JP2008532273A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1701179A1 (de) * 2005-03-08 2006-09-13 Schott AG Verfahren zur Herstellung von optischen Elementen für die Mikrolithographie, damit erhältliche Linsensysteme und deren Verwendung
DE102006025044A1 (de) 2005-08-10 2007-02-15 Carl Zeiss Smt Ag Abbildungssystem, insbesondere Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102006038454A1 (de) 2005-12-23 2007-07-05 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102006038398A1 (de) * 2006-08-15 2008-02-21 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP2008216498A (ja) * 2007-03-01 2008-09-18 Canon Inc 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
JP2009031603A (ja) 2007-07-27 2009-02-12 Canon Inc 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
WO2009043790A2 (en) 2007-10-02 2009-04-09 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective for microlithography
JP5476565B2 (ja) * 2008-07-25 2014-04-23 独立行政法人物質・材料研究機構 Yag単結晶、それを用いた光学部品およびその関連機器

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4757354A (en) * 1986-05-02 1988-07-12 Matsushita Electrical Industrial Co., Ltd. Projection optical system
JP2000331927A (ja) * 1999-03-12 2000-11-30 Canon Inc 投影光学系及びそれを用いた投影露光装置
JP2004526331A (ja) * 2001-05-15 2004-08-26 カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー フッ化物結晶レンズを含む対物レンズ
DE10210782A1 (de) * 2002-03-12 2003-10-09 Zeiss Carl Smt Ag Objektiv mit Kristall-Linsen
JP2003050349A (ja) * 2001-05-30 2003-02-21 Nikon Corp 光学系および該光学系を備えた露光装置
US6683710B2 (en) * 2001-06-01 2004-01-27 Optical Research Associates Correction of birefringence in cubic crystalline optical systems
TW558749B (en) * 2001-06-20 2003-10-21 Nikon Corp Optical system and the exposure device comprising the same
JP3639807B2 (ja) * 2001-06-27 2005-04-20 キヤノン株式会社 光学素子及び製造方法
US6775063B2 (en) * 2001-07-10 2004-08-10 Nikon Corporation Optical system and exposure apparatus having the optical system
TW571344B (en) * 2001-07-10 2004-01-11 Nikon Corp Manufacturing method for projection optic system
JP2003161882A (ja) * 2001-11-29 2003-06-06 Nikon Corp 投影光学系、露光装置および露光方法
US7075721B2 (en) * 2002-03-06 2006-07-11 Corning Incorporated Compensator for radially symmetric birefringence
JP4350341B2 (ja) * 2002-03-26 2009-10-21 キヤノン株式会社 光学系及び露光装置
JP2003297729A (ja) * 2002-04-03 2003-10-17 Nikon Corp 投影光学系、露光装置および露光方法
AU2002356590A1 (en) * 2002-05-08 2003-11-11 Carl Zeiss Smt Ag Lens consisting of a crystalline material
JP2004045692A (ja) * 2002-07-11 2004-02-12 Canon Inc 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
US6958864B2 (en) * 2002-08-22 2005-10-25 Asml Netherlands B.V. Structures and methods for reducing polarization aberration in integrated circuit fabrication systems
JP2005537512A (ja) * 2002-09-03 2005-12-08 カール・ツアイス・エスエムテイ・アーゲー 複屈折レンズを伴う対物レンズ
WO2004023172A1 (de) * 2002-09-03 2004-03-18 Carl Zeiss Smt Ag Optimierverfahren für ein objektiv mit fluorid-kristall-linsen sowie objektiv mit fluorid-kristall-linsen
DE10253353A1 (de) * 2002-09-03 2004-03-11 Carl Zeiss Smt Ag Objektiv mit doppelbrechenden Linsen
DE10304116A1 (de) * 2002-09-03 2004-03-11 Carl Zeiss Smt Ag Optimierverfahren für ein Objektiv mit Fluorid-Kristall-Linsen sowie Objektiv mit Fluorid-Kristall-Linsen
WO2005059645A2 (en) * 2003-12-19 2005-06-30 Carl Zeiss Smt Ag Microlithography projection objective with crystal elements
JP2006113533A (ja) * 2004-08-03 2006-04-27 Nikon Corp 投影光学系、露光装置、および露光方法
WO2006047127A1 (en) * 2004-10-21 2006-05-04 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Optical lens elements, semiconductor lithographic patterning apparatus, and methods for processing semiconductor devices
DE102006013560A1 (de) * 2005-04-19 2006-10-26 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zu dessen Herstellung
DE102006025044A1 (de) * 2005-08-10 2007-02-15 Carl Zeiss Smt Ag Abbildungssystem, insbesondere Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
JP2009031603A (ja) * 2007-07-27 2009-02-12 Canon Inc 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法

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