와이어 (216d) 의 적어도 일 부분은 함께 꼬여져서 와이어 (216b) 의 그 부분과 와이어 (216d) 의 그 부분 사이의 거리를 최소화할 수 있다.
하나 이상의 실시형태들에 있어서, 와이어 (216a) 의 적어도 일 부분, 와이어 (216b) 의 적어도 일 부분, 와이어 (216c) 의 적어도 일 부분, 및 와이어 (216d) 의 적어도 일 부분은 함께 꼬여져서 와이어 (216a) 의 그 부분, 와이어 (216b) 의 그 부분, 와이어 (216c) 의 그 부분, 및 와이어 (216d) 의 그 부분 사이의 거리들을 최소화한다 (또는 거리들의 영향들을 최소화한다). 그 결과, 와이어들과 연관된 스트레이 캐패시턴스들 사이의 차이들이 최소화될 수도 있고; ESC (108) 에서 와이어들과 연관된 임피던스들은 실질적으로 동등할 수도 있다. 유리하게, 플라즈마 프로세싱 시스템에서 프로세싱된 각각의 웨이퍼 상에서, 플라즈마 프로세싱 레이트들 (예를 들어, 식각 레이트들) 이 실질적으로 균일하고; 제조 수율이 최대화될 수도 있다.
하나 이상의 실시형태들에 있어서, 케이블 (216) 은 ESC (108) 에서 구현되는 3개 이상의 전기 히터들을 지지하기 위해 함께 꼬여진 6개 이상의 와이어들을 포함할 수도 있다.
코어 부재 (208) 는 케이블 (216) 의 적어도 일 부분을 포지셔닝하고 및/또는 사양들에 따라 적소에 케이블 (216) 의 부분을 고정하기 위한 포지셔닝 메커니즘을 포함할 수도 있다. 예를 들어, 코어 부재 (208) 는 케이블 (216) 의 적어도 일 부분 (예를 들어 나선형 인덕터 부분) 을 포지셔닝 및/또는 고정하기 위한 홈 구조 (252)(예를 들어, 나선형 홈 구조) 를 포함할 수도 있다. 케이블 (216) 의 적어도 그 부분은 홈 구조 (252) 내부에 배치될 수도 있다. 코어 부재 (208) 는 인클로저 (250) 와 단단히 연결될 수도 있기 때문에, 인클로저 (250) 의 벽들에 관한 케이블 (216) 의 이동이 방지 또는 최소화될 수도 있다. 따라서, 케이블 (216) 에서의 와이어들 및 인클로저 (250) 의 벽들과 연관된 스트레이 캐패시턴스들은 실질적으로 일정하다. 유리하게, 본 발명의 실시형태들은, 종래 기술에서 요구된 숙련된, 시간 소모적인 교정을 필요로 하지 않으면서, 웨이퍼에서 웨이퍼로, RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로, 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로의, 실질적으로 일관성 있는 플라즈마 프로세싱 프로파일들 (예를 들어, 식각 프로파일들) 을 제공할 수도 있다.
ESC (108)(도 1a의 실시예에 도시됨) 로부터 전송된 제 2 동작 주파수 (예를 들어, 27 ㎒) 에서의 RF 전력을 필터하거나 차단하기 위해, 필터 (200) 는 제 2 복수의 접지된 캐패시터들 (224) 을 더 포함할 수도 있다. 또한, 접지된 캐패시터들 (224) 은 플라즈마 프로세싱 레이트를 개선하기 위해 ESC (108) 로부터의 RF 전력 손실을 감소하도록 임피던스들을 적어도 튜닝하도록 구현될 수도 있다. 필터 (200) 는 제 2 세트의 인덕턴스들을 갖는 제 2 세트의 인덕터들 (202) 을 형성하기 위해 코어 부재 (208) 의 적어도 일 부분 주위에 그 부분을 따라 감긴 케이블 (212) 을 또한 포함할 수도 있다. 제 2 세트의 인덕터들 (202) 에서의 인덕터들 및 제 2 복수의 캐패시터들 (224) 에서의 캐패시터들은 튜닝된 회로들 (또는 공진 회로들) 을 형성하여 ESC (108) 로부터 전송된 제 2 동작 주파수 (예를 들어, 27 ㎒) 에서 RF 전력을 필터하거나 차단할 수도 있다.
또한, 케이블 (212) 은 복수의 와이어들, 예를 들어 와이어 (212a), 와이어 (212b), 와이어 (212c) 및 와이어 (212d) 을 포함할 수도 있다. 와이어 (212a) 의 제 1 말단은 캐패시터 (214a) 에 접속될 수도 있고 또한 와이어 (216a) 의 제 2 말단에 접속될 수도 있으며; 와이어 (212a) 의 제 2 말단은 제 2 복수의 캐패시터들 (224) 에서의 캐패시터에 접속될 수도 있고 또한 전력 공급기에 접속될 수도 있다. 따라서, 와이어 (216a) 과 유사하게, 인덕터로서 작용하는 것 이외에도, 와이어 (212a) 은 전력 공급기와 제 1 전기 가열 엘리먼트 사이에서 접속의 섹션으로서 또한 작용할 수도 있고; 와이어 (216a) 은 적어도 와이어 (212a) 을 통하여 전력 공급기에 접속될 수도 있다. 와이어 (212b) 의 제 1 말단은 캐패시터 (214b) 에 접속될 수도 있고 또한 와이어 (216b) 의 제 2 말단에 접속될 수도 있으며; 와이어 (212b) 의 제 2 말단은 제 2 복수의 캐패시터들 (224) 에서의 다른 캐패시터에 접속될 수도 있고 또한 전력 공급기에 접속될 수도 있다. 따라서, 와이어 (216b) 와 유사하게, 인덕터로서 작용하는 것 이외에, 와이어 (212b) 은 전력 공급기와 제 1 전기 가열 엘리먼트 사이에서 접속의 섹션으로서 또한 작용할 수도 있으며; 와이어 (216a) 은 적어도 와이어 (212b) 을 통해 전력 공급기에 접속될 수도 있다. 유사하게, 인덕터들로서 작용하는것 이외에, 와이어 (212c) 및 와이어 (212d) 은 전력 공급기와 제 2 전기 가열 엘리먼트 사이에서 접속들의 섹션들로서 작용할 수도 있다.
상기 논의된 와이어들 (216a 내지 216d) 의 구성들과 유사하게, 2 이상의 와이어들 (212a 내지 212d) 의 적어도 부분들은 플라즈마 프로세싱 시스템에서 프로세싱된 웨이퍼 상에서 실질적으로 균일한 플라즈마 프로세싱 레이트들을 달성하기 위해 함께 꼬여질 수도 있다.
또한, 코어 부재 (208) 는 케이블 (212) 의 적어도 부분을 포지셔닝하고 및/또는 사양들에 따라 적소에 케이블 (212) 의 그 부분을 고정하기 위해, 나선형 홈 구조 (254) 와 같은 제 2 포지셔닝 메커니즘을 포함할 수도 있다. 홈 구조 (252) 와 유사하게, 홈 구조 (254) 는, 웨이퍼에서 웨이퍼로, RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로, 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로의, 플라즈마 프로세싱 프로파일들의 일관성을 유지하기 위해, 케이블 (212) 의 이동을 방지하거나 최소화할 수도 있다.
ESC (108)(도 1a의 실시예에 도시됨) 로부터 전송된 제 3 동작 주파수 (예를 들어, 2 ㎒) 에서의 RF 전력을 필터하거나 차단하기 위하여, 필터 (200) 는 또한, 플라즈마 프로세싱 레이트를 개선하기 위해 ESC (108) 로부터의 RF 전력 손실을 감소하도록 임피던스들을 적어도 튜닝하기 위한 제 3 복수의 접지된 캐패시터들 (226) 을 더 포함할 수도 있다. 또한, 필터 (200) 는 제 3 세트의 인덕턴스들을 갖는 제 3 세트의 인덕터들 (222) 를 형성하는 케이블 (232) 을 포함할 수도 있다. 제 3 세트의 인덕터들 (222) 에서의 인덕터들 및 제 3 복수의 캐패시터들 (226) 에서의 캐패시터들은 튜닝된 회로들 (또는 공진 회로들) 을 형성하여 ESC (108) 로부터 전송된 제 3 동작 주파수 (예를 들어, 2 ㎒) 에서의 RF 전력을 필터하거나 차단할 수도 있다.
케이블 (216) 에서의 와이어들 및 케이블 (212) 에서의 와이어들과 유사하게, 인덕터들로서 작용하는 것 이외에, 케이블 (232) 에서의 와이어들은 또한 전력 공급기와 ESC (108) 에 배치된 전기 히터들 사이에서 접속들의 섹션들로서 작용할 수도 있다. 케이블 (232) 에서의 와이어들은 와이어들의 세트 (230) 및 AC 컨넥터 (138)(도 1a의 예에 도시됨) 를 통해 전력 공급기에 접속될 수도 있다.
상기 논의된 케이블 (216) 에서의 와이어들 및 케이블 (212) 에서의 와이어들의구성들과 유사하게, 케이블 (232) 에서의 2 이상의 와이어들의 적어도 부분들은 플라즈마 프로세싱 시스템에서 프로세싱된 웨이퍼 상에 실질적으로 균일한 플라즈마 프로세싱 레이트를 달성하기 위해 함께 꼬여질 수도 있다.
간격 및/또는 구조적 고려 사항들을 위해, 코어 부재 (208) 에 의해 지지되는 것 대신, 케이블 (232) 은 인클로저 (250) 내부에 또한 배치되고 인클로저 (250) 와 단단히 연결되지만, 코어 부재 (208) 와 상이하게 배향되는 다른 코어 부재 (228) 에 의해 지지될 수도 있다. 케이블 (232) 의 적어도 일 부분은 제 3 세트의 인덕터들 (222) 을 형성하기 위해 코어 부재 (228) 의 적어도 일 부분 주위에 그 부분을 따라 감겨질 수도 있다. 코어 부재 (208) 와 유사하게, 코어 부재 (228) 는, 케이블 (232) 의 적어도 일 부분을 포지셔닝하고 및/또는 사양들에 따라 적소에 케이블 (232) 의 그 부분을 고정하기 위해, 나선형의 홈 구조 (256) 와 같은 포지셔닝 메커니즘을 포함할 수도 있다. 홈 구조 (252) 및 홈 구조 (254) 와 유사하게, 홈 구조 (256) 는, 웨이퍼에서 웨이퍼로, RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로, 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로, 플라즈마 프로세싱 프로파일들의 일관성을 유지하기 위해, 케이블 (232) 의 이동을 방지하거나 최소화할 수도 있다.
본 발명의 하나 이상의 실시형태들은 필터 (200) 와 동일하거나 유사한 피쳐들 및 이점들을 갖는 RF 전력 필터들을 포함하는 플라즈마 프로세싱 시스템들에 관련된다.
도 3은 본 발명의 하나 이상의 실시 형태에 따라, 도 1a의 예에 도시된 플라즈마 프로세싱 시스템 (100) 과 같은, 플라즈마 프로세싱 시스템에서 사용되는 RF 전력 필터 (300)(필터 (300)) 를 도시하는 개략도를 나타낸다.
도 2의 예에 도시된 필터 (200) 와 유사하게, 필터 (300) 는 튜닝된 회로들 (또는 공진공진들) 을 포함할 수도 있으며, 튜닝된 회로들은, 상이한 주파수들에서 RF 전력을 필터하기 위해, 인클로저 (350) 내부에 고정된 하나 이상의 코어 부재들 (예를 들어, 코어 부재 (308)) 주위에 그 부재들을 따라 감긴, 와이어들 (예를 들어, 케이블 (312) 에서의 와이어들) 에 의해 형성된 접지된 캐패시터들 (예를 들어, 접지된 캐패시터들 (324) 의 세트에서의 캐패시터들) 및 인덕터들의 조합이다. 인덕터들을 형성하는 것 이외에, 와이어들은 또한 하나 이상의 가열 엘리먼트들에 전력을 공급하기 위해 ESC (예를 들어, 도 1a의 실시예에 도시된 ESC (108)) 에 배치된 하나 이상의 전기 가열 엘리먼트들을 전력 공급기와 연결시킬 수도 있다. 2 이상의 와이어들은 플라즈마 프로세싱 시스템에서 프로세싱된 웨이퍼들 상에 실질적으로 균일한 플라즈마 프로세싱 레이트들을 달성하기 위해, 스트레이 캐패시턴스 변동들을 최소화하도록 함께 꼬여질 수도 있다. 하나 이상의 코어 부재들은 와이어들 (또는 와이어들에 의해 형성된 하나 이상의 케이블들) 을 포지셔닝하기 위해 하나 이상의 포지셔닝 메커니즘들 (예를 들어, 하나 이상의 홈 구조들) 을 포함하여 와이어들의 이동을 방지하거나 최소화할 수도 있다. 따라서, 스트레이 캐패시턴스 변동들이 최소화될 수도 있다. 유리하게, 숙련된 시간 소모적인 교정 프로세스들을 필요로 하지 않으면서, 웨이퍼에서 웨이퍼로, RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로, 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로의, 플라즈마 프로세싱 프로파일들에서의 실질적 일관성이 제공될 수도 있다.
3개의 상이한 동작 주파수들에서의 RF 전력을 필터하기 위한 3개의 케이블들에 대응하여 3 세트의 캐패시터들을 포함할 수도 있는 필터 (200) 와 대조적으로, 필터 (300) 는 3개의 상이한 동작 주파수들에서 RF 전력을 필터하기 위해 2개의 케이블들에 대응하여 단지 2세트의 캐패시터들만을 포함할 수도 있다. 캐패시터들의 사용을 감소시킴으로써, 캐패시터들의 허용 범위의 영향이 감소될 수도 있다. 유리하게, RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로, 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로의, 웨이퍼들 상의 플라즈마 프로세싱 프로파일들의 일관성이 더욱 개선될 수도 있다.
필요한 캐패시터들의 수를 감소시키기 위하여, 2 이상의 주파수들, 예를 들어 60 ㎒ 및 27 ㎒ 에서 RF 전력을 필터하도록 케이블 (312) 이 채용될 수도 있다. 하나 이상의 실시형태들에 있어서, 케이블 (312) 의 제 1 부분은 코어 부재 (308) 의 제 1 부분 주위에 제 1 부분을 따라 감겨져서 제 1 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 1 서브세트의 인덕터들을 형성할 수도 있으며; 케이블 (312) 의 제 2 부분은 다른 방식으로 코어 부재 (308) 의 제 2 부분 주위에 제 2 부분을 따라 감겨져서 제 1 서브세트의 인덕턴스들과 상이한 제 2 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 2 서브세트의 인덕터들을 형성할 수도 있다. 접지된 캐패시터들 (324) 의 세트 및 제 1 서브세트의 인덕터들에 의해 형성된 튜닝된 회로들은 제 1 주파수, 예를 들어 60 ㎒에서의 RF 전력을 차단할 수도 있으며; 동일한 접지된 캐패시터들 (324) 및 제 2 서브세트의 인덕터들에 의해 형성된 튜닝된 회로들은 제 2 주파수, 예를 들어 27 ㎒에서의 RF 전력을 차단할 수도 있다.
상이한 서브세트들의 인덕턴스들을 갖는 상이한 서브세트들의 인덕터들을 제공하기 위해, 케이블 (312) 이 이웃하는 케이블 부분들 사이에서 다양한 피치들을 갖도록 감겨질 수도 있다. 예를 들어, 케이블 (312) 은, 케이블 (312) 의 제 1 부분의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치들이 케이블 (312) 의 제 2 부분의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치들과 상이하게 될 수 있도록 감겨질 수도 있다. 일 예로서, 케이블 (312) 의 이웃하는 케이블 부분들 (332 및 334) 사이의 피치 (p) 는, 케이블 (312) 의 이웃하는 케이블 부분들 (336 및 338) 사이의 피치 (q) 와 상이할 수도 있다 (예를 들어, 더 작음). 피치들의 값들은 과도한 실험 없이도 당업자에 의해 최적화될 수 있다.
특정된 피치들에 따라 케이블 부분들을 포지셔닝하고 및/또는 특정된 피치들에 따라 적소에 케이블 부분들을 고정시키기 위해, 코어 부재 (308) 는 케이블 부분들 사이의 특정된 피치들에 따라 다양한 피치들을 갖는, 홈 구조와 같은 포지셔닝 메커니즘을 포함할 수도 있다. 예를 들어, 홈 구조는 이웃하는 홈 부분들 사이에서 다양한 피치들을 갖는 복수의 홈 부분들을 포함할 수도 있다. 일 예로서, 이웃하는 홈 부분들 (352 및 354) 사이의 피치 (p) 가, 이웃하는 홈 부분들 (356 및 358) 사이의 피치 (q) 와 상이할 수도 있다 (예를 들어, 더 작음). 피치들의 값들은 과도한 실험 없이도 당업자에 의해 최적화될 수 있다.
케이블 (312) 의 케이블 부분들 사이의 다양한 피치들 (및 케이블 부분들을 유지하는 홈 부분들 사이의 다양한 피치들) 을 구현함으로써, 단 하나의 케이블 (즉, 케이블 (312)) 과 단 하나의 접지된 캐패시터들 (즉, 접지된 캐패시터들 (324))의 세트들만이 2개의 상이한 주파수들에서 RF 전력을 차단하기에 충분할 수 있다. 따라서, 캐패시터들의 사용이 감소될 수 있고, 캐패시터들의 허용 범위의 영향이 감소될 수 있다. 유리하게, 플라즈마 프로세싱 균일성 및 플라즈마 프로세싱 프로파일 일관성이 실질적으로 개선될 수 있다. 게다가, 필터 (300) 의 제조가 실질적으로 간단해질 수 있다.
본 발명이 하나 이상의 실시형태들은 필터 (300) 와 동일하거나 유사한 피쳐들 및 이점들을 갖는 RF 전력 필터들을 포함하는 플라즈마 프로세싱 시스템들에 관련된다.
도 4는, 본 발명의 하나 이상의 실시형태들에 따라, 도 1a의 예에 도시된 플라즈마 프로세싱 시스템 (100) 과 같은 플라즈마 프로세싱 시스템에서 사용되는 RF 전력 필터 (400)(필터 (400)) 를 도시하는 개략도를 나타낸다. 필터 (400) 는 도 2의 예를 참조하여 논의된 필터 (200) 및 도 3의 예를 참조하여 논의된 필터 (300) 의 하나 이상의 이점들 및 하나 이상의 피쳐들 (예를 들어, 포지셔닝 메커니즘들을 갖는 코어 부재들에 고정된 꼬인 와이어들) 을 가질 수도 있다. 그럼에도 불구하고, 3개의 주파수들에서 RF 전력을 차단하도록 튜닝된 회로들을 형성하기 위해 3 세트의 캐패시터들을 포함할 수 있는 필터 (200) 와 대조적으로, 그리고 3개의 주파수들에서 RF 전력을 차단하도록 튜닝된 회로들을 형성하기 위해 2 세트의 캐패시터들을 포함할 수 있는 필터 (300) 와 대조적으로, 필터 (400) 는 3개의 주파수들에서 RF 전력을 차단하도록 튜닝된 회로들을 형성하기 위해 단지 하나의 캐패시터들의 세트만을 포함할 수도 있다.
필터 (400) 의 인클로저 (450) 내부에, 케이블 (412) 의 제 1 부분 (414) 은 제 1 코어 부재 (408) 의 적어도 일 부분 주위에 그 부분을 따라 감겨져서 제 1 세트의 인덕턴스들을 갖는 제 1 세트의 인덕터들을 형성하고, 케이블 (412) 의 제 2 부분 (416) 은 제 2 코어 부재 (428) 의 적어도 일 부분 주위에 그 부분을 따라 감겨져서 제 1 세트의 인덕턴스들과 상이한 제 2 세트의 인덕턴스들을 갖는 제 2 세트의 인덕터들을 형성한다.
도 3의 예를 참조하여 논의된 필터 (300) 의 구현과 유사하게, 다양한 피치들이 케이블 (412) 의 부분 (414) 의 이웃하는 케이블 부분들 사이에서 구현되어, 케이블 (412) 의 부분 (414) 이 2개의 서브세트의 상이한 인덕턴스들을 가지는 2개의 서브세트의 인덕터들을 형성하는 것을 가능하게 한다. 예를 들어, 케이블 (412) 의 부분 (414) 은, 케이블 (412) 의 부분 (414) 의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치들이 케이블 (412) 의 부분 (414) 의 다른 부분의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치와 상이할 수 있도록 감겨질 수 있다. 일 예로서, 이웃하는 케이블 부분들 (432 및 434) 사이의 피치 (r) 는 이웃하는 케이블 부분들 (436 및 438) 사이의 피치 (s) 와 상이할 수도 있다 (예를 들어 더 작음). 이 피치들은 코어 부재 (408) 에서 구현된 하나 이상의 포지셔닝 메커니즘들 (예를 들어, 도 3의 예에 도시된 나선형 홈 구조) 에 의해 유지될 수 있다. 그 결과, 제 1 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 1 서브세트의 인덕터들 및 제 2 서브세트의 인덕턴스들 (제 1 서브세트의 인덕턴스들과 상이함) 을 갖는 제 2 서브세트의 인덕터들이 형성될 수 있다.
게다가, 케이블 (412) 의 부분 (416) 은, 케이블 (412) 의 부분 (416) 의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치가 케이블 (412) 의 부분 (414) 의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치와 상이할 수 있도록 감겨질 수 있다. 예를 들어, (케이블 (412) 의 부분 (416) 에서) 이웃하는 케이블 부분들 (440 및 442) 사이의 피치 (t) 는, (케이블 (412) 의 부분 (414) 에서) 이웃하는 케이블 부분들 (432 및 434) 사이의 피치 (r) 와 상이할 수도 있고 (예를 들어, 더 작음), 또한 (케이블 (412) 의 부분 (414) 에서 이웃하는 케이블 부분들 (436 및 438) 사이의 피치 (s) 와 상이할 수도 있다 (예를 들어, 더 작음). 이 피치들은 코어 부재 (428) 에서 구현된 하나 이상의 포지셔닝 메커니즘들 (예를 들어, 도 2의 예에 도시된 나선형 홈 구조) 에 의해 유지될 수 있다. 그 결과, 제 2 세트의 인덕턴스들을 갖는 제 2 세트의 인덕터들 또는 제 1 서브세트의 인덕턴스들과 상이하고 또한 제 2 서브세트의 인덕턴스들과 상이한 제 3 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 3 서브세트의 인덕터들이 형성될 수 있다. 피치들의 값들은 과도한 실험 없이 당업자에 의해 최적화될 수 있다.
접지된 캐패시터들의 세트 (426) 및 제 1 서브세트의 인덕터들에 의해 형성된 튜닝된 회로들은 제 1 주파수, 예를 들어 60 ㎒에서의 RF 전력을 차단할 수 있다. 동일한 접지된 캐패시터들 (426) 및 제 2 서브세트의 인덕터들에 의해 형성된 튜닝된 회로들은 제 2 주파수, 예를 들어 27 ㎒에서의 RF 전력을 차단할 수 있다. 동일한 접지된 캐패시터들 (426) 및 제 3 서브세트의 인덕터들에 의해 형성된 튜닝된 회로들은 제 3 주파수, 예를 들어 2 ㎒에서의 RF 전력을 차단할 수도 있다. 필터 (400) 에서, 2 또는 3 세트들 대신 단지 하나의 세트의 접지된 캐패시터들만이 3개의 상이한 주파수들에서의 RF 전력을 차단하기 위해 채용된다. 따라서, 캐패시터들의 사용이 더욱 감소될 수 있고, 캐패시터들의 허용범위들의 영향이 또한 감소될 수 있다. 유리하게, RF 전력 필터들의 제조가 더욱 간단해질 수 있고, 플라즈마 프로세싱 균일성 및 플라즈마 프로세싱 프로파일 일관성이 더욱 개선될 수 있다,
하나 이상의 실시형태들에 있어서, 케이블 (412) 은, 4개 이상의 상이한 주파수들에서의 RF 전력을 필터하기 위해, 4개 이상의 상이한 인덕턴스들을 갖는 4개 이상의 서브세트의 인덕터들을 구현하도록 감겨질 수 있다.
본 발명의 하나 이상의 실시형태들은 필터 (400) 와 동일하거나 유사한 피쳐들 및 이점들을 갖는 RF 전력 필터들을 포함하는 플라즈마 프로세싱 시스템에 관련된다.
상기로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 실시형태들은 함께 꼬인 와이어들에 의해 형성된 인덕터들을 갖는 RF 전력 필터 메커니즘들을 포함할 수 있다. 따라서, 와이어들 사이의 스페이싱이 최소화될 수 있고, 와이어들과 연관된 스트레이 캐패시터들에서의 차이들이 최소화될 수 있다. 유리하게, 웨이퍼들 상에서 실질적으로 균일한 플라즈마 프로세싱 레이트들이 달성될 수 있다.
본 발명의 실시형태들은 RF 전력 필터 메커니즘들에서 인덕터들을 형성하는 와이어들을 포티셔닝 및/또는 고정하기 위한 포지셔닝 메커니즘들을 포함할 수 있다. 따라서, 와이어들과 연관된 스트레이 캐패시턴스들이 실질적으로 일정하게 유지될 수 있다. 유리하게, 플라즈마 프로세싱 프로파일들은, 웨이퍼에서 웨이퍼로, RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로, 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로, 실질적으로 일관성이 있을 수 있다.
본 발명의 실시형태들은 RF 전력 필터 메커니즘들에서 인덕터들을 형성하는 와이어들의 이웃하는 부분들 사이에서 다양한 피치들을 구현할 수 있다. 따라서, 단지 하나 또는 2 세트들의 캐패시터들 (3세트 대신) 만으로 그리고 단지 하나 또는 2 세트의 와이어들 (3 세트의 와이어들 대신) 만으로 형성된 튜닝된 회로들은 3개 이상의 상이한 주파수들에서의 RF 전력을 필터할 수 있다. 본 발명의 실시형태들은 RF 전력 필터 메커니즘들에서 캐패시터들의 사용을 현저하게 감소시킬 수 있다, 유리하게, RF 전력 필터에서 RF 전력 필터로 및/또는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 플라즈마 프로세싱 챔버로의, 웨이퍼들 상에서의 플라즈마 프로세싱 프로파일들의 일관성이 더욱 개선될 수 있다.
본 발명이 몇몇 바람직한 실시형태들에 관해서 설명되었지만, 본 발명의 범위 내에 속하는 변경물, 치환물, 변형물 및 다양한 치환 등가물이 있다. 또한, 본 발명의 방법들 및 장치들을 구현하는 많은 대안의 방식들이 있음을 알아야 한다. 또한, 본 발명의 실시형태들은 다른 출원들에서 활용성을 알아낼 수 있다. 본 명세서에서 요약 부분은 편의를 위해 그리고 워드 카운트 제한에 기인하여 제공되고, 이에 따라 이해의 편의를 위해 기록되며, 청구범위의 범위를 한정하기 위해 채용되지 않아야 한다. 따라서, 다음의 첨부된 청구범위는 본 발명의 진정한 사상 및 범위 내에 포함된 이러한 모든 변경물, 치환물, 변형물 및 다양한 치환 등가물을 포함하는 것으로서 해석되어야 한다.

Claims (20)

  1. 플라즈마 프로세싱 시스템에서 적어도 정전척 (ESC) 으로부터 전송된 무선 주파수 (RF) 전력을 필터하는 필터에 있어서,
    상기 플라즈마 프로세싱 시스템은 상기 ESC의 제 1 부분에 배치된 적어도 제 1 가열 엘리먼트를 포함하고, 상기 플라즈마 프로세싱 시스템은 적어도 전력 공급기를 더 포함하며,
    상기 필터는,
    제 1 코어 부재;
    적어도 제 1 캐패시터 및 제 2 캐패시터를 포함하는 제 1 복수의 캐패시터들; 및
    제 1 세트의 인덕턴스들을 갖는 적어도 제 1 세트의 인덕터들을 형성하도록 상기 제 1 코어 부재의 적어도 제 1 부분 주위에 상기 제 1 부분을 따라 감긴 제 1 케이블을 포함하고,
    상기 제 1 케이블은 적어도 제 1 복수의 와이어들을 포함하고, 상기 제 1 복수의 와이어들은 적어도 제 1 와이어 및 제 2 와이어를 포함하고, 상기 제 1 와이어는 상기 제 2 와이어와 컨택하고, 상기 제 1 와이어의 적어도 일 부분과 상기 제 2 와이어의 적어도 일 부분은 함께 꼬여있으며 (twisted), 상기 제 1 와이어의 제 1 말단은 상기 제 1 가열 엘리먼트에 접속되고, 상기 제 1 와이어의 제 2 말단은 상기 제 1 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되며, 상기 제 2 와이어의 제 1 말단은 상기 제 1 가열 엘리먼트에 접속되고, 상기 제 2 와이어의 제 2 말단은 상기 제 2 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되며, 상기 제 1 코어 부재는 적어도 홈 구조를 포함하고, 상기 제 1 케이블의 적어도 일 부분은 상기 홈 구조 내부에 배치되는, 무선 주파수 전력을 필터하는 필터.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 플라즈마 프로세싱 시스템은 상기 ESC의 제 2 부분에 배치된 적어도 제 2 가열 엘리먼트를 더 포함하고,
    상기 제 1 복수의 캐패시터들은 적어도 제 3 캐패시터 및 제 4 캐패시터를 더 포함하고,
    상기 제 1 케이블의 상기 제 1 복수의 와이어들은 적어도 제 3 와이어 및 제 4 와이어를 더 포함하고, 상기 제 3 와이어의 제 1 말단은 상기 제 2 가열 엘리먼트에 접속되고, 상기 제 3 와이어의 제 2 말단은 상기 제 3 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 4 와이어의 제 1 말단은 상기 제 2 가열 엘리먼트에 접속되고, 상기 제 4 와이어의 제 2 말단은 상기 제 4 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되며,
    상기 제 1 와이어의 상기 부분, 상기 제 2 와이어의 상기 부분, 상기 제 3 와이어의 적어도 일 부분 및 상기 제 4 와이어의 일 부분은 함께 꼬여있는, 무선 주파수 전력을 필터하는 필터.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 와이어는 코팅된 마그넷 와이어인, 무선 주파수 전력을 필터하는 필터.
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 홈 구조는 적어도 복수의 홈 부분들을 포함하고,
    상기 홈 구조는, 상기 제 1 케이블의 제 1 부분이 제 1 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 1 서브세트의 인덕터들을 형성하고, 또한 상기 제 1 케이블의 제 2 부분이 제 2 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 2 서브세트의 인덕터들을 형성하도록, 상기 복수의 홈 부분들의 이웃하는 홈 부분들 사이에 다양한 피치들을 가지며,
    상기 제 2 서브세트의 인덕턴스들은 상기 제 1 서브세트의 인덕턴스들과 상이한, 무선 주파수 전력을 필터하는 필터.
  6. 제 1 항에 있어서,
    제 1 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 1 서브세트의 인덕터들을 형성하도록 상기 제 1 케이블의 제 1 부분은 상기 제 1 코어 부재의 제 1 부분 주위에 상기 제 1 부분을 따라 감겨지고,
    제 2 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 2 서브세트의 인덕터들을 형성하도록 상기 제 1 케이블의 제 2 부분은 상기 제 1 코어 부재의 제 2 부분 주위에 상기 제 2 부분을 따라 감겨지고, 상기 제 2 서브세트의 인덕턴스들은 상기 제 1 서브세트의 인덕턴스들과 상이하고,
    상기 제 1 케이블의 상기 제 1 부분의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치들이, 상기 제 1 케이블의 상기 제 2 부분의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치들과 상이한, 무선 주파수 전력을 필터하는 필터.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 필터는 제 2 코어 부재를 더 포함하고,
    상기 제 1 세트의 인덕터들을 형성하도록 상기 제 1 케이블의 제 1 부분은 상기 제 1 코어 부재의 상기 적어도 제 1 부분 주위에 상기 제 1 부분을 따라 감겨지고,
    제 2 세트의 인덕턴스들을 갖는 제 2 세트의 인덕터들을 형성하도록 상기 제 1 케이블의 제 2 부분은 상기 제 2 코어 부재의 적어도 일 부분 주위에 상기 부분을 따라 감겨지고, 상기 제 2 세트의 인덕턴스들은 상기 제 1 세트의 인덕턴스들과 상이하며,
    상기 제 1 케이블의 상기 제 1 부분의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치들이, 상기 제 1 케이블의 상기 제 2 부분의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치들과 상이한, 무선 주파수 전력을 필터하는 필터.
  8. 제 1 항에 있어서,
    적어도 제 3 캐패시터 및 제 4 캐패시터를 포함하는 제 2 복수의 캐패시터들; 및
    적어도 제 2 세트의 인덕터들을 형성하도록 상기 제 1 코어 부재의 적어도 제 2 부분 주위에 상기 제 2 부분을 따라 감긴 제 2 케이블을 더 포함하고,
    상기 제 2 케이블은 적어도 제 2 복수의 와이어들을 포함하고, 상기 제 2 복수의 와이어들은 적어도 제 3 와이어 및 제 4 와이어를 포함하고, 상기 제 3 와이어는 상기 제 4 와이어와 컨택하고, 상기 제 3 와이어 및 상기 제 4 와이어는 함께 꼬여있고, 상기 제 3 와이어의 제 1 말단은 상기 제 1 캐패시터에 접속되고 또한 상기 제 1 와이어의 상기 제 2 말단에 접속되고, 상기 제 3 와이어의 제 2 말단은 상기 제 3 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 4 와이어의 제 1 말단은 상기 제 2 캐패시터에 접속되고 또한 상기 제 2 와이어의 상기 제 2 말단에 접속되고, 상기 제 4 와이어의 제 2 말단은 상기 제 4 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 1 와이어는 적어도 상기 제 3 와이어를 통해 상기 전력 공급기에 접속되며, 상기 제 2 와이어는 적어도 상기 제 4 와이어를 통해 상기 전력 공급기에 접속되는, 무선 주파수 전력을 필터하는 필터.
  9. 제 8 항에 있어서,
    제 2 코어 부재;
    적어도 제 5 캐패시터 및 제 6 캐패시터를 포함하는 제 3 복수의 캐패시터들; 및
    적어도 제 3 세트의 인덕터들을 형성하기 위해 상기 제 2 코어 부재의 적어도 일 부분 주위에 상기 일 부분을 따라 감긴 제 3 케이블을 더 포함하고,
    상기 제 3 케이블은 적어도 제 3 복수의 와이어들을 포함하고, 상기 제 3 복수의 와이어들은 적어도 제 5 와이어 및 제 6 와이어를 포함하고, 상기 제 5 와이어는 상기 제 6 와이어와 컨택하고, 상기 제 5 와이어 및 상기 제 6 와이어는 함께 꼬여 있고, 상기 제 5 와이어의 제 1 말단은 상기 제 3 캐패시터에 접속되고 또한 상기 제 3 와이어의 상기 제 2 말단에 접속되고, 상기 제 5 와이어의 제 2 말단은 상기 제 5 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 6 와이어의 제 1 말단은 상기 제 4 캐패시터에 접속되고 또한 상기 제 4 와이어의 상기 제 2 말단에 접속되고, 상기 제 6 와이어의 제 2 말단은 상기 제 6 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 1 와이어는 적어도 상기 제 3 와이어 및 상기 제 5 와이어를 통해 상기 전력 공급기 접속되며, 상기 제 2 와이어는 적어도 상기 제 4 와이어 및 상기 제 6 와이어를 통해 상기 전력 공급기에 접속되는, 무선 주파수 전력을 필터하는 필터.
  10. 제 1 항에 있어서,
    제 2 코어 부재,
    적어도 제 3 캐패시터 및 제 4 캐패시터를 포함하는 제 2 복수의 캐패시터들; 및
    적어도 제 2 세트의 인덕터들을 형성하기 위해 상기 제 2 코어 부재의 적어도 일 부분 주위에 상기 일 부분을 따라 감긴 제 2 케이블을 더 포함하고,
    상기 제 2 케이블은 적어도 제 2 복수의 와이어들을 포함하고, 상기 제 2 복수의 와이어들은 적어도 제 3 와이어 및 제 4 와이어를 포함하고, 상기 제 3 와이어는 상기 제 4 와이어와 컨택하고, 상기 제 3 와이어 및 상기 제 4 와이어는 함께 꼬여 있고, 상기 제 3 와이어의 제 1 말단은 상기 제 1 캐패시터에 접속되고 또한 상기 제 1 와이어의 상기 제 2 말단에 접속되고, 상기 제 3 와이어의 제 2 말단은 상기 제 3 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 4 와이어의 제 1 말단은 상기 제 2 캐패시터에 접속되고 상기 제 2 와이어의 상기 제 2 말단에 접속되고, 상기 제 4 와이어의 제 2 말단은 상기 제 4 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 1 와이어는 적어도 상기 제 3 와이어를 통해 상기 전력 공급기에 접속되며, 상기 제 2 와이어는 적어도 상기 제 4 와이어를 통해 상기 전력 공급기에 접속되는, 무선 주파수 전력을 필터하는 필터.
  11. 적어도 웨이퍼를 프로세싱하는 플라즈마 프로세싱 시스템에 있어서,
    상기 플라즈마 프로세싱 시스템은,
    상기 웨이퍼를 지지하는 정전척 (ESC);
    상기 ESC의 제 1 부분에 배치된 제 1 가열 엘리먼트;
    적어도 상기 제 1 가열 엘리먼트에 전력을 공급하는 전력 공급기; 및
    적어도 상기 ESC로부터 전송된 무선 주파수 (RF) 전력을 필터하는 필터를 포함하고,
    상기 필터는, 적어도,
    제 1 코어 부재;
    적어도 제 1 캐패시터 및 제 2 캐패시터를 포함하는 제 1 복수의 캐패시터들; 및
    적어도 제 1 세트의 인덕터들을 형성하기 위해 상기 제 1 코어 부재의 적어도 일 부분 주위에 상기 일 부분을 따라 감긴 제 1 케이블을 포함하고,
    상기 제 1 케이블은 적어도 제 1 복수의 와이어들을 포함하고, 상기 제 1 복수의 와이어들은 적어도 제 1 와이어 및 제 2 와이어를 포함하고, 상기 제 1 와이어는 상기 제 2 와이어와 컨택하고, 상기 제 1 와이어의 적어도 일 부분 및 상기 제 2 와이어의 적어도 일 부분은 함께 꼬여 있고, 상기 제 1 와이어의 제 1 말단은 상기 제 1 가열 엘리먼트에 접속되고, 상기 제 1 와이어의 제 2 말단은 상기 제 1 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 2 와이어의 제 1 말단은 상기 제 1 가열 엘리먼트에 접속되며, 상기 제 2 와이어의 제 2 말단은 상기 제 2 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되며, 상기 제 1 코어 부재는 적어도 홈 구조를 포함하고, 상기 제 1 케이블의 적어도 일 부분은 상기 홈 구조 내부에 배치되는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 플라즈마 프로세싱 시스템은 상기 ESC의 제 2 부분에 배치된 제 2 가열 엘리먼트를 더 포함하고,
    상기 제 1 복수의 캐패시터들은 적어도 제 3 캐패시터 및 제 4 캐패시터를 더 포함하고,
    상기 제 1 케이블의 상기 제 1 복수의 와이어들은 적어도 제 3 와이어 및 제 4 와이어를 더 포함하고,
    상기 제 3 와이어의 제 1 말단은 상기 제 2 가열 엘리먼트에 접속되고, 상기 제 3 와이어의 제 2 말단은 상기 제 3 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 4 와이어의 제 1 말단은 상기 제 2 가열 엘리먼트에 접속되고, 상기 제 4 와이어의 제 2 말단은 상기 제 4 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되며,
    상기 제 1 와이어의 상기 부분, 상기 제 2 와이어의 상기 부분, 상기 제 3 와이어의 적어도 일 부분 및 상기 제 4 와이어의 적어도 일 부분은 함께 꼬여 있는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 와이어는 코팅된 마그넷 와이어인, 플라즈마 프로세싱 시스템.
  14. 삭제
  15. 제 11 항에 있어서,
    상기 홈 구조는 적어도 복수의 홈 부분들을 포함하고,
    상기 홈 구조는, 상기 제 1 케이블의 제 1 부분이 제 1 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 1 서브세트의 인덕터들을 형성하고, 또한 상기 제 1 케이블의 제 2 부분이 제 2 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 2 서브세트의 인덕터들을 형성하도록, 상기 복수의 홈 부분들의 이웃하는 홈 부분들 사이에서 다양한 피치들을 가지며,
    상기 제 2 서브세트의 인덕턴스들은 상기 제 1 서브세트의 인덕턴스들과 상이한, 플라즈마 프로세싱 시스템.
  16. 제 11 항에 있어서,
    제 1 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 1 서브세트의 인덕터들을 형성하도록 상기 제 1 케이블의 제 1 부분은 상기 제 1 코어 부재의 제 1 부분 주위에 상기 제 1 부분을 따라 감겨지고,
    제 2 서브세트의 인덕턴스들을 갖는 제 2 서브세트의 인덕터들을 형성하도록 상기 제 1 케이블의 제 2 부분은 상기 제 1 코어 부재의 제 2 부분 주위에 상기 제 2 부분을 따라 감겨지고, 상기 제 2 서브세트의 인덕턴스들은 상기 제 1 서브세트의 인덕턴스들과 상이하며,
    상기 제 1 케이블의 상기 제 1 부분의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치들이, 상기 제 1 케이블의 상기 제 2 부분의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치들과 상이한, 플라즈마 프로세싱 시스템.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 필터는 적어도 제 2 코어 부재를 더 포함하고,
    상기 제 1 세트의 인덕터들을 형성하도록 상기 제 1 케이블의 제 1 부분은 상기 제 1 코어 부재의 적어도 상기 제 1 부분 주위에 상기 제 1 부분을 따라 감겨지고,
    제 2 세트의 인덕턴스들을 갖는 제 2 세트의 인덕터들을 형성하도록 상기 제 1 케이블의 제 2 부분은 상기 제 2 코어 부재의 적어도 일 부분 주위에 상기 일 부분을 따라 감겨지고, 상기 제 2 세트의 인덕턴스들은 상기 제 1 세트의 인덕턴스들과 상이하며,
    상기 제 1 케이블의 상기 제 1 부분의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치들이, 상기 제 1 케이블의 상기 제 2 부분의 이웃하는 케이블 부분들 사이의 피치들과 상이한, 플라즈마 프로세싱 시스템.
  18. 제 11 항에 있어서,
    상기 필터는, 적어도:
    적어도 제 3 캐패시터 및 제 4 캐패시터를 포함하는 제 2 복수의 캐패시터들; 및
    적어도 제 2 세트의 인덕터들을 형성하기 위해 상기 제 1 코어 부재의 적어도 제 2 부분 주위에 상기 제 2 부분을 따라 감긴 제 2 케이블을 더 포함하고,
    상기 제 2 케이블은 적어도 제 2 복수의 와이어들을 포함하고, 상기 제 2 복수의 와이어들은 적어도 제 3 와이어 및 제 4 와이어를 포함하고, 상기 제 3 와이어는 상기 제 4 와이어와 컨택하고, 상기 제 3 와이어 및 상기 제 4 와이어는 함께 꼬여있고, 상기 제 3 와이어의 제 1 말단은 상기 제 1 캐패시터에 접속되고 또한 상기 제 1 와이어의 상기 제 2 말단에 접속되고, 상기 제 3 와이어의 제 2 말단은 상기 제 3 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 4 와이어의 제 1 말단은 상기 제 2 캐패시터에 접속되고 또한 상기 제 2 와이어의 상기 제 2 말단에 접속되고, 상기 제 4 와이어의 제 2 말단은 상기 제 4 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 1 와이어는 적어도 상기 제 3 와이어를 통해 상기 전력 공급기에 접속되며, 상기 제 2 와이어는 적어도 상기 제 4 와이어를 통해 상기 전력 공급기에 접속되는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 필터는 적어도:
    제 2 코어 부재;
    적어도 제 5 캐패시터 및 제 6 캐패시터를 포함하는 제 3 복수의 캐패시터들; 및
    적어도 제 3 세트의 인덕터들을 형성하기 위해 상기 제 2 코어 부재의 적어도 일 부분 주위에 상기 일 부분을 따라 감긴 제 3 케이블을 더 포함하고,
    상기 제 3 케이블은 적어도 제 3 복수의 와이어들을 포함하고, 상기 제 3 복수의 와이어들을 적어도 제 5 와이어 및 제 6 와이어를 포함하고, 상기 제 5 와이어는 상기 제 6 와이어와 컨택하고, 상기 제 5 와이어 및 상기 제 6 와이어는 함께 꼬여있고, 상기 제 5 와이어의 제 1 말단은 상기 제 3 캐패시터에 접속되고 또한 상기 제 3 와이어의 상기 제 2 말단에 접속되고, 상기 제 5 와이어의 제 2 말단은 상기 제 5 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 6 와이어의 제 1 말단은 상기 제 4 캐패시터에 접속되고 또한 상기 제 4 와이어의 상기 제 2 말단에 접속되고, 상기 제 6 와이어의 제 2 말단은 상기 제 6 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 1 와이어는 적어도 상기 제 3 와이어 및 상기 제 5 와이어를 통해 상기 전력 공급기에 접속되며, 상기 제 2 와이어는 적어도 상기 제 4 와이어 및 상기 제 6 와이어를 통해 상기 전력 공급기에 접속되는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
  20. 제 11 항에 있어서,
    상기 필터는 적어도:
    제 2 코어 부재;
    적어도 제 3 캐패시터 및 제 4 캐패시터를 포함하는 제 2 복수의 캐패시터들; 및
    적어도 제 2 세트의 인덕터들을 형성하기 위해 상기 제 2 코어 부재의 적어도 일 부분 주위에 상기 일 부분을 따라 감긴 제 2 케이블을 더 포함하고,
    상기 제 2 케이블은 적어도 제 2 복수의 와이어들을 포함하고, 상기 제 2 복수의 와이어들을 적어도 제 3 와이어 및 제 4 와이어를 포함하고, 상기 제 3 와이어는 상기 제 4 와이어와 컨택하고, 상기 제 3 와이어 및 상기 제 4 와이어는 함께 꼬여 있고, 상기 제 3 와이어의 제 1 말단은 상기 제 1 캐패시터에 접속되고 또한 상기 제 1 와이어의 상기 제 2 말단에 접속되고, 상기 제 3 와이어의 제 2 말단은 상기 제 3 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 4 와이어의 제 1 말단은 상기 제 2 캐패시터에 접속되고 또한 상기 제 2 와이어의 상기 제 2 말단에 접속되고, 상기 제 4 와이어의 제 2 말단은 상기 제 4 캐패시터에 접속되고 또한 상기 전력 공급기에 접속되고, 상기 제 1 와이어는 적어도 상기 제 3 와이어를 통해 상기 전력 공급기에 접속되며, 상기 제 2 와이어는 적어도 상기 제 4 와이어를 통해 상기 전력 공급기에 접속되는, 플라즈마 프로세싱 시스템.
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