JP2008532273A - マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム - Google Patents

Abstract

本発明は、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムに関するもので、高い屈折率の結晶材料をしても、映像特性における固有複屈折の影響を低減できる。特に、本発明は、固有複屈折材料のレンズを有する少なくとも２つのレンズグループ（１０〜６０）を有し、前記各レンズグループ（１０〜６０）は、それぞれ、（１００）方位の複数のレンズを有する第１のサブグループと、（１１１）方位の複数のレンズを有する第２のサブグループとを有し、前記各サブグループの複数のレンズは、レンズ軸に関し、相互に相対的に回転した位置関係で配置されている、光学システムに関する。

Description

本発明は、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムに関する。特に、本発明は、大きな固有複屈折の材料でできたレンズを一枚以上備えた、対物レンズまたは照明システムに関する。

光学結像における、フッ化物結晶レンズの固有複屈折の副作用を軽減することを目的として、同じ結晶カットのフッ化物結晶レンズを互いに回転した関係（クロッキングと称せられる）で配置すること、そして、付加的には、異なった結晶カット（例えば、（１００）方位レンズおよび（１１１）方位レンズ）を有した、複数のグループのそのような配置を組み合わせることは、公開公報ＵＳ２００４／０１５１７０Ａ１およびＷＯ０２／０９３２０９Ａ２において知られている。

フッ化物結晶レンズの所謂「クロッキング」は、固有複屈折が、対称特性（（１１１）方位結晶では３回対称、そして（１００）方位結晶では４回対称）である、瞳面において引き起こされるレタデーション（遅延）分布を生み出すという、認識に基づいている。そのパターンは、同じカットのレンズを相互に回転させる組み合わせによって均一化できる。すなわち、分布が、方位角上、対称になる（この場合、方位角α_Ｌは、レンズ軸に垂直な結晶面に投影されるビーム方向と、レンズに固定的にリンクされる参照方向との間の角度である）。この構成を以後、「均一グループ」と称する。レタデーション（遅延）という用語は、二つの直交する（相互に直角である）偏光状態の光路における違いを意味する。更に、特に、レタデーションの早い軸が互いに直交している、（１１１）方位の結晶材料から成る均一グループと（１００）方位の結晶材料から成る均一グループとの場合は、（１１１）方位と（１００）方位の材料の組み合わせは、個々のグループから生じるレタデーションを相互に補償し、そして、複屈折分布における最大のレタデーションのために得られる値において更なる低減がなされる。

現在のマイクロ・リソグラフィーの対物レンズにおいて、特に、１．０以上の開口数の値を有する、液浸リソグラフィーの対物レンズにおいて、高屈折率の材料を使用することの要求が非常に高まっている。ここでの「高」とは、クオーツの屈折率である、所定の波長、波長１９３ｎｍで約１．５６を超える屈折率を意味している。従来知られていたもので、ＤＵＶ波長およびＶＵＶ波長（＜２５０ｎｍ）において１．６以上の屈折率を有する材料は、例えば、１９３ｎｍで約１．８７の屈折率を有するスピネル、および、その波長でたぶん２．６５の屈折率を有するＹＡＧである。波長２４８ｎｍでは、スピネルの屈折率２．４５およびＹＡＧの屈折率２．６５もまた非常に高い。これらの材料をレンズの材料として用いる場合に発生する問題は、これらの材料が立方体結晶構造を有することに起因する固有の複屈折を有していることにある。例えば、スピネルでは、波長１９３ｎｍにおいて５２ｎｍ／ｃｍであることが測定されている。用語「レンズ」とは、全ての透明な光学的コンポーネントであり、そして、自由形状の面、非球面、そして、平面を備えていることでもある。ＤＵＶ波長、特に、ＶＵＶ波長の領域で高屈折率である結晶は、透明な光学エレメントとして用いる場合、大変なトラブルを引き起こす高い固有複屈折もまた有しているのが一般的である。高い屈折率が、像の近くの領域において特に有利であるという限りにおいて、例えば、最近のレンズエレメントでは、このことが、なおさら当てはまる。しかし、リソグラフィー・対物レンズでは大きなビーム角が発生し、そして、この大きな角度において、固有複屈折が、（１００）方位および（１１１）方位の結晶カットにおいて、特に高くなる。

更に、高屈折の結晶材料を、その固有複屈折の悪い影響を制限しながら、使用可能にする試みが、２００５年１２月２３日出願であって、６０／７５３７１５のシリーズ番号をもつ、非公開の米国仮出願「Projektionsobjektive einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage」に開示されている。この開示内容は、本出願に参考として組み入れられるものである。

発明の概要
発明の目的は、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に対物レンズまたは照明システムを提供すること、特に、結像特性における固有複屈折の影響を低減しながら、高屈折率を有する結晶材料を使用した、光学システム、特に対物レンズまたは照明システムを提供することである。

本発明は、高屈折率および高複屈折（特に、Δｎ＝５０ｎｍ／ｃｍ以上の高複屈折）を有する材料から作られた１つまたは２つのレンズを備えた対物レンズであって、特に、結像特性においての有害な効果を避けるために、高複屈折によって引き起こされるレタデーションを軽減するようにした対物レンズに関する。

本発明によれば、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムは、ＭｇＡｌ_２Ｏ_４，ＭｇＯおよびガーネット、特に、Ｙ_３Ａｌ_５Ｏ_１２（ＹＡＧ）およびＬｕ_３Ａｌ_５Ｏ_１２（ＬｕＡＧ）を含むグループの結晶材料のレンズを少なくとも１つ有する。ここで、前記結晶材料の少なくとも２つのエレメントは同じ結晶カットを有し、かつ、レンズ軸について互いに相対的に回転して配置されている、あるいは、前記結晶材料が２つの異なった結晶カットが存在する、または、２つの条件が満たされている（すなわち、後者の場合、前記結晶材料の少なくとも２つのエレメントが両方とも同じ結晶カットを有して、かつ、レンズ軸について互いに相対的に回転して配置され、ならびに、特に、（１００）方位および（１１１）方位の結晶カットの点で、２つの異なった結晶カット、が存在する。）。

本発明で用いられる用語「エレメント」は、例えば、前記少なくとも２つのエレメントが、１つの共通のレンズを形成するために、繋ぎ目無く互いに結合される、または一緒に締め付けられている、可能性を有している。

本発明によれば、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムは、ＮａＣｌ，ＫＣｌ、ＫＪ，ＮａＪ，ＲｂＪそしてＣｓＪを含むグループの結晶材料でできたレンズを少なくとも１つ有する。ここで、前記結晶材料の少なくとも２つのエレメントは同じ結晶カットを有し、かつ、レンズ軸について互いに相対的に回転して配置されている、あるいは、前記結晶材料が２つの異なった結晶カットが存在する、または、２つの条件が満たされている（すなわち、後者の場合、前記結晶材料の少なくとも２つのエレメントが両方とも同じ結晶カットを有して、かつ、レンズ軸について互いに相対的に回転して配置され、ならびに、特に、（１００）方位および（１１１）方位の結晶カットの点で、２つの異なった結晶カット、が存在する。）。

実施例に従えば、前記２つのエレメントは、それらが一緒になって１つのレンズを形成するために、一緒に捻られている、または繋ぎ目無く結合されている。

実施例に従えば、前記２つのエレメントは、２つの分離したレンズを形成する。

実施例に従えば、前記２つのエレメントの結合は、２つの相互に垂直な偏光状態のために、軸対称分布のレタデーションを提供する。

実施例に従えば、前記２つのエレメントの結合は、非回転配置と比較して、または、同じ結晶カットを有する、結晶材料の唯一のエレメントと比較して、レタデーションの値の点で大きな低減を導き出している。「値の大きな低減」という表現は、（開口角や方位角に依存した）レタデーションの観点での分布を示すために用いられる。レタデーション分布の観点での最大値が、前記２つのエレメントの結合は、非回転配置と比較して、または、同じ結晶カットを有する、結晶材料の唯一のエレメントと比較して、少なくとも２０％まで低減される。

実施例に従えば、前記結晶材料を有するレンズの光軸に相対して発生する最大ビーム角度は、２５°以上、好ましくは、３０°以上である。

前述したクロッキングの考えによって実現される補償の効果は完全なものではなく、特に、強い複屈折物質（Δｎが１００ｎｍ／ｃｍまでおよびそれ以上までの値を有する）の場合、結像特性の観点で重要である残余のレタデーションが（理想的に補償されない固有複屈折のために）発生する。特に、同じカットを有するレンズを相互に回転して組み合わせたものによって形成された均一なレンズグループは、レタデーション分布の観点で明らかに均一である、すなわち、軸対称であるが、楕円状の固有の偏光の観点からは均一ではなく、その結果、レタデーションの低減においてエラーが残る結果となる。

更に、本発明は、強い複屈折の材料（Δｎが１００ｎｍ／ｃｍまで、そしてそれ以上の値を有する）を適用したとき、レタデーションの低減に関し、残余のエラーを低減することを目的としている。この観点で、光学系の複屈折に起因するレタデーションにおける残余のエラーが、線形的でなく、複屈折材料の複屈折率Δｎまたは厚さｄの増加に伴って２次方程式的に増加発生する（後で詳しく説明する）、その結果、例えば、相互に回転しているレンズの個々の厚さを低減すれば、残余のエラーに関し、比例以上の度合いの低減を実現できるという認識を本発明は利用している。

それゆえ、本発明の更なる態様によれば、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムは、固有複屈折材料のレンズを備えた、少なくとも２つのレンズグループを有しており、ここで、各レンズグループは、（１００）方位のレンズの第１のサブグループと、（１１１）方位のレンズの第２のサブグループをそれぞれ有し、そして、各サブグループのレンズはレンズ軸に対して互いに相対的に回転した関係で配置されている。

その点において、好ましい構成に従えば、本発明で用いられる意味での、用語「レンズグループ」とは、各連続したグループのレンズを意味するとして用いられ、あるレンズグループに属するレンズが、光軸に沿って、連続してあるいは相互に隣接して、光学系において配置されているという意味で用いられる。

好ましい実施例に従えば、各サブグループのレンズ同士は、各サブグループが２つの相互に直角な偏光状態に対し軸対称分布のレタデーションを有するように、レンズ軸に関し互いに相対的に回転して配置されている。

更なる実施例に従えば、各サブグループのレンズ同士は、レンズ軸に関し互いに相対的に回転した位置関係にない場合と比較して、レタデーションに関する値が大幅に低減するように、レンズ軸に関し互いに相対的に回転した位置関係にある。この「値が大幅に低減」という表現は、回転関係にない場合のレタデーション分布における最大値に対し、回転関係にある場合のレタデーション分布の最大値が少なくとも２０％低減する、ことにおいての、（開口角や方位角に依存した）レタデーションに関する分布のことを意味している。

更なる実施例に従えば、第１のサブグループは、レンズ軸に関し、互いに、（４５°＋ｋ＊９０°）の回転関係にて配置されている、２つの（１００）方位のレンズを有しており、そして、第２のサブグループは、レンズ軸に関し、互いに、（６０°＋ｌ＊９０°）の回転関係にて配置されている、２つの（１１１）方位のレンズを有している。ただし、ｋとｌは整数である。

更なる実施例に従えば、レンズグループの（１００）方位レンズと（１１１）方位レンズは互いに交互に配置されている。

更なる実施例に従えば、或るレンズグループのレンズは、他のレンズグループのレンズに対し、レンズ軸に関し、回転して配置されている。

更なる実施例に従えば、或るレンズグループのサブグループのレンズは、最大厚さがＤ_ｉ（ｉ＝１，２，・・・）かつ固有複屈折Δｎ_ｉの材料からできており、そして、他のグループのサブグループのレンズは、最大厚さがＤ_ｊ（ｊ＝１，２，・・・）かつ固有複屈折Δｎ_ｊの材料からできており、そして、各２つのレンズは、各ペア毎に、Δｎ_ｉ＊Ｄ_ｉ＝Δｎ_ｊ＊Ｄ_ｊの関係を満足する。好ましくは、Ｄ_ｉ，Ｄ_ｊ≦３０ｍｍが、更に好ましくは、Ｄ_ｉ，Ｄ_ｊ≦２０ｍｍが、更により好ましくは、Ｄ_ｉ，Ｄ_ｊ≦１０ｍｍが、最大厚さＤ_ｉ、Ｄ_ｊに対して成り立つ。

更なる実施例に従えば、レンズグループの数は少なくとも３、より好ましくは少なくとも４である。

更なる実施例に従えば、それらのレンズの少なくとも１つのレンズの材料の固有複屈折は、少なくともΔｎ＝５０ｎｍ／ｃｍ、更に好ましくは少なくともΔｎ＝７５ｎｍ／ｃｍ、更により好ましくは、少なくともΔｎ＝１００ｎｍ／ｃｍである。

更なる実施例に従えば、レンズは、少なくとも部分的に、立方体構造を有する結晶材料を有している。

更なる実施例に従えば、光学システムは、ＭｇＡｌ_２Ｏ_４，ＭｇＯおよびガーネット、特に、Ｙ_３Ａｌ_５Ｏ_１２（ＹＡＧ）およびＬｕ_３Ａｌ_５Ｏ_１２を含むグループの結晶材料を有する少なくとも１つのレンズを備えている。

更なる実施例に従えば、光学システムは、ＮａＣｌ，ＫＣｌ、ＫＪ，ＮａＪ，ＲｂＪそしてＣｓＪを含むグループの結晶材料を有する少なくとも１つのレンズを備えている。

更なる実施例に従えば、光学システムは、少なくとも０．８，好ましくは少なくとも１．０、更に好ましくは少なくとも１．２、更により好ましくは１．４であるイメージサイドの開口数（ＮＡ）を有している。

更なる実施例に従えば、動作波長λにおけるビームの最大レタデーションがλ／１０以下である。

本発明は、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムは、少なくとも屈折率１．８を有する結晶材料の光学エレメントを少なくとも１つ有している。ここで、動作波長λにおける最大レタデーションは、λ／１０以下である。特に好ましくは、前記結晶材料が立方体結晶材料である。

本発明は、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムであって、少なくともΔｎ＝５０ｎｍ／ｃｍの固有屈折率および少なくとも１ｃｍの最大ビーム路を有する立方体の結晶材料の光学エレメントを少なくとも１つ有する。なお、動作波長λにおいて現れる最大レタデーションはλ／１０以下である。

本発明は、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムであって、少なくともΔｎ＝５０ｎｍ／ｃｍの固有屈折率を有する立方体結晶材料を通って、少なくとも１ｃｍのビーム路が延びている。なお、少なくとも２つのレンズは、レンズ軸に関し、互いに回転して関係で配置されている。

本発明は、本発明に従った対物レンズを有するマイクロ・リソグラフィー投影露光装置および本発明に従った照明システムを有するマイクロ・リソグラフィー投影露光装置に関する。

本発明の構成を以下の詳細な説明と従属項にて説明する。また、本発明を、図面を伴った実施例によって詳しく以下説明する。

図面の説明
図１は、本発明の実施例に従った光学システムためのレンズ配置に関するダイアグラム図である。
図２は、本発明の別の実施例に従った光学システムためのレンズ配置に関するダイアグラム図である。
図３は、レンズまたはプレートの細分区画を増加させた場合の、複屈折（単位ｎｍ／ｃｍ）に対するレタデーション（単位ｎｍ）をプロットしたグラフである。
図４は、連続する２つのレンズが、互いに相手に対し同じ位置関係（図４ａ、４ｃ）である場合と、互いに相手に対し９０°回転している位置関係（図４ｂ）である場合の、瞳面に対するレタデーション分布を示している。
図５、６は、非交互配置（図５ａ，ｃおよび図６ａ、ｃ）の場合と、交互配置（図５ｂ、ｄおよび図６ｂ，ｄ）の場合の、２つの（１１１）方位レンズと２つの（１００）方位レンズ有するレンズグループに対する、瞳面のレタデーション分布を示している。
図７は、２つの（１１１）方位レンズと２つの（１００）方位レンズを有するレンズグループの、複屈折Δｎ（単位ｎｍ／ｃｍ）に対するレタデーション（単位ｎｍ）を示している。
図８は、１００−結晶カット（図８ａ）と１１１−結晶カット（図８ｂ）における、均一レンズ・ペアの固有偏光の楕円率を示している。
図９は、本発明に従った１個以上のレンズまたはレンズ配置を適用した、照明システムおよび投影対物レンズを有するマイクロ・リソグラフィー投影露光装置のダイアグラム図を示す。

関連する実施例の詳細な説明
図１において、本発明の実施例に従う光学システムのためのレンズ構成１００は、レンズ１１〜１４で構成される第１のレンズグループ１０と、レンズ２１〜２４で構成される第２のレンズグループ２０とを有している。

これらのレンズは、少なくとも部分的には、強い固有複屈折の立方体結晶材料から作られている。レンズ材料の複屈折は、好ましくは、少なくともΔｎ＝５０ｎｍ／ｃｍ、更に好ましくは、少なくともΔｎ＝７５ｎｍ／ｃｍ、更により好ましくは、少なくともΔｎ＝１００ｎｍ／ｃｍである。

その点、複屈折の値Δｎ（ｎｍ／ｃｍ）は、（開口角θ_Ｌと軸角α_Ｌとで定義される）あるビーム方向を対し、結晶の中でカバーされる物理的ビーム路に関係する、２つの互いに直角な線形偏光状態に対する、光伝搬の差異の比を特定している。固有複屈折の値は、従って、ビーム路やレンズ形状からは独立している。あるビームに対する光伝搬の違い（以下、レタデーションと称する）は、従って、カバーするそのビームによる複屈折の増幅によって得られる。

このケースでは、レンズ１１と１３がレンズグループ１０の第１のサブグループを形成し、レンズ１２と１４がレンズグループ１０の第２のサブグループを形成する。第１サブグループのレンズ１１と１３は、（１１１）方位にそれぞれ方向付けられ、そして、レンズ軸に関し、互いに相対的に６０°回転した位置関係にある。第２サブグループのレンズ１２と１４は、（１００）方位にそれぞれ方向付けられ、そして、レンズ軸に関し、互いに相対的に４５°回転した位置関係にある。

そのレンズ軸が、｛１００｝結晶面（すなわち、立方体結晶の対称特性のために結晶面が等しい）に垂直であるレンズを（１００）方位レンズと呼ぶ。同じように、そのレンズ軸が、｛１１１｝結晶面に垂直であるレンズを（１１１）方位レンズと呼ぶ。

第１のサブグループと第２のサブグループの両方、すなわち、レンズグループ１０の全体は、レタゼーションの観点での分布が均一、瞳面において軸対称である、のグループを形成する。更に加えて、同一方向レンズ１１と１３、１２と１４における相互に回転（ツイスト）した配置の結果、固有複屈折によって引き起こされるレタゼーションの分布は、回転しない配置の場合と比べて、固有複屈折の値が低減される。

加えて、（１１１）方位のレンズ１１と１３において、および、（１００）方位のレンズ１２と１４において、レタゼーションの早い軸は相互に直角の関係にあるので、レンズ１１，１３とレンズ１２，１４とを有する２つのサブグループの組み合わせによって、２つのレタデーションが相互に補償され、そして、複屈折分布において最大レタデーションの値を低減される。

レンズ構成１００の第２のレンズグループ２０は第１のレンズグループ１０と同じ構成である。したがって、レンズ２１と２３は、レンズグループ２０の第１サブグループを形成し、レンズ２２と２４は、第２サブグループを形成する。第１サブグループのレンズ２１と２３はそれぞれ（１１１）方位の方向性を有し、そして、レンズ軸に関し６０°互いに回転した配置となっている。第２サブグループのレンズ２２と２４はそれぞれ（１００）方位の方向性を有し、そして、レンズ軸に関し４５°互いに回転した配置となっている。

図２において、本発明の実施例に従う光学システムのためのレンズ構成２００は、レンズ３１〜３４で構成される第１レンズグループ３０と、レンズ４１〜４４で構成される第２レンズグループ４０と、レンズ５１〜５４で構成される第３レンズグループ５０と、レンズ６１〜６４で構成される第４レンズグループ６０とを有している。この構成において、レンズ３１と３３はレンズグループ３０の第１サブグループを形成し、レンズ３２と３４はレンズグループ３０の第２サブグループを形成している。第１サブグループのレンズ３１と３３はそれぞれ（１１１）方位の方向性を有し、レンズ軸に関し６０°互いに回転した配置となっている。第２サブグループのレンズ３２と３４はそれぞれ（１００）方位の方向性を有し、レンズ軸に関し４５°互いに回転した配置となっている。レンズ構成２００の第２〜４レンズグループ４０〜６０は第１レンズグループ３０と同じ構成である。

２つ以上のレンズグループ１０，２０，・・・は、それ自身の中に、均一で、かつ、最大値の観点で低減された、レタデーション分布を有している。本発明に従えば、それは、同じ方向性のレンズを互いに適切な回転をした配置にすることによって実現され、また、各レンズグループ内に（１００）方位レンズと（１１１）方位レンズとを上述した関係で組み合わせることによっても実現される。

図１と図２の実施例に示されたレンズグループ構成１００と２００は、以下の更なる有利性を提供する。すなわち、２以上のレンズグループ１０，２０，・・・の連続した接続（それ自体の中に、均一であって、かつ、最大値の観点で低減された、レタデーション分布を既に有している）は、最大値の更なる低減、または、レタデーションの低減された分布を提供する。特に、全体として同じ厚さの単一レンズグループを有する構成（例えば、レンズグループ１０の構成を有する単一レンズグループであって、より厚いレンズ（特に２倍の厚さ）でできている構成）と比較すると、最大値の更なる低減、または、レタデーションの低減された分布は明確である。

換言すれば、最大値が既に低減されたレタデーションの分布に関する分布を備えたレンズグループ（例えば、２つの（１００）方位のレンズであって互いに回転した配置してあるレンズと、２つの（１１１）方位のレンズであって互いに回転した配置であるレンズとから、すなわち、最大値を低減されたレタデーション分布を有する均一グループを形成するために全部で４つのレンズの組み合わせによって、そのレンズを構成できる）は更に再分割される。図１と図２の実施例に従えば、その再分割は、２つまたは４つのそのようなレンズグループであって、各々レンズグループが、レンズ軸に関し相互に回転した配置である２つの（１００）方位レンズと、レンズ軸に関し相互に回転した配置である２つの（１１１）方位レンズとを有するレンズグループに、すると効果的である。

本発明に従えば、上述した「再分割」の目的は次のようなことを提供することである。すなわち、個々のレンズから成るグループまたは光学エレメントのために全体として同じ厚さを達成するために、レンズグループの個々の相互に回転した各レンズは、各々、より薄い厚さまたはより弱い複屈折である、特に、一例として、最大厚さが半分（同じ材料）または複屈折が半分である。

本発明に従えば、それは、構成全体のレタデーションを補償する点において、単一レンズグループ（例えば、レンズグループ１０による）を構成するとき、残ってしまう「残余エラー」の更なる低減を達成する。この場合、一方における最大レタデーションと他方における複屈折の値との間には非線形の関係が存在することの結果として、複数のグループの連続する結合（すなわち、各グループの再分割）によって、それに相応する比例以上の低減を実現できるという事実を本発明は利用している。詳細は後で説明する。

本発明は、描かれたレンズ１１〜１４，２１〜２４・・・またはレンズグループ１０，１０・・・のような特定の形状に限定されない。つまり、基本的に、如何なる断面の、如何なる湾曲の、そして、特に、如何なる平面形状または立方形状の構成であってもよい。更に、個々のレンズ１１〜１４，２１〜２４・・・は、選択的に光学システムから独立していても良いし、各レンズ同士が、スペースを空けて又は空けなくて配置させても良いし、あるいは、１つ以上のエレメントを提供するために結合されても良い（例えば、繋ぎ目無く接続する又は結合することによって）。

また、本発明は、例として取り上げた、（（１００）方位レンズのための）回転角度が４５°や（（１１１）方位レンズのための）６０°に限定されない。むしろ、レンズグループ１０，２０，・・・のレンズ構成は本発明に包含されるものである。本発明は、サブグループのそれぞれ同じ方向性を有するレンズ同士が、それらの長軸に関し、異なった回転角度で相互に回転配置されて、その結果、最大値に関する低減されたレタデーション分布が、サブグループ内で全体として実現される、ことである。

本発明は、レンズが計４つ（特に、各レンズグループ内の、２つの（１１１）方位レンズと２つの（１００）方位レンズ）という数値には限定されない。むしろ、レンズグループ１０，２０，・・内のこれらのレンズ構成もまた本発明に含まれ、本発明には、各レンズグループ１０，２０内に２つの（１１１）方位レンズおよび／または２つの（１００）方位レンズ以上のものがある。

レンズ１１〜１４，２１〜２４・・・またはレンズグループ１０，２０，・・・は、同じ、本質的に複屈折材料から、あるいは、異なった、本質的に複屈折材料から作られる。

クロッキングによるＩＤＢ補償では、トータルのレタデーションを最小化するために、（１００）方位ペアは（１１１）方位ペアと組み合わせられる。（１００）方位の材料と（１１１）方位の材料とによる並列面による板の場合、好ましくは、次の厚さの比が、同じ角度のローディング（光伝搬）を、同じく、満足する（本発明はこれに限定されない）。

Ｄ_１００／Ｄ_１１１＝２／３
更に、（１００）方位レンズと（１１１）方位レンズは、互いに同じ最大厚さであることも、あるいは、異なった最大厚さであることもあり得る。しかし、好ましくは、各２つのレンズグループ（例えば、レンズグループ１０と２０）のレンズｉ，ｊは、レンズｉ，ｊの材料の固有複屈折がそれぞれΔｎ_ｉとΔｎ_ｊであるなら、異なったレンズグループからの各２つのレンズが条件Δｎ_ｉ＊Ｄ_ｉ＝Δｎ_ｊ＊Ｄ_ｊを満足するような最大厚さを有するレンズ・ペアである。同じ材料を使用する場合、レンズグループの（１００）方位レンズと他のレンズグループの（１１１）方位レンズとは同じ最大厚さを有している場合、そのような（Δｎ＊Ｄの各値が等しい）場合には、レタデーションにおける残余エラーが最高に低減される。

図３は、レンズあるいはプレートの再分割数を増加させた場合の、複屈折に対するレタデーションを関数として表示したものである。Ｎ＝１〜４（すなわち、例として、１〜４レンズグループ、図２におけるレンズグループ３０〜６０，この場合Ｎ＝４）の場合、それは、図３に示す、Δｎに依存する最大レタデーションを与える。この点で、全てのレンズグループは相互に同じ方向に向いており、すなわち、個々の結合は線形的に重畳されることが想定される。１００ｎｍの複屈折Δｎの場合、最大レタデーションが、５２ｎｍから、Ｎ＝２の場合は３３ｎｍへ、Ｎ＝３の場合は２２ｎｍへ、Ｎ＝４の場合は１８ｎｍへ低減される。

本発明に従う構成によって実現される、レタデーションにおける残余エラーの上述した低減は、本発明に従って、特に、高固有複屈折を有する材料から作られるレンズまたはレンズグループに適用される。それは正確には、図３のＮ＝１のカーブから直接明らかなような、「残余エラー」が高いことが想定されるようなシステムに関係する（ここでの「残余エラー」とは、複数の連続して結合されたグループに対し、本発明の再分割を適用しなかったときの、固有偏光の楕円率によって引き起こされる残余レタデーションを意味する）。

図４から分かるように、レンズ軸に関し回転する配置によって、すなわち、２（Ｎ＝２）以上のレンズグループを重畳させることによって、最大レタデーションにおける更なる低減が実現できる。この点で、図４ａは、連続する同じ方向性の’ｆｏｕｒｓ’グループ（４枚組）の分布を示しており、図４ｂはレンズ軸に関し相互に９０°回転した位置関係にある連続した’ｆｏｕｒｓ’グループ（４枚組）の分布を示している。図４ｃは、同じ方向性を有するグループの場合である図４ａの別の、代替の図であって、図４ｃの上部分は、レタデーションの絶対値の分布（単位ｎｍ）を示しており、図４ｃの下部分は、早い軸の方向の分布を示している。

更に、図１および図２の一例の目的としてのみ描かれている実施例において、個々のレンズグループ１０〜６０において、レンズグループ１０〜６０の（１００）方位レンズと（１１１）方位レンズは、それぞれ、互いに交代に、いわゆる、「交互配置（ｐｅｒｍｕｔａｔｅｄ ａｒｒａｎｇｅｍｅｎｔ）」に配置されている。しかし、本発明はそのような交互配置に限定されるわけではない。むしろ、レンズグループ１０〜６０内のそのようなレンズ配置は、本発明に包含されていると考えられる。本発明では、レンズグループ１０〜６０の（１００）方位レンズと（１１１）方位レンズは、それぞれ相互に交互の関係で配置されるのではなく、例えば、同じ方向性を有する少なくとも２つのレンズが連続して配置されていてもよい。

しかし、図１および図２で例として示した交番配置または交互配置は、相対的に更に均一の構成を、かつ更に小さいレタデーション（例えば、約ファクター２だけ小さい）を提供する限りにおいて有利である。このことは、図５ａ、ｂ（これは（１１１）−（１１１）−（１００）−（１００）列を有するレンズグループ、いわゆる非交互配置）、あるいは、図６ａ，ｂ（これは（１１１）−（１００）−（１１１）−（１００）列、いわゆる交互配置）に示された相応のプロットの比較によって明らかである。図５ｃは、図５ａの別の、代替の図であって、図５ｃの上部分はレタデーションの絶対値（単位ｎｍ）の分布を示し、図５ｃの下部分は早い軸の方向の分布を示している。図５ｄは、図５ｂの別の、代替の図であって、図５ｄの上部分はレタデーションの絶対値（単位ｎｍ）の分布を示し、図５ｄの下部分は早い軸の方向の分布を示している。更に、図６ｃは、図６ａの別の、代替の図であって、図６ｃの上部分はレタデーションの絶対値（単位ｎｍ）の分布を示し、図６ｃの下部分は早い軸の方向の分布を示している。図６ｄは、図６ｂの別の、代替の図であって、図６ｄの上部分はレタデーションの絶対値（単位ｎｍ）の分布を示し、図６ｄの下部分は早い軸の方向の分布を示している。

非交互配置（以下、タイプ１という）の例として、［１１１，１１１，１００，１００］とする相応の配置が示され、図５ａでは、方位角［６０°、０°、４５°、０°］の場合を示し、図６ａでは、［８０°、２０°、４５°、０°］の場合を示す。すなわち、（１１１）レンズの第１の均一グループは、（１００）レンズの第２の均一グループに比べ、２０°だけ回転した関係にある。図５ａおよび図６ａのレンズの厚さは、レンズの順番に：１０ｍｍ，１０ｍｍ、６．６６ｍｍ，６．６６ｍｍである。材料の屈折率は、１．８５およびＮＡ１．５と考える。したがって、材料の最大角度は５４．２°である。

交互配置（以下、タイプ２という）の例として、［１１１，１００，１１１，１００］とする相応の配置が示され、図５ｂでは、方位角［６０°、４５°、０°、０°］の場合を示し、図６ｂでは、［８０°、４５°、２０°、０°］の場合を示す。すなわち、（１１１）レンズの第１の均一グループは、（１００）レンズの第２の均一グループに比べ、２０°だけ回転した関係にある。図５ｂおよび図６ｂのレンズの厚さは、レンズの順番に：１０ｍｍ、６．６６ｍｍ、１０ｍｍ、６．６６ｍｍである。したがって、構成全部の厚さは３３．３２ｍｍとなる。材料の屈折率は、１．８５およびＮＡ１．５と考える。したがって、材料の最大角度は５４．２°である。

図５ａ，ｂに示す分布と図６ａ，ｂに示す分布とを比較すると、図６ａ，ｂ（タイプ２）は、図５ａ，ｂに比べ、分布が幾分更に均一で、レタデーションは約ファクター２だけ小さいことが分かる。なお、タイプ２は定義によって、２つの同じ方向性カットが連続して配置されることはない。したがって、システムの結晶カットにとって、順番の観点からなるべく混合（ミックス）されることが有利である。換言すれば、補償の改善は、交互となるプレート（板）の並び（順序）によって実現される。

本発明に従って、レンズの交番の並びによってレタデーションの低減が実現されることを以下説明する。一部の発明者の調査により、行列積の固有値は行列の入替では変化しないように、固有複屈折の分布はペアの入替では変化しないことが示された。しかし、固有ベクトルが変化することには注意するべきである。純粋に組み合わせの項において、４−レンズの組み合わせにとって、４（枚）組み合わせの各々に６クラス（分類）が存在する。クラス（分類）内では、エレメントはペア交換を含む。発明者が行った調査は、その６クラスがたった２つの異なるタイプのレタデーション分布（すなわち、タイプ１とタイプ２）に帰結することを示している。なお、タイプ２は定義によって、２つの同じ方向性カットが連続して配置されることはない。このことの１つの理由は、ツイステッド−ネマチックＬＣＤにおける断熱分極回転と等価な効果である。（複屈折軸方向において連続する変化（すなわち、例えば、ＴＮ−ＬＣＤにおける０°〜９０°への回転）を伴うシステムにおいて、波長に関しゆっくりと回転が行われるとするならば、線形に偏光された光は主軸の回転につながる）。それゆえ、好ましくは、出来る限り最適化する固有複屈折のＩＤＢ補償にとって、主軸は、レンズグループが連続する回転を有さないようなレンズグループ内で出来る限り配置するようにすべきである（同じ結晶カットだが回転した状態で直接連続する２つのレンズは、先述した意味で、好ましくない主軸配置を表すからである）。

すでに述べたが、図１および図２の実施例で実行された、複数のグループの連続する結合（または個々のグループの再分割）において、本発明は、一方の最大レタデーションと他方の複屈折の値との間には非線形の関係がある結果、相応する比例以上の低減を実現可能とするという事実を利用している。

図７は、或るレンズグループ（例えば、図１のレンズグループ１０）に対する、レタデーション（単位ｎｍ）の複屈折Δｎ（単位ｎｍ／ｃｍ）に対する依存性を示し、同様に、３次補間法を適用して得られた値を示している。（１１１）−（１１１）−（１００）−（１００）の順で、厚さが順番に１０ｍｍ，１０ｍｍ，６．６ｍｍ，６．６ｍｍ、すなわちレンズグループ全体での厚さが３３．２ｍｍである、４つのレンズからなるレンズグループに対する各値は確かである。ここで、プレートまたはレンズの組み合わせには一定の厚さが存在することを仮定したことは指摘しておく。式（１）および式（２）から分かるように、固有複屈折から生じる最大レタデーションに対する決定すべきパラメータは値Δｎ＊ｄであるので、レタデーションの最大レンズまたはプレート厚さに対する依存性は、図７のプロットに相応する形状のようである。相応する値は表１に示してある。

立方形状を提供する良好な近似は次のような式である

低いレベルの複屈折にとって、２次で十分の近似である。複屈折が増加するにしたがって、１次と３次の項を考慮することが必要となる。タイプ１，タイプ２の記号の意味は、図５、６に関係する前述の説明と同じである。タイプ１の場合、データはΔｎ＝１００ｎｍまでが有効である。そこまでで、レタデーションがすでにλ／２に達しているからである。

本発明に従えば、最大レタデーションの複屈折に対する非線形な依存性が、複数のレンズグループに対する再分割によって、比例以上の低減を実現可能にしている。

図１のレンズグループ１０のような４つのレンズからなる１個のレンズグループまたは１個のエレメントをＮ個のレンズグループまたはＮ個のエレメント（すなわち、例えば、図１のレンズグループ１０と２０のような各４個のレンズからなる２個のレンズグループ、Ｎ＝２）で置き換えることに基づき、オリジナルのエレメントの厚さに等しい累積の厚さは、次のようになる。

クロッキングによるレタデーションの低減にも拘わらず、まだ残っている「残余エラー」を概略説明するために、図８を参考にする。同じカットで相互に回転した状態で形成している均一グループ自体は、レタデーション分布の観点からは確かに均一である（すなわち、それらは軸対称である）が、しかし、それらは固有偏光の楕円率の点ではそうではない、という認識に本発明は基づいている。

図８は、図８ａで１００−カットの、図８ｂで１１１−カットの、均一レンズ・ペアの固有偏光の楕円率を示している。（１００）カットの０°と４５°における均一グループの結晶および（１１１）カットの０°と６０°における均一グループの結晶は、それぞれ、レタデーションの大きさと大きな主軸の方向に対し、完全な軸対称を有しているが、しかし、発明者による調査が示したように、固有偏光の楕円率に対し、そうではない。ジョーンズ瞳面（Ｊｏｎｅｓ ｐｕｐｉｌ）における、レタデーション分布の主軸は、回転したカットに対し完全に一致しないが、軸上に渡って変化する角度と大きさを有している。しかし、回転した線形固有偏光効果を備えた、遅れ（ｒｅｔａｒｄｉｎｇ）ジョーンズ行列を重複させることにより、全行列はもはや如何なる線形固有偏光効果を有しないが、しかし、楕円効果は有する。４５°の角度を有する、２つのλ／２の板は、例えば、回転子として動作し、それゆえ、円形固有偏光効果を有する。各４回分布または３回分布が、（１００）方位の材料および（１１１）方位の材料の均一グループにそれぞれ発生するので、完全補償が発生しないことを対称理由がすでに示している。

図９は、本願発明に従った配列を用いた１つまたはそれ以上のレンズを有する、対物レンズまたは照明システムを備えたマイクロ・リソグラフィー投影露光装置の基本の構造のダイアグラム図を示している。

図９において、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置３００は、光源３０１、照明システム３０２、マスク（レクチル）３０３，マスク・キャリア・ユニット３０４，投影対物レンズ３０５、光に反応する構造を有するサブストレート３０６およびサブストレート・キャリア・ユニット３０７を有している。図９は、光源３０１からサブストレート３０６までの光線ビームを区切って２つの光線の構成を模式的に示したものである。高い屈折率を備えたレンズを照明システムに用いることは有利であるが、この場合、高い固有複屈折は補償されなければならない。

この場合、照明システム３０２によって照射されたマスク３０３の像は、サブストレート３０６（例えばシリコンウエファ）上に投影対物レンズによって投影される。このサブストレートは、そこに光感応レイヤー（フォトレジスト）がコーテングされ、サブストレート３０６上の光感応コーテング上にマスク構成を転写するために、投影対物レンズ３０５の映像面として配置されている。

好ましい実施例の上記記載は、一例として挙げたものである。しかし、当業者であれば、本発明およびその利点を理解するだけでなく、適当なその変形も見つけることもできる。それゆえ、本発明は、付け加えられたクレームやそれと等価なものにおいて定義された発明の考えや範囲をカバーすることを意図としている。

図１は、本発明の実施例に従った光学システムためのレンズ配置に関するダイアグラム図である。 図２は、本発明の別の実施例に従った光学システムためのレンズ配置に関するダイアグラム図である。 図３は、レンズまたはプレートの細分区画を増加させた場合の、複屈折（単位ｎｍ／ｃｍ）に対するレタデーション（単位ｎｍ）をプロットしたグラフである。 図４は、連続する２つのレンズが、互いに相手に対し同じ位置関係（図４ａ、４ｃ）である場合と、互いに相手に対し９０°回転している位置関係（図４ｂ）である場合の、瞳面に対するレタデーション分布を示している。 図５は、非交互配置（図５ａ，ｃ）の場合と、交互配置（図５ｂ、ｄ）の場合の、２つの（１１１）方位レンズと２つの（１００）方位レンズ有するレンズグループに対する、瞳面のレタデーション分布を示している。 図６は、非交互配置（図６ａ、ｃ）の場合と、交互配置（図６ｂ，ｄ）の場合の、２つの（１１１）方位レンズと２つの（１００）方位レンズ有するレンズグループに対する、瞳面のレタデーション分布を示している。 図７は、２つの（１１１）方位レンズと２つの（１００）方位レンズを有するレンズグループの、複屈折Δｎ（単位ｎｍ／ｃｍ）に対するレタデーション（単位ｎｍ）を示している。 図８は、１００−結晶カット（図８ａ）と１１１−結晶カット（図８ｂ）における、均一レンズ・ペアの固有偏光の楕円率を示している。 図９は、本発明に従った１個以上のレンズまたはレンズ配置を適用した、照明システムおよび投影対物レンズを有するマイクロ・リソグラフィー投影露光装置のダイアグラム図を示す。

Claims (29)

1. マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムであって、
   前記光学システムは、固有複屈折材料のレンズを有する少なくとも２つのレンズグループ（１０〜６０）を有し、
   前記各レンズグループ（１０〜６０）は、それぞれ、（１００）方位の複数のレンズを有する第１のサブグループと、（１１１）方位の複数のレンズを有する第２のサブグループとを有し、
   前記各サブグループの複数のレンズは、レンズ軸に関し、相互に相対的に回転した位置関係で配置されていることを特徴とする光学システム。
2. 各サブグループが２つの相互に直角な偏光状態に対し、軸対称のレタデーション分布を有するように、前記各サブグループの複数のレンズが、レンズ軸に関し、相互に相対的に回転した位置関係で配置されている、請求項１記載の光学システム。
3. 各サブグループが、非回転のレンズ配置と比較して、レタデーションの値を十分低減するように、前記各サブグループのレンズ同士が、レンズ軸に関し、相互に相対的に回転した位置関係で配置されている、請求項１または２記載の光学システム。
4. 前記第１のサブグループが２つの（１００）方位レンズを有し、その各レンズがレンズ軸に関し、４５°＋ｋ＊９０°の角度で相互に相対的に回転して配置され、
   前記第２のサブグループが２つの（１１１）方位レンズを有し、その各レンズがレンズ軸に関し、６０°＋ｌ＊１２０°の角度で相互に相対的に回転して配置され、
   ただし、ｋとｌは整数である、
   請求項１から３のいずれかに記載の光学システム。
5. 前記レンズグループ（１０〜６０）の（１００）方位レンズと（１１１）方位レンズとが交互に配置されている、請求項１から４のいずれかに記載の光学システム。
6. ある１つのサブグループ（１０〜６０）のレンズが、他の１つのレンズグループ（１０〜６０）のレンズに対し、レンズ軸に関し、相互に相対的に回転して配置されている、
   請求項１から５のいずれかに記載の光学システム。
7. あるレンズグループ（１０〜６０）のあるサブグループの複数のレンズがそれぞれ最大厚さＤ_ｉ（ｉ＝１，２，・・）であって、固有複屈折Δｎ_ｉの材料からできており、
   別のレンズグループ（１０〜６０）のあるサブグループの複数のレンズがそれぞれ最大厚さＤ_ｊ（ｊ＝１，２，・・）であって、固有複屈折Δｎ_ｊの材料からできており、
   前記各２つのレンズにとって、ペアで、条件Δｎ_ｉ＊Ｄ_ｉ＝Δｎ_ｊ＊Ｄ_ｊを満たす、
   請求項１から６のいずれかに記載の光学システム。
8. 最大厚さＤ_ｉ，Ｄ_ｊが、Ｄ_ｉ，Ｄ_ｊ≦３０ｍｍ、好ましくはＤ_ｉ，Ｄ_ｊ≦２０ｍｍ、更に好ましくはＤ_ｉ，Ｄ_ｊ≦１０ｍｍ、を満たす、請求項７記載の光学システム。
9. 前記レンズグループ（１０〜６０）の数が、少なくとも３である、
   請求項１から８のいずれかに記載の光学システム。
10. 前記レンズグループ（１０〜６０）の数が、少なくとも４である、
    請求項１から９のいずれかに記載の光学システム。
11. 前記複数のレンズの少なくとも１つのレンズの材料の固有複屈折が、少なくともΔｎ＝５０ｎｍ／ｃｍ、好ましくは少なくともΔｎ＝７５ｎｍ／ｃｍ、更に好ましくは１００ｎｍ／ｃｍである、請求項１から１０のいずれかに記載の光学システム。
12. 前記複数のレンズが、少なくとも部分的には立方体結晶構造の結晶材料を有する、
    請求項１から１１のいずれかに記載の光学システム。
13. 光学システムは、ＭｇＡｌ_２Ｏ_４，ＭｇＯおよびガーネット、特に、Ｙ_３Ａｌ_５Ｏ_１２（ＹＡＧ）およびＬｕ_３Ａｌ_５Ｏ_１２を含むグループの結晶材料を有する少なくとも１つのレンズを有している、
    請求項１から１２のいずれかに記載の光学システム。
14. 光学システムは、ＮａＣｌ，ＫＣｌ、ＫＪ，ＮａＪ，ＲｂＪそしてＣｓＪを含むグループの結晶材料を有する少なくとも１つのレンズを有している、
    請求項１から１３のいずれかに記載の光学システム。
15. 光学システムは、少なくとも０．８、好ましくは少なくとも１．０、更に好ましくは少なくとも１．２、更により好ましくは１．４であるイメージサイドの開口数（ＮＡ）を有している、請求項１から１４のいずれかに記載の光学システム。
16. 動作波長λにおいて現れる最大レタデーションがλ／１０以下である、請求項１から１５のいずれかに記載の光学システム。
17. マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムであって、
    ＭｇＡｌ_２Ｏ_４，ＭｇＯおよびガーネット、特に、Ｙ_３Ａｌ_５Ｏ_１２（ＹＡＧ）およびＬｕ_３Ａｌ_５Ｏ_１２を含むグループの結晶材料を有する少なくとも１つのレンズを有し、
    前記結晶材料の少なくとも２つのエレメントは、同じ結晶カットを有し、かつ、レンズ軸に関し、相互に相対的に回転した位置関係で配置されており、
    および／または、２つの異なる結晶カットの結晶材料が存在する、
    ことを特徴とする光学システム。
18. マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムであって、
    ＮａＣｌ，ＫＣｌ、ＫＪ，ＮａＪ，ＲｂＪそしてＣｓＪを含むグループの結晶材料を有する少なくとも１つのレンズを有し、
    前記結晶材料の少なくとも２つのエレメントは、同じ結晶カットを有し、かつ、レンズ軸に関し、相互に相対的に回転した位置関係で配置されており、
    および／または、２つの異なる結晶カットの結晶材料が存在する、
    ことを特徴とする光学システム。
19. 前記２つのエレメントは、一体となってレンズを形成するように、互いに締め付けられている、請求項１７または１８の光学システム。
20. 前記２つのエレメントは、２つの別個のレンズを形成する、請求項１７または１８の光学システム。
21. 前記２つのエレメントの組み合わせが、２つの相互に直角な偏光状態のための軸対称なレタデーション分布を提供する、請求項１７から２０のいずれかに記載の光学システム。
22. 前記２つのエレメントの組み合わせが、非回転の配置のものと比較して、または、同じ結晶カットの結晶材料の単一のエレメントからなる状態と比較して、レタデーションの値を十分低減する、
    請求項１７から２１のいずれかに記載の光学システム。
23. 前記結晶材料のレンズにおいてレンズ軸に対し発生する最大ビーム角が、２５°以上、好ましくは３０°以上である、請求項１７から２２のいずれかに記載の光学システム。
24. マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムであって、
    少なくとも１．８の屈折率を有する結晶材料の光学エレメントを少なくとも１つ有し、
    動作波長λにおいて現れる最大レタデーションが１／λ以下である、
    ことを特徴とする光学システム。
25. マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムであって、
    少なくともΔｎ＝５０ｎｍ／ｃｍの固有複屈折および少なくとも１ｃｍの最大ビーム路を有する、立方体結晶材料の光学エレメントを少なくとも１つ有し、
    動作波長λにおいて現れる最大レタデーションが１／λ以下である、
    ことを特徴とする光学システム。
26. マイクロ・リソグラフィー投影露光装置のための光学システム、特に、対物レンズまたは照明システムであって、
    少なくとも１ｃｍのビーム路が、少なくともΔｎ＝５０ｎｍ／ｃｍの固有複屈折を有する立方体結晶材料の光学エレメントの中を延在し、
    少なくとも２つのレンズがレンズ軸に関し、相互に相対的に回転して配置されている、
    ことを特徴とする光学システム。
27. 前記光学システムの動作波長が、２５０ｎｍ以下、特に２００ｎｍ以下、更に特に１６０ｎｍ以下である、請求項１から２６のいずれかに記載の光学システム。
28. 請求項１から２７いずれか記載の対物レンズを備えた、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置
29. 請求項１から２７いずれか記載の照明システムを備えた、マイクロ・リソグラフィー投影露光装置

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