JP2013543252A - 高周波（ｒｆ）パワーフィルタ及びｒｆパワーフィルタを備えるプラズマ処理システム - Google Patents

Abstract

【解決手段】プラズマ処理システム内において、静電チャック（ＥＳＣ）から伝達される高周波（ＲＦ）電力のフィルタリングを行なうフィルタを開示する。プラズマ処理システムは、ＥＳＣに配置される発熱体を備えるものでもよい。プラズマ処理システムは、さらに、電源を備えるものでもよい。フィルタは、コア部材と、コア部材の周囲にこれに沿って巻きつけられて一組のインダクタを形成するケーブルと、を備えるものでもよい。ケーブルは、第１のワイヤと第２のワイヤとを含む複数のワイヤを備え、第１のワイヤの一部と第２のワイヤの一部とがより合わされて、第１のワイヤの第１の端部と第２のワイヤの第１の端部とが発熱体に接続される一方で、第１のワイヤの第２の端部と第２のワイヤの第２の端部が各々コンデンサに接続されると共に電源に接続されるものでもよい。
【選択図】 図２

Description

本発明は、高周波（ＲＦ）パワーフィルタに関する。特に、本発明は、プラズマ処理システムで用いられるＲＦパワーフィルタに関する。

容量結合プラズマ（ＣＣＰ）システム、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）システム及びトランス結合プラズマ（ＴＣＰ）システム等のプラズマ処理システムが、ウエハ上にデバイスを製造するために、さまざまな分野で用いられている。この分野としては、たとえば、半導体、磁気的な読み書き及び記憶、光学システム及び微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）分野が挙げられる。

プラズマ処理システムは、プラズマ処理チャンバにおいてプラズマを発生させ、保持することにより、ウエハ上にエッチング及び／又は蒸着を行ない、ウエハ上にデバイス・フィーチャを形成することができる。プラズマ処理システムは、１つまたは複数のプラズマ処理工程の際にウエハを支持する静電チャック（ＥＳＣ）を備えるものでもよい。ゾーン間温度調節機能を備えるＥＳＣは、感温性のプラズマ処理工程に不可欠である。ＥＳＣから伝達されるＲＦ電力やプラズマ処理チャンバから漏出するＲＦ電力により引き起こされる電磁適合性（ＥＭＣ）の不具合、干渉の問題及び電力損失の問題を最小限に抑えるために、ＲＦパワーフィルタをプラズマ処理システムに備えるようにしてもよい。

図１Ａに、プラズマ処理システム１００の構成要素の概略図を示す。プラズマ処理システム１００は、（この図に示してはいないが、当技術分野で周知の）ウエハのプラズマ処理の際に、ウエハを支持することが可能なＥＳＣ１０８を備えるものでもよい。さらに、ＥＳＣ１０８を下部電極として機能させることができ、ＲＦ給電部１２０を介して供給されるＲＦ電力を受け取り、ＥＳＣ１０８と（この図に示してはいないが、当技術分野で周知の）上部電極との間にプラズマを発生、及び／又は、保持することにより、プラズマ処理を行なうことができる。

ＥＳＣ１０８は、２つのゾーン温度制御が可能な可変ＥＳＣ（ＴＥＳＣ）でもよい。ＥＳＣ１０８の温度調節機能は、ＥＳＣ１０８の上部のセラミックパック下に２つの（この図に示してはいないが、当技術分野で周知の）電気発熱体を埋め込むことにより可能になる。ここで、２つのゾーンの各々に１つの電気発熱体が設けられる。

ＡＣコネクタ１３８、ＲＦパワーフィルタ１０２、ケーブル１０４及び端子１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ及び１１０ｄを介して、（この図に示してはいないが、当技術分野で周知の）ＡＣ電源によって供給される交流（ＡＣ）で２つの電気発熱体が駆動されるようにしてもよい。端子１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ及び１１０ｄのうち２つを、２つの電気発熱体の中の第１の電気発熱体に連結して、第１の電気発熱体に電力を供給すると共に、端子１１０ａ、１１０ｂ、１１０ｃ及び１１０ｄのうち他の２つを、２つの電気発熱体の中の第２の電気発熱体に連結して、第２の電気発熱体に電力を供給するようにしてもよい。各電気発熱体の温度を、ゼロ交差法でバングバング制御するようにしてもよい。

ＲＦパワーフィルタ１０２は、ＡＣ電力を伝達して、電気発熱体に電力を供給することができる。ＲＦパワーフィルタ１０２は、また、ＥＳＣ１０８からプラズマ処理チャンバ本体１０６の外側の他の構成要素に伝達されるＲＦ電力を最小にする又は遮断することにより、上述したＥＭＣの不具合の問題、干渉の問題及び電力損失の問題を最小限に抑えることができる。

しかし、既存のＲＦパワーフィルタの設計では、図１Ｂの例を参照して以下に説明するように、プラズマ処理システムにおける処理の均一性及び性能の一貫性に関する問題が生じる場合がある。

図１Ｂに、図１Ａの例に示すプラズマ処理システム１００のようなプラズマ処理システムで用いられる従来技術の一例であるＲＦパワーフィルタ１０２の概略図を示す。図１Ｂの例に示すように、ＲＦパワーフィルタ１０２は、筺体１５０を備えるものでもよい。ＲＦパワーフィルタ１０２は、また、筺体１５０内部に配置されるコア部材１５８を備えるものでもよい。ＲＦパワーフィルタ１０２は、さらに、コア部材１５８の一部の周囲にこれに沿って別々に巻きつけられるワイヤ１６６ａ、１６６ｂ、１６６ｃ及び１６６ｄにより形成される（４つのインダクタを含む）一組のインダクタ１５６を備えるものでもよい。ワイヤ１６６ａ〜１６６ｄは、（図１Ａの例に図示される）ケーブル１０４を介して、（図１Ａの例に図示される）端子１１０ａ〜１１０ｄに接続されて、電気ヒータにＡＣ電力を供給するものでもよい。（ワイヤ１６６ａ、ワイヤ１６６ｂ、ワイヤ１６６ｃ及びワイヤ１６６ｄにより各々形成される）一組のインダクタ１５６を、（４つのコンデンサを含む）一組の接地コンデンサ１５４に接続して同調回路（又は共振回路）を形成し、たとえば（図１Ａの例に図示される）ケーブル１０４とワイヤ１６６ａ〜１６６ｄとを介して、（図１Ａの例に図示される）ＥＳＣ１０８から伝達されるＲＦ電力を６０ＭＨｚの動作周波数で除去又は遮断するようにしてもよい。

ワイヤ１６６ａとワイヤ１６６ｂとワイヤ１６６ｃとワイヤ１６６ｄとがかなり距離的に離れている場合には、ワイヤ１６６ａと筺体１５０の壁部との間に形成される浮遊容量、ワイヤ１６６ｂと筺体１５０の壁部との間に形成される浮遊容量、ワイヤ１６６ｃと筺体１５０の壁部との間に形成される浮遊容量及びワイヤ１６６ｄと筺体１５０の壁部との間に形成される浮遊容量にかなりの差が生じる。たとえば、ワイヤ１６６ａの一部と筺体１５０の側壁との間に形成される浮遊容量が、ワイヤ１６６ｂの対応する一部と筺体１５０の同じ側壁との間に形成される浮遊容量と大きく異なる場合がある。このため、（図１Ａの例に図示される）ＥＳＣ１０８において、（ワイヤ１６６ａに接続される）端子１１０ａのインピーダンスレベルと、（ワイヤ１６６ｂに接続される）端子１１０ｂのインピーダンスレベルと、（ワイヤ１６６ｃに接続される）端子１１０ｃのインピーダンスレベルと、（ワイヤ１６６ｄに接続される）端子１１０ｄのインピーダンスレベルとが互いに大きく異なることになる。その結果として、ＥＳＣ１０８上に配置されるウエハ表面におけるプラズマ処理速度（たとえば、エッチング速度）が実質的に不均一になる、又は、実質的に整合しない。これにより、製造歩留まりが低下する。

通常、汚染を最小限に抑えるために、ワイヤ１６６ａ〜１６６ｄは、ポリテトラフルオロエチレン（polytetrafluoroethylene：ＰＴＦＥ）ワイヤ又はＰＴＦＥで被覆されたワイヤであり、コア部材１５８もＰＴＦＥで被覆される。ＰＴＦＥは、通常、摩擦係数が小さいため、ワイヤ１６６ａ〜１６６ｄは、コア部材１５８に対して所定位置から離れる傾向にある。結果として、上述した浮遊容量が実質的に変化して、システム仕様や処理方法が変わらなくても、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間、及び／又は、プラズマ処理チャンバ間でプラズマ処理プロファイル（たとえば、エッチングプロファイル）に実質的な差が生じる。この結果、プラズマ処理の一貫性を許容可能なレベルにするために、熟練した作業者による費用と時間がかかる校正処理が必要となる。

さらに、一組の接地コンデンサ１５４に含まれるコンデンサの公差（又は所定値からの許容可能な偏差）により、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間、及び／又は、プラズマ処理チャンバ間でプラズマ処理プロファイル（たとえば、エッチングプロファイル）に実質的な変動が生じる（又は実質的な差が生じる）。

ＲＦパワーフィルタ１０２が、さらに、コア部材１５８の一部の周囲にこれに沿って別々に巻きつけられるワイヤ１６２ａ、１６２ｂ、１６２ｃ及び１６２ｄにより形成される（４つのインダクタを含む）一組のインダクタ１５２を備えるようにしてもよい。ワイヤ１６２ａ〜１６２ｄは、ワイヤ１６６ａ〜１６６ｄ及び（図１Ａの例に図示される）ケーブル１０４を介して、（図１Ａの例に図示される）端子１１０ａ〜１１０ｄに接続されて、電気ヒータにＡＣ電力を供給するものでもよい。（ワイヤ１６２ａ、ワイヤ１６２ｂ、ワイヤ１６２ｃ及びワイヤ１６２ｄにより各々形成される）一組のインダクタ１５２を、（４つのコンデンサを含む）一組の接地コンデンサ１５７に接続して同調回路を形成し、（図１Ａの例に図示される）ＥＳＣ１０８から伝達されるＲＦ電力を２７ＭＨｚの動作周波数で除去又は遮断するようにしてもよい。

ＲＦパワーフィルタ１０２が、さらに、筺体１５０内部に配置される別のコア部材１７８を備えるものでもよい。ＲＦパワーフィルタ１０２が、さらに、コア部材１７８の一部の周囲にこれに沿って別々に巻きつけられるワイヤ１８２ａ、１８２ｂ、１８２ｃ及び１８２ｄにより形成される（４つのインダクタを含む）一組のインダクタ１７２を備えるようにしてもよい。ワイヤ１８２ａ〜１８２ｄは、一組のワイヤ１８０と（図１Ａの例に図示される）ＡＣコネクタ１３８とを介して、ＡＣ電源に接続されるものでもよい。ワイヤ１８２ａ〜１８２ｄは、ワイヤ１６２ａ〜１６２ｄ、ワイヤ１６６ａ〜１６６ｄ及び（図１Ａの例に図示される）ケーブル１０４を介して、（図１Ａの例に図示される）端子１１０ａ〜１１０ｄに接続されて、電気ヒータにＡＣ電力を供給するものでもよい。（ワイヤ１８２ａ、ワイヤ１８２ｂ、ワイヤ１８２ｃ及びワイヤ１８２ｄにより各々形成される）一組のインダクタ１７２を、（４つのコンデンサを含む）一組の接地コンデンサ１７６に接続して同調回路を形成し、（図１Ａの例に図示される）ＥＳＣ１０８から伝達されるＲＦ電力を２ＭＨｚの動作周波数で除去又は遮断するようにしてもよい。

ワイヤ１６６ａ〜１６６ｄ間の距離（又は空間）がかなり離れていることと同様に、ワイヤ１６２ａ〜１６２ｄ間の距離（又は空間）がかなり離れていること及びワイヤ１８２ａ〜１８２ｄ間の距離（又は空間）がかなり離れていることも、ウエハ上のプラズマ処理速度が実質的に不均一になり、製造歩留りが実質的に低下する原因となる。

ワイヤ１６６ａ〜１６６ｄの動き（及び再位置決め）と同様に、ワイヤ１６２ａ〜１６２ｄの動き（及び再位置決め）及びワイヤ１８２ａ〜１８２ｄの動き（及び再位置決め）も、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間、及び／又は、プラズマ処理チャンバ間でプラズマ処理プロファイル（たとえば、エッチングプロファイル）に実質的な変動が生じる、又は、実質的な差が生じる原因となる。

さらに、一組の接地コンデンサ１５４に含まれるコンデンサの公差と同様に、一組の接地コンデンサ１７４に含まれるコンデンサの公差及び一組の接地コンデンサ１７６に含まれるコンデンサの公差も、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間、及び／又は、プラズマ処理チャンバ間でプラズマ処理プロファイルに実質的な変動が生じる（又は実質的な差が生じる）原因となる。

本発明の実施形態は、プラズマ処理システムにおいて少なくとも静電チャック（ＥＳＣ）から伝達される高周波（ＲＦ）電力をフィルタリングするフィルタに関する。プラズマ処理システムは、ＥＳＣの一部に配置される発熱体を少なくとも備えるものでもよい。プラズマ処理システムは、さらに、少なくとも電源を備えるものでもよい。フィルタは、コア部材を備えるものでもよい。フィルタは、また、複数のコンデンサであって、少なくとも第１のコンデンサと第２のコンデンサとを含む複数のコンデンサを備えるものでもよい。フィルタは、さらに、コア部材の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけられて、一組のインダクタンスを有する少なくとも一組のインダクタを形成するケーブルを備えるものでもよい。ケーブルは、少なくとも複数のワイヤを含むものでもよい。複数のワイヤが少なくとも第１のワイヤと第２のワイヤとを含み、第１のワイヤが第２のワイヤに接触して、第１のワイヤの少なくとも一部と第２のワイヤの少なくとも一部とがより合わされるものでもよい。第１のワイヤの第１の端部が発熱体に接続される一方で、第１のワイヤの第２の端部が第１のコンデンサに接続されると共に電源に接続されるものでもよい。また、第２のワイヤの第１の端部が発熱体に接続される一方で、第２のワイヤの第２の端部が第２のコンデンサに接続されると共に電源に接続されるものでもよい。

以上の記載は、本明細書で開示する本発明の様々な実施形態の１つに関するものに過ぎず、何ら、特許請求の範囲に記載する本発明の範囲を限定するものではない。本発明の上記及び他の特徴を、以下の図面と共に、以下の本発明の詳細な説明で詳述する。

本発明を添付の図面に図示するが、これらは例示に過ぎず、何ら本発明を限定するものではない。これらの図において、同様の参照番号は同様の部材を示す。

プラズマ処理システムの構成要素を図示する概略図。

図１Ａの例に示すプラズマ処理システムのようなプラズマ処理システムで用いられる従来技術のＲＦパワーフィルタの例を図示する概略図。

本発明の１つ又は複数の実施形態において、図１Ａの例に示すプラズマ処理システムのようなプラズマ処理システムで用いられるＲＦパワーフィルタを示す概略図。

本発明の１つ又は複数の実施形態において、図１Ａの例に示すプラズマ処理システムのようなプラズマ処理システムで用いられるＲＦパワーフィルタを示す概略図。

本発明の１つ又は複数の実施形態において、図１Ａの例に示すプラズマ処理システムのようなプラズマ処理システムで用いられるＲＦパワーフィルタを示す概略図。

以下、添付の図面に図示されている実施形態を参照して、本発明を詳細に説明する。本発明を完全に理解するために、数多くの具体的詳細を以下で説明している。しかし、当業者には自明のことであるが、本発明は、これら具体的詳細の一部又は全部を省略しても実現可能である。また、本発明を不必要に曖昧にしないように、周知の処理工程及び／又は構造に関する詳細な説明は省略した。

方法及び手法等、さまざまな実施形態を以下に説明する。本発明の手法の実施形態を実施するコンピュータ読み取り可能な命令が格納されるコンピュータ読み取り可能な媒体を含む製品も、本発明の対象とするものでもよいことに留意されたい。コンピュータ読み取り可能な媒体は、たとえば、コンピュータ読み取り可能なコードを格納する、半導体、磁気、光磁気、光学又はその他の形態のコンピュータ読み取り可能な媒体を含むものでもよい。さらに、本発明の実施形態を実施する装置も、本発明の対象とするものでもよい。このような装置は、本発明の実施形態に関するタスクを実行する専用回路及び／又はプログラム可能な回路を含むものでもよい。このような装置の例としては、適切にプログラミングされた汎用コンピュータ及び／又は専用コンピュータ・デバイスが挙げられるが、コンピュータまたは演算デバイスと、本発明の実施形態に関するさまざまなタスクに適した専用回路またはプログラム可能な回路と、の組み合わせでもよい。

本発明の１つ又は複数の実施形態は、プラズマ処理システムにおいて少なくとも静電チャック（ＥＳＣ）から伝達される高周波（ＲＦ）電力のフィルタリングを行なうフィルタに関する。プラズマ処理システムは、ＥＳＣの第１の部分に配置される第１の発熱体と、ＥＳＣの第２の部分に配置される第２の発熱体とを含むものでもよい。プラズマ処理システムは、さらに、発熱体に電力を供給する交流（ＡＣ）電源等の電源を含むものでもよい。フィルタは、ＲＦ電力の１つの方向への伝達をフィルタリング又は遮蔽する（ことによって、ＥＭＣの不具合の問題、干渉の問題及び／又は電力損失の問題を最小限に抑える）と共に、ＡＣ電力（５０Ｈｚ又は６０Ｈｚ）の別の方向への発熱体に対する伝達を許容するものでもよい。

フィルタは、フィルタの一部の構成要素の構造支持体として機能するコア部材を備えるものでもよい。コア部材は、フィルタの筺体内部に固定されるものでもよい。

フィルタは、コア部材の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけられて、一組のインダクタンスを備える少なくとも一組のインダクタを形成するケーブルを備えるものでもよい。ケーブルは、第１のワイヤ、第２のワイヤ、第３のワイヤ及び第４のワイヤを含む複数のワイヤを備えるものでもよい。第１のワイヤと第２のワイヤとが、第１の発熱体に接続され、ＡＣ電力を伝達して第１の発熱体に電力を供給するものでもよい。第３のワイヤと第４のワイヤとが、第２の発熱体に接続され、ＡＣ電力を伝達して第２の発熱体に電力を供給するものでもよい。

フィルタは、さらに、複数のコンデンサを備えるものでもよい。第１のワイヤ、第２のワイヤ、第３のワイヤ及び第４のワイヤが、さらに、一組のコンデンサの中の４つのコンデンサに接続されて、同調回路（又は共振回路）を形成し、ＥＳＣから伝達されたＲＦ電力を１つ又は複数の動作周波数（たとえば、６０ＭＨｚ、２７ＭＨｚ及び／又は２ＭＨｚ）で除去するようにしてもよい。

第１のワイヤ、第２のワイヤ、第３のワイヤ及び第４のワイヤをより合わせて（互いに接触させて）ワイヤ間の距離（又は空間）を最小にするようにしてもよい。この結果、第１のワイヤに関する浮遊容量と、第２のワイヤに関する浮遊容量と、第３のワイヤに関する浮遊容量と、第４のワイヤに関する浮遊容量との差を最小限に抑えることができ、ＥＳＣで測定される各ワイヤに関するインピーダンスが実質的に等しくなる。これにより、プラズマ処理システム内で処理される各ウエハにおけるプラズマ処理速度（たとえば、エッチング速度）が実質的に均一になり、製造歩留まりを最大にする効果がある。

１つ又は複数の実施形態において、ケーブルの１つ又は複数部分の位置決め及び／又は固定を行なう１つ又は複数の位置決め（及び固定）機構をコア部材に備えるものでもよい。たとえば、フィルタが、らせん溝構造等の溝構造を備え、溝構造内部に１つ又は複数の部分が配置されて、所定の位置に実質的に保持されるようにしてもよい。これにより、各ワイヤに関する浮遊容量が実質的に一定に保たれ、システム仕様が同じで、処理方法が同じであれば、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間、及び／又は、プラズマ処理チャンバ間でほとんど差がないプラズマ処理プロファイルを可能にする、という効果がある。

１つ又は複数の実施形態において、ケーブルの第１の部分をコア部材の第１の部分の周囲にこれに沿って巻きつけて、第１のサブセットのインダクタンスを備える第１のサブセットのインダクタを形成すると共に、ケーブルの第２の部分をコア部材の第２の部分の周囲にこれに沿って巻きつけて、（第１のサブセットのインダクタンスと異なる）第２のサブセットのインダクタンスを備える第２のサブセットのインダクタを形成するようにしてもよい。複数のコンデンサの中のコンデンサと第１のサブセットのインダクタとで、同調回路（共振回路）を形成し、ＥＳＣから伝達されたＲＦ電力を第１の動作周波数（たとえば、６０ＭＨｚ）で除去するようにしてもよい。複数のコンデンサの中の同じコンデンサと第２のサブセットのインダクタとで、他の同調回路を形成し、ＥＳＣから伝達されたＲＦ電力を第２の動作周波数（たとえば、２７ＭＨｚ）で除去するようにしてもよい。上述した例の従来技術のフィルタ１０２では、２つの異なる周波数でＲＦ電力を除去するために二組のコンデンサが必要であるのに対して、本発明の１つ又は複数の実施形態におけるフィルタでは、ただ一組のコンデンサしか必要としない。この結果、プラズマ処理におけるキャパシタ公差の影響を実質的に減らすことができる。これにより、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間及び／又はプラズマ処理チャンバ間におけるプラズマ処理プロファイルの一貫性をさらに向上させる効果がある。

本発明の１つ又は複数の実施形態は、上述した１つまたは複数の特徴を有するフィルタを備えるプラズマ処理システムに関する。プラズマ処理システムは、上述した１つ又は複数の効果を備えるものでもよい。

以下に示す図面及び記載を参照することにより、本発明の特徴及び効果をさらに理解することができるであろう。

図２に、本発明の１つ又は複数の実施形態において、図１Ａの例に示すプラズマ処理システム１００のようなプラズマ処理システムで用いられるＲＦパワーフィルタ２００（フィルタ２００）の概略図を示す。フィルタ２００は、フィルタ２００の少なくとも一部の構成要素を収容する筺体２５０を備えるものでもよい。フィルタ２００は、また、筺体２５０内部に配置され、筺体２５０にしっかりと連結されて、インダクタとコンデンサの構造支持体として機能するコア部材２０８を備えるものでもよい。フィルタ２００は、また、少なくともコンデンサ２１４ａ、コンデンサ２１４ｂ、コンデンサ２１４ｃ及びコンデンサ２１４ｄを含む複数の接地コンデンサ２１４を備え、少なくともインピーダンスを調整して、（図１Ａの例に図示される）ＥＳＣ１０８からのＲＦ電力損失を削減し、エッチング速度等のプラズマ処理速度を向上させるようにしてもよい。フィルタ２００は、さらに、コア部材２０８の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけられるケーブル２１６を備え、一組のインダクタンスを備える一組のインダクタ２０６を形成するようにしてもよい。一組のインダクタ２０６の中のインダクタと複数の接地コンデンサ２１４の中のコンデンサとにより、同調回路（又は共振回路）を形成して、ＥＳＣ１０８から伝達されるＲＦ電力を所定の動作周波数（たとえば、６０ＭＨｚ）で除去又は遮断するようにしてもよい。

ケーブル２１６は、固体両面被覆マグネット銅ワイヤのような被覆マグネットワイヤ等の複数のワイヤを備えるものでもよい。

複数のワイヤは、ワイヤ２１６ａ及びワイヤ２１６ｂを含むものでもよい。ワイヤ２１６ａの第１の端部を（図１Ａの例に図示される）ケーブル１０４及び端子１１０ａを介してＥＳＣ１０８に配置される第１の電気発熱体に接続する一方で、ワイヤ２１６ａの第２の端部をコンデンサ２１４ａに接続して第１の共振回路を形成すると共に、他のワイヤを介して電源（たとえば、ＡＣ電源）に接続して第１の電気発熱体に電力を供給するようにしてもよい。また、ワイヤ２１６ｂの第１の端部を（図１Ａの例に図示される）ケーブル１０４及び端子１１０ｂを介して第１の電気発熱体に接続する一方で、ワイヤ２１６ｂの第２の端部をコンデンサ２１４ｂに接続して第２の共振回路を形成すると共に、他のワイヤを介して電源に接続して第１の電気発熱体に電力を供給するようにしてもよい。

複数のワイヤは、さらに、ワイヤ２１６ｃ及びワイヤ２１６ｄを含むものでもよい。ワイヤ２１６ｃの第１の端部を（図１Ａの例に図示される）端子１１０ｃを介してＥＳＣ１０８に配置される第２の電気発熱体に接続する一方で、ワイヤ２１６ｃの第２の端部をコンデンサ２１４ｃに接続して第３の共振回路を形成すると共に、他のワイヤを介して電源に接続して第３の電気発熱体に電力を供給するようにしてもよい。また、ワイヤ２１６ｄの第１の端部を（図１Ａの例に図示される）端子１１０ｄを介して第２の電気発熱体に接続する一方で、ワイヤ２１６ｄの第２の端部をコンデンサ２１４ｄに接続して共振回路を形成すると共に、他のワイヤを介して電源に接続して第２の電気発熱体に電力を供給するようにしてもよい。

ワイヤ２１６ａ〜２１６ｄ及びコンデンサ２１４ａ〜２１４ｄにより形成される共振回路が、ＥＳＣ１０８から漏出又は伝達されるＲＦ電力を所定の動作周波数（たとえば、６０ＭＨｚ）で除去するものでもよい。

１つ又は複数の実施形態において、ワイヤ２１６ａの少なくとも一部とワイヤ２１６ｂの少なくとも一部をより合わせて、ワイヤ２１６ａの一部とワイヤ２１６ｂの一部との間の距離（又は空間）を最小にすることにより、距離（又は空間）に伴う影響を最小限に抑えるようにしてもよい。この結果、ワイヤ２１６ａに関する浮遊容量とワイヤ２１６ｂに関する浮遊容量との間の差を最小にすることができ、（図１Ａの例に図示される）ＥＳＣにおいて、ワイヤ２１６ａに関するインピーダンスとワイヤ２１６ｂに関するインピーダンスとが実質的に等しくなる。１つ又は複数の実施形態において、ワイヤ２１６ｃの少なくとも一部とワイヤ２１６ｄの少なくとも一部をより合わせて、ワイヤ２１６ｃの一部とワイヤ２１６ｄの一部との間の距離を最小にするようにしてもよい。

１つ又は複数の実施形態において、ワイヤ２１６ａの少なくとも一部とワイヤ２１６ｃの少なくとも一部をより合わせて、ワイヤ２１６ａの一部とワイヤ２１６ｃの一部との間の距離を最小にすることにより、距離に伴う影響を最小限に抑えるようにしてもよい。この結果、ワイヤ２１６ａに関する浮遊容量とワイヤ２１６ｃに関する浮遊容量との間の差を最小にすることができ、ＥＳＣ１０８において、ワイヤ２１６ａに関するインピーダンスとワイヤ２１６ｃに関するインピーダンスとが実質的に等しくなる。１つ又は複数の実施形態において、ワイヤ２１６ｂの少なくとも一部とワイヤ２１６ｄの少なくとも一部をより合わせて、ワイヤ２１６ｂの一部とワイヤ２１６ｄの一部との間の距離を最小にするようにしてもよい。

１つ又は複数の実施形態において、ワイヤ２１６ａの少なくとも一部と、ワイヤ２１６ｂの少なくとも一部と、ワイヤ２１６ｃの少なくとも一部と、ワイヤ２１６ｄの少なくとも一部とをより合わせて、ワイヤ２１６ａの一部とワイヤ２１６ｂの一部とワイヤ２１６ｃの一部とワイヤ２１６ｄの一部との間の距離を最小にする（又は距離の影響を最小限に抑える）ようにしてもよい。この結果、各ワイヤに関する浮遊容量間の差を最小限に抑えることができ、ＥＳＣ１０８における各ワイヤに関するインピーダンスが実質的に等しくなる。これにより、プラズマ処理システム内で処理される各ウエハにおけるプラズマ処理速度（たとえば、エッチング速度）が実質的に均一になり、製造歩留まりを最大にする効果がある。

１つ又は複数の実施形態において、ケーブル２１６は、６本以上のワイヤをより合わせて形成され、ＥＳＣ１０８に配置される３つ以上の電気ヒータを支持するものでもよい。

コア部材２０８は、ケーブル２１６の少なくとも一部の位置決めを行なう、及び／又は、仕様に応じて適当な位置にケーブル２１６の一部を固定するための位置決め機構を備えるものでもよい。たとえば、コア部材２０８が、溝構造２５２（たとえば、らせん溝構造）を備え、ケーブル２１６の少なくとも一部（たとえば、らせん形のインダクタ部）の位置決め及び／又は固定を行なうようにしてもよい。ケーブル２１６の少なくとも一部を溝構造２５２の内部に配置するようにしてもよい。コア部材２０８を筺体２５０にしっかりと連結することにより、筺体２５０の壁部に対するケーブル２１６の一部の動きを抑制又は最小限に抑えることができる。したがって、ケーブル２１６における各ワイヤ及び筺体２５０の壁部に関する浮遊容量を実質的に一定にすることができる。本発明の実施形態は、従来技術で必要とされたような技術集約的で時間のかかる校正処理を必要とすることなく、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間、及び／又は、プラズマ処理チャンバ間でほとんど差がないプラズマ処理プロファイル（たとえば、エッチング・プロファイル）を可能にする、という効果がある。

（図１Ａの例に図示される）ＥＳＣ１０８から伝達されるＲＦ電力を第２の動作周波数（たとえば、２７ＭＨｚ）で除去又は遮断するために、フィルタ２００が、さらに、第２の複数の接地コンデンサ２２４を備えるようにしてもよい。接地コンデンサ２２４も、少なくともインピーダンスを調整して、ＥＳＣ１０８からのＲＦ電力損失を削減し、プラズマ処理速度を向上させる。フィルタ２００が、また、コア部材２０８の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけられるケーブル２１２を備え、第２の組のインダクタンスを有する第２の組のインダクタ２０２を形成するようにしてもよい。第２の組のインダクタ２０２の中のインダクタと第２の複数のコンデンサ２２４の中のコンデンサとにより、同調回路（又は共振回路）を形成し、ＥＳＣ１０８から伝達されるＲＦ電力を第２の動作周波数（たとえば、２７ＭＨｚ）で除去又は遮断するようにしてもよい。

ケーブル２１２も、複数のワイヤ、たとえば、ワイヤ２１２ａ、ワイヤ２１２ｂ、ワイヤ２１２ｃ及びワイヤ２１２ｄを備えるものでもよい。ワイヤ２１２ａの第１の端部がコンデンサ２１４ａに接続されると共に、ワイヤ２１６ａの第２の端部に接続される一方で、ワイヤ２１２ａの第２の端部が第２の複数のコンデンサ２２４の中の１つのコンデンサに接続されると共に、電源に接続されるようにしてもよい。したがって、ワイヤ２１６ａと同様に、インダクタとしての機能に加えて、ワイヤ２１２ａは、電源と第１の電気発熱体との間の接続の一部分として機能するものでもよく、少なくともワイヤ２１２ａを介してワイヤ２１６ａが電源に接続されるものでもよい。また、ワイヤ２１２ｂの第１の端部がコンデンサ２１４ｂに接続されると共に、ワイヤ２１６ｂの第２の端部に接続される一方で、ワイヤ２１２ｂの第２の端部が第２の複数のコンデンサ２２４の中の別のコンデンサに接続されると共に、電源に接続されるようにしてもよい。したがって、ワイヤ２１６ｂと同様に、インダクタとしての機能に加えて、ワイヤ２１２ｂは、電源と第１の電気発熱体との間の接続の一部分として機能するものでもよく、少なくともワイヤ２１２ｂを介してワイヤ２１６ａが電源に接続されるものでもよい。同様に、インダクタとしての機能に加えて、ワイヤ２１２ｃ及びワイヤ２１２ｄは、電源と第２の電気発熱体との間の接続の一部分として機能するものでもよい。

上述したワイヤ２１６ａ〜２１６ｄの構成と同様に、２つ以上のワイヤ２１２ａ〜２１２ｄの少なくとも一部をより合わせて、プラズマ処理システム内で処理されるウエハのプラズマ処理速度が実質的に均一になるようにしてもよい。

コア部材２０８が、さらに、ケーブル２１２の少なくとも一部の位置決めを行なう、及び／又は、仕様に応じて適当な位置にケーブル２１２の一部を固定するためのらせん溝構造２５４等の第２の位置決め機構を備えるものでもよい。溝構造２５２と同様に、溝構造２５４は、ケーブル２１２の動きを抑制又は最小限に抑えて、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間及び／又はプラズマ処理チャンバ間におけるプラズマ処理プロファイルの一貫性を維持することができる。

（図１Ａの例に図示される）ＥＳＣ１０８から伝達されるＲＦ電力を第３の動作周波数（たとえば、２ＭＨｚ）で除去又は遮断するために、フィルタ２００が、さらに、少なくともインピーダンスを調整して、ＥＳＣ１０８からのＲＦ電力損失を削減し、プラズマ処理速度を向上させる第３の複数の接地コンデンサ２２６を備えるようにしてもよい。フィルタ２００が、また、第３の組のインダクタンスを有する第３の組のインダクタ２２２を形成するケーブル２３２を備えるものでもよい。第３の組のインダクタ２２２の中のインダクタと第３の複数のコンデンサ２２６の中のコンデンサとにより、同調回路（又は共振回路）を形成し、ＥＳＣ１０８から伝達されるＲＦ電力を第３の動作周波数（たとえば、２ＭＨｚ）で除去又は遮断するようにしてもよい。

ケーブル２１６のワイヤ及びケーブル２１２のワイヤと同様に、インダクタとしての機能に加えて、ケーブル２３２のワイヤは、電源とＥＳＣ１０８に配置される電気ヒータとの間の接続の一部として機能するものでもよい。ケーブル２３２のワイヤは、一組のワイヤ２３０及び（図１Ａの例に図示される）ＡＣコネクタ１２８を介して電源に接続されるものでもよい。

上述したケーブル２１６のワイヤ及びケーブル２１２のワイヤの構成と同様に、ケーブル２３２の中の２つ以上のワイヤの少なくとも一部をより合わせて、プラズマ処理システム内で処理されるウエハのプラズマ処理速度が実質的に均一になるようにしてもよい。

空間及び／又は構造に基づき、ケーブル２３２は、コア部材２０８により支持される代わりに、同様に筺体２５０内部に配置され、筺体２５０にしっかりと連結されるが、コア部材２０８とは異なる配向の別のコア部材２２８により支持されるようにしてもよい。ケーブル２３２の少なくとも一部をコア部材２２８の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけて、第３の組のインダクタ２２２を形成するようにしてもよい。コア部座２０８と同様に、コア部材２２８が、ケーブル２３２の少なくとも一部の位置決めを行なう、及び／又は、仕様に応じて適当な位置にケーブル２３２の一部を固定するためのらせん溝構造２５６等の位置決め機構を備えるものでもよい。溝構造２５２及び溝構造２５４と同様に、溝構造２５６は、ケーブル２３２の動きを抑制又は最小限に抑えて、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間及び／又はプラズマ処理チャンバ間におけるプラズマ処理プロファイルの一貫性を維持することができる。

本発明の１つ又は複数の実施形態は、フィルタ２００と同一又は同様の特徴及び効果を有するＲＦパワーフィルタを備えるプラズマ処理システムに関する。

図３に、本発明の１つ又は複数の実施形態において、図１Ａの例に示すプラズマ処理システム１００のようなプラズマ処理システムで用いられるＲＦパワーフィルタ３００（フィルタ３００）の概略図を示す。

図２の例で図示したフィルタ２００と同様に、フィルタ３００は同調回路（又は共振回路）を備えるものでもよく、同調回路は、接地コンデンサ（たとえば、一組の接地コンデンサ３２４の中のコンデンサ）と筺体３５０内部に固定される１つまたは複数のコア部材（たとえば、コア部材３０８）の周囲にこれに沿って巻きつけられるワイヤ（たとえば、ケーブル３１２に含まれるワイヤ）により形成されるインダクタとの組み合わせであり、異なる周波数においてＲＦ電力を除去することができる。インダクタの形成に加えて、ワイヤは、ＥＳＣ（たとえば、図１Ａの例に図示されるＥＳＣ１０８）に配置される１つまたは複数の電気発熱体を電源に連結して、１つ又は複数の電気発熱体に電力を供給するようにしてもよい。ワイヤの中の２つ以上のワイヤをより合わせて、浮遊容量の変動を最小限に抑え、プラズマ処理システムにおいて処理されるウエハのプラズマ処理速度を実質的に均一にするようにしてもよい。コア部材の中の１つ又は複数が、１つ又は複数の位置決め機構（たとえば、１つ又は複数の溝構造）を備え、ワイヤ（又はワイヤにより形成される１つ又は複数のケーブル）の位置決めを行なって、ワイヤの動きを抑制する又は最小限に抑えるようにしてもよい。したがって、浮遊容量の変動を最小限にすることができる。これにより、技術集約的で時間のかかる校正処理を必要とすることなく、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間、及び／又は、プラズマ処理チャンバ間でほとんど差がないプラズマ処理プロファイルを可能にする、という効果がある。

フィルタ２００が、３本のケーブルに対応して三組のコンデンサを備え、３つの異なる動作周波数においてＲＦ電力を除去するのに対して、フィルタ３００は、２本のケーブルに対応してコンデンサを二組だけ備え、３つの異なる動作周波数においてＲＦ電力を除去することができる。用いるコンデンサを減らすことにより、コンデンサの公差の影響を削減することができる。これにより、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間及び／又はプラズマ処理チャンバ間におけるプラズマ処理プロファイルの一貫性をさらに向上させる効果がある。

必要なコンデンサの数を減らすために、ケーブル３１２を用いて、２つ以上の周波数、たとえば、６０ＭＨｚ及び２７ＭＨｚにおいて、ＲＦ電力を除去するようにしてもよい。１つ又は複数の実施形態において、ケーブル３１２の第１の部分をコア部材３０８の第１の部分の周囲にこれに沿って巻きつけて、第１のサブセットのインダクタンスを備える第１のサブセットのインダクタを形成すると共に、ケーブル３１２の第２の部分を異なる方法でコア部材３０８の第２の部分の周囲にこれに沿って巻きつけて、第１のサブセットのインダクタンスと異なる第２のサブセットのインダクタンスを備える第２のサブセットのインダクタを形成するようにしてもよい。一組の接地コンデンサ３２４と第１のサブセットのインダクタとにより形成される同調回路により、第１の周波数、たとえば、６０ＭＨｚで、ＲＦ電力を遮断すると共に、同じ接地コンデンサ３２４と第２のサブセットのインダクタとにより形成される同調回路により、第２の周波数、たとえば、２７ＭＨｚで、ＲＦ電力を遮断するようにしてもよい。

異なるサブセットのインダクタンスを有する異なるサブセットのインダクタを提供するために、隣接ケーブル部分間のピッチをさまざまに変えるようにケーブル３１２を巻きつけるようにしてもよい。たとえば、ケーブル３１２の第１の部分の隣接ケーブル部分間のピッチがケーブル３１２の第２の部分の隣接ケーブル部分間のピッチと異なるようにケーブル３１２を巻きつけるようにしてもよい。一例として、ケーブル３１２の隣接ケーブル部分３３２及び３３４間のピッチｐを、ケーブル３１２の隣接ケーブル部分３３６及び３３８間のピッチｑと異ならせる（たとえば、ピッチｑより小さくする）ようにしてもよい。これらのピッチの値は、当業者であれば、膨大な実験をすることなく最適化できるであろう。

所定のピッチに応じてケーブル部分を位置決めする、及び／又は、所定のピッチに応じてケーブル部分を適切な位置に固定するために、コア部材３０８が、ケーブル部分間の所定のピッチに応じたさまざまなピッチを有する溝構造等の位置決め機構を備えるようにしてもよい。たとえば、溝構造が、隣接溝部分間のピッチをさまざまに変えた複数の溝部分を有するようにしてもよい。一例として、隣接溝部分３５２及び３５４間のピッチｐを、隣接溝部分３５６及び３５８間のピッチｑと異ならせる（たとえば、ピッチｑより小さくする）ようにしてもよい。これらのピッチの値は、当業者であれば、膨大な実験をすることなく最適化できるであろう。

ケーブル３１２のケーブル部分間のピッチをさまざまに変える（及び、ケーブル部分を保持する溝部分間のピッチをさまざまに変える）ことにより、ただ１本のケーブル（すなわち、ケーブル３１２）とただ一組の接地コンデンサ（すなわち、接地コンデンサ３２４）とだけで、２つの異なる周波数でＲＦ電力を遮断することができる。したがって、用いるコンデンサを減らすことができ、コンデンサの公差の影響を削減することができる。これにより、プラズマ処理の均一性及びプラズマ処理プロファイルの一貫性を実質的に向上させる効果がある。さらに、フィルタ３００の製造も実質的に簡略化できる。

本発明の１つ又は複数の実施形態は、フィルタ３００と同一又は同様の特徴及び効果を有するＲＦパワーフィルタを備えるプラズマ処理システムに関する。

図４に、本発明の１つ又は複数の実施形態において、図１Ａの例に示すプラズマ処理システム１００のようなプラズマ処理システムで用いられるＲＦパワーフィルタ４００（フィルタ４００）の概略図を示す。フィルタ４００は、図２の例を参照して説明したフィルタ２００及び図３の例を参照して説明したフィルタ３００の１つ又は複数の特徴（たとえば、より合わせたワイヤを位置決め機構を備えるコア部材に固定する）及び１つ又は複数の効果を有するものでもよい。ただし、フィルタ２００が三組のコンデンサで同調回路を形成して３つの周波数でＲＦ電力を遮断し、また、フィルタ３００が二組のコンデンサで同調回路を形成して３つの周波数でＲＦ電力を遮断するのに対して、フィルタ４００は、ただ一組のコンデンサで同調回路を形成して３つの周波数でＲＦ電力を遮断することができる。

フィルタ４００の筺体４５０の内部で、ケーブル４１２の第１の部分４１４を第１のコア部材４０８の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけて、第１の組のインダクタンスを有する第１の組のインダクタを形成すると共に、ケーブル４１２の第２の部分４１６を第２のコア部材４２８の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけて、第１の組のインダクタンスと異なる第２の組のインダクタンスを有する第２の組のインダクタを形成する。

図３の例を参照して説明したフィルタ３００の構成と同様に、ケーブル４１２の部分４１４の隣接ケーブル部分間のピッチをさまざまに変えることにより、ケーブル４１２の部分４１４が２つの異なるインダクタンスのサブセットを有する２つのサブセットのインダクタを形成することができる。たとえば、ケーブル４１２の部分４１４の一部の隣接ケーブル部分間のピッチがケーブル４１２の部分４１４の別の一部の隣接ケーブル部分間のピッチと異なるように、ケーブル４１２の部分４１４を巻きつけるようにしてもよい。一例として、隣接ケーブル部分４３２及び４３４間のピッチｒを、隣接ケーブル部分４３６及び４３８間のピッチｓと異ならせる（たとえば、ピッチｓより小さくする）ようにしてもよい。コア部材４０８に設けられる１つ又は複数の位置決め機構（たとえば、図３の例に図示されるらせん溝構造）により、これらのピッチを維持するようにしてもよい。この結果、第１のサブセットのインダクタンスを有する第１のサブセットのインダクタと、（第１のサブセットのインダクタンスと異なる）第２のサブセットのインダクタンスを有する第２のサブセットのインダクタと、を形成することができる。

さらに、ケーブル４１２の部分４１６の隣接ケーブル部分のピッチがケーブル４１２の部分４１４の隣接ケーブル部分のピッチと異なるように、ケーブル４１２の部分４１６を巻きつけるようにしてもよい。たとえば、（ケーブル４１２の部分４１６における）隣接ケーブル部分４４０及び４４２間のピッチｔを、（ケーブル４１２の部分４１４における）隣接ケーブル部分４３２及び４３４間のピッチｒと異ならせる（たとえば、ピッチｒより小さくする）ようにすると共に、（ケーブル４１２の部分４１４における）隣接ケーブル部分４３６及び４３８間のピッチｓと異ならせる（たとえば、ピッチｓより小さくする）ようにしてもよい。コア部材４２８に設けられる１つ又は複数の位置決め機構（たとえば、図２の例に図示されるらせん溝構造）により、これらのピッチを維持するようにしてもよい。この結果、第２の組のインダクタンスを有する第２の組のインダクタ、又は、第１のサブセットのインダクタンスと異なると共に第２のサブセットのインダクタンスと異なる第３のサブセットのインダクタンスを有する第３のサブセットのインダクタを形成することができる。これらのピッチの値は、当業者であれば、膨大な実験をすることなく最適化できるであろう。

一組の接地コンデンサ４２６と第１のサブセットのインダクタとにより形成される同調回路により、第１の周波数、たとえば、６０ＭＨｚで、ＲＦ電力を遮断するようにしてもよい。また、同じ接地コンデンサ４２６と第２のサブセットのインダクタとにより形成される同調回路により、第２の周波数、たとえば、２７ＭＨｚで、ＲＦ電力を遮断するようにしてもよい。さらに、同じ接地コンデンサ４２６と第３のサブセットのインダクタとにより形成される同調回路により、第３の周波数、たとえば、２ＭＨｚで、ＲＦ電力を遮断するようにしてもよい。フィルタ４００では、二組又は三組の接地コンデンサを用いる代わりに、ただ一組の接地コンデンサを用いて、３つの異なる周波数でＲＦ電力を遮断する。したがって、用いるコンデンサをさらに減らすことができ、コンデンサの公差の影響をさらに削減することができる。これにより、ＲＦパワーフィルタの製造をさらに簡略化できると共に、プラズマ処理の均一性及びプラズマ処理プロファイルの一貫性をさらに向上させる効果がある。

１つ又は複数の実施形態において、４つ以上の異なるインダクタンスのサブセットを有する４つ以上のサブセットのインダクタを形成して、４つ以上の異なる周波数でＲＦ電力を除去するように、ケーブル４１２を巻きつけてもよい。

本発明の１つ又は複数の実施形態は、フィルタ４００と同一又は同様の特徴及び効果を有するＲＦパワーフィルタを備えるプラズマ処理システムに関する。

以上の説明からわかるように、本発明の実施形態は、ワイヤをより合わせて形成されるインダクタを備えるＲＦ電力フィルタリング機構を含むものでもよい。したがって、ワイヤ間の間隔を最小にすることができ、ワイヤに関する浮遊容量の差を最小限に抑えることができる。これにより、ウエハのプラズマ処理速度を実質的に均一にすることができるという効果がある。

本発明の実施形態は、ＲＦ電力フィルタリング機構におけるインダクタを形成するワイヤを位置決めする、及び／又は、ワイヤを固定する位置決め機構を含むものでもよい。したがって、ワイヤに関する浮遊容量を実質的に一定に保持することができる。これにより、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間、及び／又は、プラズマ処理チャンバ間でほとんど差がないプラズマ処理プロファイルを可能にする、という効果がある。

本発明の実施形態は、ＲＦ電力フィルタリング機構におけるインダクタを形成するワイヤの隣接部分間のピッチをさまざまに変更可能である。したがって、（三組のコンデンサの代わりに）ただ一組又は二組のコンデンサと（三組のワイヤの代わりに）ただ一組又は二組のワイヤとにより形成される同調回路により、３つ以上の異なる周波数でＲＦ電力を除去することができる。本発明の実施形態により、ＲＦ電力フィルタリング機構で用いられるコンデンサを大幅に削減することができる。これにより、ウエハ間、ＲＦパワーフィルタ間及び／又はプラズマ処理チャンバ間におけるプラズマ処理プロファイルの一貫性をさらに向上させる効果がある。

本発明をいくつかの実施形態に関して説明してきたが、本発明の要旨の範囲内で、さまざまな変形、置き換え及び等価な構成が可能である。また、多くの別の方法で、本発明の方法及び装置を実現可能なことは言うまでもない。さらに、本発明の実施形態は、他の用途への適用も可能である。本明細書に添付されている要約部分は、字数制限があるため、便宜上記載されるものであって、何ら特許請求の範囲を限定するものではない。したがって、以下の特許請求の範囲は、本発明の要旨の範囲内でこのような変形、置き換え及び等価な構成をすべて含むものと解釈されるべきである。

Claims (20)

1. プラズマ処理システムにおいて少なくとも静電チャック（ＥＳＣ）から伝達される高周波（ＲＦ）電力をフィルタリングするフィルタであって、
   前記プラズマ処理システムが、前記ＥＳＣの第１の部分に配置される第１の発熱体を少なくとも備えると共に、さらに、電源を少なくとも備え、
   前記フィルタが、
   第１のコア部材と、
   第１の複数のコンデンサであって、少なくとも第１のコンデンサと第２のコンデンサとを含む第１の複数のコンデンサと、
   前記第１のコア部材の少なくとも第１の部分の周囲にこれに沿って巻きつけられて第１の組のインダクタンスを有する少なくとも第１の組のインダクタを形成する第１のケーブルであって、前記第１のケーブルが少なくとも第１の複数のワイヤを備え、前記第１の複数のワイヤが少なくとも第１のワイヤと第２のワイヤとを含み、前記第１のワイヤが前記第２のワイヤに接触して、前記第１のワイヤの少なくとも一部と前記第２のワイヤの少なくとも一部とがより合わされ、前記第１のワイヤの第１の端部が前記第１の発熱体に接続される一方で、前記第１のワイヤの第２の端部が前記第１のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第２のワイヤの第１の端部が前記第１の発熱体に接続される一方で、前記第２のワイヤの第２の端部が前記第２のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続される、第１のケーブルと、
   を備えるフィルタ。
2. 請求項１に記載のフィルタであって、
   前記プラズマ処理システムが、さらに、前記ＥＳＣの第２の部分に配置される第２の発熱体を少なくとも備え、
   前記第１の複数のコンデンサが、さらに、少なくとも第３のコンデンサと第４のコンデンサとを含み、
   前記第１のケーブルの前記第１の複数のワイヤが、さらに、少なくとも第３のワイヤと第４のワイヤとを含み、前記第３のワイヤの第１の端部が前記第２の発熱体に接続される一方で、前記第３のワイヤの第２の端部が前記第３のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第４のワイヤの第１の端部が前記第２の発熱体に接続される一方で、前記第４のワイヤの第２の端部が前記第４のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、
   前記第１のワイヤの前記一部と、前記第２のワイヤの前記一部と、前記第３のワイヤの少なくとも一部と、前記第４のワイヤの少なくとも一部とがより合わされる
   フィルタ。
3. 請求項１に記載のフィルタであって、
   前記第１のワイヤが被覆マグネットワイヤであるフィルタ。
4. 請求項１に記載のフィルタであって、
   前記第１のコア部材が、少なくとも溝構造を備え、
   前記第１のケーブルの少なくとも一部が前記溝構造の内部に配置される
   フィルタ。
5. 請求項４に記載のフィルタであって、
   前記溝構造が少なくとも複数の溝部分を含み、
   前記第１のケーブルの第１の部分が第１のサブセットのインダクタンスを有する第１のサブセットのインダクタを形成し、前記第１のケーブルの第２の部分が前記第１のサブセットのインダクタンスと異なる第２のサブセットのインダクタンスを有する第２のサブセットのインダクタを形成するように、前記溝構造が前記複数の溝部分のうちの隣接溝部分のピッチをさまざまに変える
   フィルタ。
6. 請求項１に記載のフィルタであって、
   前記第１のケーブルの第１の部分を前記第１のコア部材の第１の部分の周囲にこれに沿って巻きつけて、第１のサブセットのインダクタンスを有する第１のサブセットのインダクタを形成し、
   前記第１のケーブルの第２の部分を前記第１のコア部材の第２の部分の周囲にこれに沿って巻きつけて、前記第１のサブセットのインダクタンスと異なる第２のサブセットのインダクタンスを有する第２のサブセットのインダクタを形成し、
   前記第１のケーブルの前記第１の部分の隣接ケーブル部分間のピッチが、前記第１のケーブルの前記第２の部分の隣接ケーブル部分間のピッチと異なる
   フィルタ。
7. 請求項１に記載のフィルタであって、
   さらに、第２のコア部材を備え、
   前記第１のケーブルの第１の部分を前記第１のコア部材の前記少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけて、前記第１の組のインダクタを形成し、
   前記第１のケーブルの第２の部分を前記第２のコア部材の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけて、前記第１の組のインダクタンスと異なる第２の組のインダクタンスを有する第２の組のインダクタを形成し、
   前記第１のケーブルの前記第１の部分の隣接ケーブル部分間のピッチが、前記第１のケーブルの前記第２の部分の隣接ケーブル部分間のピッチと異なる
   フィルタ。
8. 請求項１に記載のフィルタであって、
   さらに、第２の複数のコンデンサであって、少なくとも第３のコンデンサと第４のコンデンサとを含む第２の複数のコンデンサと、
   前記第１のコア部材の少なくとも第２の部分の周囲にこれに沿って巻きつけられて少なくとも第２の組のインダクタを形成する第２のケーブルであって、前記第２のケーブルが少なくとも第２の複数のワイヤを備え、前記第２の複数のワイヤが少なくとも第３のワイヤと第４のワイヤとを含み、前記第３のワイヤが前記第４のワイヤに接触して、前記第３のワイヤと前記第４のワイヤとがより合わされ、前記第３のワイヤの第１の端部が前記第１のコンデンサに接続されると共に前記第１のワイヤの前記第２の端部に接続される一方で、前記第３のワイヤの第２の端部が前記第３のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第４のワイヤの第１の端部が前記第２のコンデンサに接続されると共に前記第２のワイヤの前記第２の端部に接続される一方で、前記第４のワイヤの第２の端部が前記第４のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第１のワイヤが少なくとも前記第３のワイヤを介して前記電源に接続され、前記第２のワイヤが少なくとも前記第４のワイヤを介して前記電源に接続される、第２のケーブルと、
   を備えるフィルタ。
9. 請求項８に記載のフィルタであって、
   さらに、第２のコア部材と、
   第３の複数のコンデンサであって、少なくとも第５のコンデンサと第６のコンデンサとを含む第３の複数のコンデンサと、
   前記第２のコア部材の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけられて少なくとも第３の組のインダクタを形成する第３のケーブルであって、前記第３のケーブルが少なくとも第３の複数のワイヤを備え、前記第３の複数のワイヤが少なくとも第５のワイヤと第６のワイヤとを含み、前記第５のワイヤが前記第６のワイヤに接触して、前記第５のワイヤと前記第６のワイヤとがより合わされ、前記第５のワイヤの第１の端部が前記第３のコンデンサに接続されると共に前記第３のワイヤの前記第２の端部に接続される一方で、前記第５のワイヤの第２の端部が前記第５のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第６のワイヤの第１の端部が前記第４のコンデンサに接続されると共に前記第４のワイヤの前記第２の端部に接続される一方で、前記第６のワイヤの第２の端部が前記第６のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第１のワイヤが少なくとも前記第３のワイヤと前記第５のワイヤとを介して前記電源に接続され、前記第２のワイヤが少なくとも前記第４のワイヤと前記第６のワイヤとを介して前記電源に接続される、第３のケーブルと、
   を備えるフィルタ。
10. 請求項１に記載のフィルタであって、
    さらに、第２のコア部材と、
    第２の複数のコンデンサであって、少なくとも第３のコンデンサと第４のコンデンサとを含む第２の複数のコンデンサと、
    前記第２のコア部材の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけられて少なくとも第２の組のインダクタを形成する第２のケーブルであって、前記第２のケーブルが少なくとも第２の複数のワイヤを備え、前記第２の複数のワイヤが少なくとも第３のワイヤと第４のワイヤとを含み、前記第３のワイヤが前記第４のワイヤに接触して、前記第３のワイヤと前記第４のワイヤとがより合わされ、前記第３のワイヤの第１の端部が前記第１のコンデンサに接続されると共に前記第１のワイヤの前記第２の端部に接続される一方で、前記第３のワイヤの第２の端部が前記第３のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第４のワイヤの第１の端部が前記第２のコンデンサに接続されると共に前記第２のワイヤの前記第２の端部に接続される一方で、前記第４のワイヤの第２の端部が前記第４のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第１のワイヤが少なくとも前記第３のワイヤを介して前記電源に接続され、前記第２のワイヤが少なくとも前記第４のワイヤを介して前記電源に接続される、第２のケーブルと、
    を備えるフィルタ。
11. 少なくともウエハを処理するプラズマ処理システムであって、
    前記プラズマ処理システムが、
    前記ウエハを支持する静電チャック（ＥＳＣ）と、
    前記ＥＳＣの第１の部分に配置される第１の発熱体と、
    少なくとも前記第１の発熱体に電力を供給する電源と、
    少なくとも前記ＥＳＣから伝達される高周波（ＲＦ）電力をフィルタリングするフィルタと、を備え、
    前記フィルタが、少なくとも、
    第１のコア部材と、
    第１の複数のコンデンサであって、少なくとも第１のコンデンサと第２のコンデンサとを含む第１の複数のコンデンサと、
    前記第１のコア部材の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけられて少なくとも第１の組のインダクタを形成する第１のケーブルであって、前記第１のケーブルが少なくとも第１の複数のワイヤを備え、前記第１の複数のワイヤが少なくとも第１のワイヤと第２のワイヤとを含み、前記第１のワイヤが前記第２のワイヤに接触して、前記第１のワイヤの少なくとも一部と前記第２のワイヤの少なくとも一部とがより合わされ、前記第１のワイヤの第１の端部が前記第１の発熱体に接続される一方で、前記第１のワイヤの第２の端部が前記第１のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第２のワイヤの第１の端部が前記第１の発熱体に接続される一方で、前記第２のワイヤの第２の端部が前記第２のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続される、第１のケーブルと、
    を備える
    プラズマ処理システム。
12. 請求項１１に記載のプラズマ処理システムであって、
    さらに、前記ＥＳＣの第２の部分に配置される第２の発熱体を備え、
    前記第１の複数のコンデンサが、さらに、少なくとも第３のコンデンサと第４のコンデンサとを含み、
    前記第１のケーブルの前記第１の複数のワイヤが、さらに、少なくとも第３のワイヤと第４のワイヤとを含み、前記第３のワイヤの第１の端部が前記第２の発熱体に接続される一方で、前記第３のワイヤの第２の端部が前記第３のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第４のワイヤの第１の端部が前記第２の発熱体に接続される一方で、前記第４のワイヤの第２の端部が前記第４のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、
    前記第１のワイヤの前記一部と、前記第２のワイヤの前記一部と、前記第３のワイヤの少なくとも一部と、前記第４のワイヤの少なくとも一部とがより合わされる
    プラズマ処理システム。
13. 請求項１１に記載のプラズマ処理システムであって、
    前記第１のワイヤが被覆マグネットワイヤである
    プラズマ処理システム。
14. 請求項１１に記載のプラズマ処理システムであって、
    前記第１のコア部材が、少なくとも溝構造を備え、
    前記第１のケーブルの少なくとも一部が前記溝構造の内部に配置される
    プラズマ処理システム。
15. 請求項１４に記載のプラズマ処理システムであって、
    前記溝構造が少なくとも複数の溝部分を含み、
    前記第１のケーブルの第１の部分が第１のサブセットのインダクタンスを有する第１のサブセットのインダクタを形成し、前記第１のケーブルの第２の部分が前記第１のサブセットのインダクタンスと異なる第２のサブセットのインダクタンスを有する第２のサブセットのインダクタを形成するように、前記溝構造が前記複数の溝部分のうちの隣接溝部分のピッチをさまざまに変える
    プラズマ処理システム。
16. 請求項１１に記載のプラズマ処理システムであって、
    前記第１のケーブルの第１の部分を前記第１のコア部材の第１の部分の周囲にこれに沿って巻きつけて、第１のサブセットのインダクタンスを有する第１のサブセットのインダクタを形成し、
    前記第１のケーブルの第２の部分を前記第１のコア部材の第２の部分の周囲にこれに沿って巻きつけて、前記第１のサブセットのインダクタンスと異なる第２のサブセットのインダクタンスを有する第２のサブセットのインダクタを形成し、
    前記第１のケーブルの前記第１の部分の隣接ケーブル部分間のピッチが、前記第１のケーブルの前記第２の部分の隣接ケーブル部分間のピッチと異なる
    プラズマ処理システム。
17. 請求項１６に記載のプラズマ処理システムであって、
    前記フィルタが、さらに、少なくとも第２のコア部材を備え、
    前記第１のケーブルの第１の部分を前記第１のコア部材の前記少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけて、前記第１の組のインダクタを形成し、
    前記第１のケーブルの第２の部分を前記第２のコア部材の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけて、前記第１の組のインダクタンスと異なる第２の組のインダクタンスを有する第２の組のインダクタを形成し、
    前記第１のケーブルの前記第１の部分の隣接ケーブル部分間のピッチが、前記第１のケーブルの前記第２の部分の隣接ケーブル部分間のピッチと異なる
    プラズマ処理システム。
18. 請求項１１に記載のプラズマ処理システムであって、
    前記フィルタが、さらに、少なくとも、
    第２の複数のコンデンサであって、少なくとも第３のコンデンサと第４のコンデンサとを含む第２の複数のコンデンサと、
    前記第１のコア部材の少なくとも第２の部分の周囲にこれに沿って巻きつけられて少なくとも第２の組のインダクタを形成する第２のケーブルであって、前記第２のケーブルが少なくとも第２の複数のワイヤを備え、前記第２の複数のワイヤが少なくとも第３のワイヤと第４のワイヤとを含み、前記第３のワイヤが前記第４のワイヤに接触して、前記第３のワイヤと前記第４のワイヤとがより合わされ、前記第３のワイヤの第１の端部が前記第１のコンデンサに接続されると共に前記第１のワイヤの前記第２の端部に接続される一方で、前記第３のワイヤの第２の端部が前記第３のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第４のワイヤの第１の端部が前記第２のコンデンサに接続されると共に前記第２のワイヤの前記第２の端部に接続される一方で、前記第４のワイヤの第２の端部が前記第４のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第１のワイヤが少なくとも前記第３のワイヤを介して前記電源に接続され、前記第２のワイヤが少なくとも前記第４のワイヤを介して前記電源に接続される、第２のケーブルと、を備える
    プラズマ処理システム。
19. 請求項１８に記載のプラズマ処理システムであって、
    前記フィルタが、さらに、少なくとも、
    第２のコア部材と、
    第３の複数のコンデンサであって、少なくとも第５のコンデンサと第６のコンデンサとを含む第３の複数のコンデンサと、
    前記第２のコア部材の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけられて少なくとも第３の組のインダクタを形成する第３のケーブルであって、前記第３のケーブルが少なくとも第３の複数のワイヤを備え、前記第３の複数のワイヤが少なくとも第５のワイヤと第６のワイヤとを含み、前記第５のワイヤが前記第６のワイヤに接触して、前記第５のワイヤと前記第６のワイヤとがより合わされ、前記第５のワイヤの第１の端部が前記第３のコンデンサに接続されると共に前記第３のワイヤの前記第２の端部に接続される一方で、前記第５のワイヤの第２の端部が前記第５のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第６のワイヤの第１の端部が前記第４のコンデンサに接続されると共に前記第４のワイヤの前記第２の端部に接続される一方で、前記第６のワイヤの第２の端部が前記第６のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第１のワイヤが少なくとも前記第３のワイヤと前記第５のワイヤとを介して前記電源に接続され、前記第２のワイヤが少なくとも前記第４のワイヤと前記第６のワイヤとを介して前記電源に接続される、第３のケーブルと、
    を備えるプラズマ処理システム。
20. 請求項１１に記載のプラズマ処理システムであって、
    前記フィルタが、さらに、少なくとも、
    第２のコア部材と、
    第２の複数のコンデンサであって、少なくとも第３のコンデンサと第４のコンデンサとを含む第２の複数のコンデンサと、
    前記第２のコア部材の少なくとも一部の周囲にこれに沿って巻きつけられて少なくとも第２の組のインダクタを形成する第２のケーブルであって、前記第２のケーブルが少なくとも第２の複数のワイヤを備え、前記第２の複数のワイヤが少なくとも第３のワイヤと第４のワイヤとを含み、前記第３のワイヤが前記第４のワイヤに接触して、前記第３のワイヤと前記第４のワイヤとがより合わされ、前記第３のワイヤの第１の端部が前記第１のコンデンサに接続されると共に前記第１のワイヤの前記第２の端部に接続される一方で、前記第３のワイヤの第２の端部が前記第３のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第４のワイヤの第１の端部が前記第２のコンデンサに接続されると共に前記第２のワイヤの前記第２の端部に接続される一方で、前記第４のワイヤの第２の端部が前記第４のコンデンサに接続されると共に前記電源に接続され、前記第１のワイヤが少なくとも前記第３のワイヤを介して前記電源に接続され、前記第２のワイヤが少なくとも前記第４のワイヤを介して前記電源に接続される、第２のケーブルと、
    を備えるプラズマ処理システム。

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