JP2008152245A - 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 - Google Patents
反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008152245A JP2008152245A JP2007300308A JP2007300308A JP2008152245A JP 2008152245 A JP2008152245 A JP 2008152245A JP 2007300308 A JP2007300308 A JP 2007300308A JP 2007300308 A JP2007300308 A JP 2007300308A JP 2008152245 A JP2008152245 A JP 2008152245A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- refractive index
- film
- layer
- antireflection film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/03—Viewing layer characterised by chemical composition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/03—Viewing layer characterised by chemical composition
- C09K2323/031—Polarizer or dye
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
- C09K2323/04—Charge transferring layer characterised by chemical composition, i.e. conductive
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B2207/00—Coding scheme for general features or characteristics of optical elements and systems of subclass G02B, but not including elements and systems which would be classified in G02B6/00 and subgroups
- G02B2207/121—Antistatic or EM shielding layer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【解決手段】透明支持体上に高分子からなる透明導電性材料、及び複数の架橋反応基を有し、少なくとも1つの架橋反応基は透明導電性材料と架橋する架橋点形成化合物を含有する組成物から形成される少なくとも1層の導電性層と、少なくとも1層の低屈折率層とを有する反射防止フィルム。
【選択図】なし
Description
(2) 前記透明支持体と前記導電性層との間に少なくとも1層のハードコート層又は防眩層を有する上記(1)に記載の反射防止フィルム。
(3) 前記透明導電性材料が、π共役系導電性高分子と高分子ドーパントからなる複合体である上記(1)または(2)に記載の反射防止フィルム。
(4) 前記高分子ドーパントが、少なくとも2種の基を有し、少なくとも1種はアニオン性基、少なくとも他の1種はアニオン性基でない基である上記(3)に記載の反射防止フィルム。
(5) 前記架橋点形成化合物が、前記高分子ドーパントと架橋する基を有する上記(3)または(4)に記載の反射防止フィルム。
(6) 前記架橋点形成化合物が、前記高分子ドーパントと架橋する基と、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有する化合物、又は前記高分子ドーパントと架橋する基と、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有するオリゴマーである上記(3)〜(5)のいずれかに記載の反射防止フィルム。
(7) 前記架橋点形成化合物が、下記一般式(1)及び下記一般式(2)で表される化合物からそれぞれ選ばれた少なくとも1種の混合物の加水分解物及びその縮合物である上記(3)〜(6)のいずれかに記載の反射防止フィルム。
一般式(1) (R1)m−M1−(OR3)n
(R1は前記高分子ドーパントと架橋する基を部分構造として有する基、R3はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、nは1以上であり、mは1以上である。M1は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。)
一般式(2) (R2)p−M2−(OR4)q
(R2はエチレン性不飽和二重結合を有する基を部分構造として有する基、R4はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、pは1以上であり、qは1以上である。M2は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。)
(8) 前記導電性層上の前記透明支持体から遠い側に屈折率が1.5〜1.7の中屈折率層、屈折率1.7〜2.1の高屈折率層があり、さらに屈折率1.3〜1.5の低屈折率層を有する上記(1)〜(7)のいずれかに記載の反射防止フィルム。
(9) 偏光膜を2枚の保護フィルムで挟んでなる偏光板であって、少なくとも一方の保護フィルムが上記(1)〜(8)のいずれかに記載の反射防止フィルムである偏光板。
(10) 上記(9)に記載の偏光板を具備した画像表示装置。
本発明の反射防止フィルムは、透明な基材(透明支持体、基材フィルム、又は支持体とも言う。)上に、少なくとも1層の導電性層と、少なくとも1層の低屈折率層を有し、目的に応じてその他の機能層を単独又は複数層設けることができる。
好ましい態様としては、基材上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層された反射防止フィルムを挙げることができる。反射防止フィルムは、最も単純な構成では、基材上に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、反射防止層を、基材よりも屈折率の高い高屈折率層と、基材よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、基材側から高屈折率層/低屈折率層の2層のものや、屈折率の異なる3層を、中屈折率層(基材又はハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する基材上に、中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順に塗布することが好ましく、例えば、特開平8−122504号公報、同8−110401号公報、同10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等に記載の構成が挙げられる。
また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの(例、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。
・基材フィルム/導電性層/低屈折率層
・基材フィルム/ハードコート層/導電性層/低屈折率層
・基材フィルム/防眩層/導電性層/低屈折率層
・基材フィルム/導電性層/ハードコート層/低屈折率層
・基材フィルム/導電性層/防眩層/低屈折率層
・基材フィルム/防湿層/ハードコート層/導電性層/低屈折率層
・基材フィルム/防湿層/防眩層/導電性層/低屈折率層
・防湿層/基材フィルム/ハードコート層/導電性層/低屈折率層
・防湿層/基材フィルム/防眩層/導電性層/低屈折率層
・基材フィルム/導電性層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・基材フィルム/ハードコート層/導電性層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・防湿層/基材フィルム/ハードコート層/導電性層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
本発明の導電性層は、導電性、可撓性、隣接層との密着性が高く、塗布方法で簡易に製造できる。
透明導電性材料とは、透明で導電性を有する、高分子からなる物質であり、単一の素材、もしくは複数の素材の複合体である。
透明導電性材料は、イオン導電性を示すカチオン性又はアニオン性のポリマー、または電子伝導性を示すπ共役系導電性ポリマーとそれに付随するドーパントの複合体が好ましく用いられる。特にπ共役系導電性ポリマーとそれに付随するドーパントの複合体が好ましい。
π共役系導電性高分子は、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用できる。例えば、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体等が挙げられる。重合の容易さ、空気中での安定性の点からは、ポリピロール類、ポリチオフェン類及びポリアニリン類が好ましい。π共役系導電性高分子は無置換のままでも、充分な導電性、バインダ樹脂への相溶性を得ることができるが、導電性及びバインダ樹脂への分散性又は溶解性をより高めるためには、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基をπ共役系導電性高分子に導入することが好ましい。
透明導電性材料は、前記π共役系導電性高分子とドーパントの複合体であることが好ましい。ドーパントは、高分子ドーパントであることが好ましく、特に分子内にアニオン性基を有するポリアニオンをドーパントとすることが特に好ましい。
以下、ポリアニオンからなるドーパントのことをポリアニオンドーパントいう。このポリアニオンドーパントは、導電性高分子に化学酸化ドープして塩を形成して複合体を形成する。
また、前記高分子ドーパントは、少なくとも2種の官能基を有し、少なくとも1種はアニオン性基、少なくとも他の1種はアニオン性基でない基であることが好ましい。
前記高分子ドーパントが有する官能基のうち、前記π共役系導電性高分子と塩を形成しなかった残存アニオン性基、又はアニオン性基でない基は後述する架橋点形成化合物と架橋することが好ましい。
前記高分子ドーパントのアニオン性基でない官能基としては、後述する架橋点形成化合物と架橋する基であれば特に限定されないが、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基などが挙げられ、それぞれ、2−ビニルエタノール、(ヒドロキシメチル)ビニルケトン、(2−ヒドロキシエチル)ビニルケトン、アリルアミン、2−アミノエチルビニルエーテル、3−ビニルオキシ−1−プロパンアミン、2−アリルアミノエタンチオールなどを高分子ドーパントに共重合することにより導入される。アニオン性基でない官能基を有する単量体の共重合比としては1〜50モル%が好ましく、5〜30モル%が特に好ましく、1モル%を下回ると架橋点数が不十分となり、50モル%を超えると、アニオンドーパントとして十分に機能しない。
以下、π共役系導電性ポリマーと高分子ドーパントの複合体においてポリアニオンドーパントを例にとって説明する。
また、透明導電性材料が前述したπ共役系導電性ポリマーと高分子ドーパントの複合体である場合には、π共役系導電性ポリマーのユニットあたりの分子量と、高分子ドーパントのユニットあたりの分子量の比が1:1〜1:5であることが好ましく、1:1〜1:2であることがより好ましい。
本発明において架橋点形成化合物とは、複数の架橋反応基を有し、少なくとも1つの架橋反応基は透明導電性材料と架橋する化合物を指す。
架橋点形成化合物は、透明性導電性材料がπ共役系導電性高分子と高分子ドーパントからなる複合体であるとき、高分子ドーパントと架橋することが好ましく、高分子ドーパントの残存アニオン性基、及び/またはアニオン性基でない官能基と架橋することが特に好ましい。
架橋点形成化合物において、高分子ドーパントのアニオン性基、またはアニオン性基でない基と架橋する基としては、好ましくは、水酸基、アルコキシシリル基、環状エーテル基、イソシアナート基であり、より好ましくはグリシジル基、オキセタン基、イソシアナート基であり、最も好ましくはイソシアナート基を部分構造として有する基である。 本発明の好ましい1つの態様においては、高分子ドーパントのポリアニオンの残存アニオン基(例えば、スルホ基、カルボキシル基)と、架橋点形成化合物の水酸基、アルコキシシリル基、環状エーテル基、が反応してエステルを形成して、架橋を行うものである。また、本発明の別の好ましい態様としては、高分子ドーパントのアニオン性基でない基(例えば水酸基、アミノ基)と、架橋点形成化合物の環状エーテル基、イソシアナート基、が反応して、架橋を行うものである。
これらの反応基を有効に反応させるために各種、触媒や各種の重合開始剤を使用してもよい。
環状エーテル基については、3級アミン、4級アンモニウム塩などの触媒や、ヨードニウム塩、スルホニウム塩などの光カチオン開始剤を使用してもよい。
イソシアナート基については、3級アミンや有機金属化合物などの触媒を使用してもよい。
これらの反応基を有効に反応させるために各種、触媒や各種の重合開始剤を使用してもよく、特に各種の光ラジカル開始剤が好ましく用いられる。
(R1は前記高分子ドーパントと架橋する基を部分構造として有する基、R3はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、nは1以上であり、mは1以上である。M1は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。)
R1は前記高分子ドーパントと架橋する基であり、好ましくは環状エーテル基、イソシアナート基であり、より好ましくはグリシジル基、オキセタン基、イソシアナート基を部分構造として有する基である。
R3はアルキル基が好ましく、特にエチル基、メチル基が好ましい。
mは1であることがより好ましく、nは2以上であることが好ましい。
M1は特にケイ素であることが好ましい。
(R2はエチレン性不飽和二重結合を有する基を部分構造として有する基、R4はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、pは1以上であり、qは1以上である。M2は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。)
R2はエチレン性不飽和二重結合を有する基であり、好ましくは(メタ)アクリル基、アリル基、ビニルエーテル基、(メタ)アクリルアミド基を部分構造として有する基である。
R4はアルキル基が好ましく、特にエチル基、メチル基が好ましい。
pは1であることがより好ましく、qは2以上であることが好ましい。
M2は特にケイ素であることが好ましい。
加水分解縮合反応は加水分解性基(一般式のOR3、OR4)1モルに対して0.05〜2.0モル、好ましくは0.1〜1.0モルの水を添加し、本発明に用いられる触媒の存在下、25〜100℃で、撹拌することにより行われる。
この時、Siの3つの結合が−OSiの形で縮合している場合(T3)、Siの2つの結合が−OSiの形で縮合している場合(T2)、Siの1つの結合が−OSiの形で縮合している場合(T1)、Siが全く縮合していない場合を(T0)とした場合に縮合率αは数式(I):α=(T3×3+T2×2+T1×1)/3/(T3+T2+T1+T0)で表され、縮合率は0.2〜0.95が好ましく、0.3〜0.93がより好ましく、0.4〜0.9がとくに好ましい。
0.1より小さいと加水分解や縮合が十分でなく、モノマー成分が増えるため硬化が十分でなく、0.95より大きいと加水分解や縮合が進みすぎ、加水分解可能な基が消費されてしまうため、バインダーポリマー、樹脂基板、無機微粒子などの相互作用が低下してしまい、これらを用いても効果が得られにくくなる。
上記触媒は単独で使用しても良く、或いは複数種を併用しても良い。
溶媒は一般式(1)及び/又は一般式(2)で表される化合物と触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。
これらの有機溶媒は、1種単独であるいは2種以上を混合して使用することもできる。該反応における固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常1%〜100%の範囲である。
本発明においては、一般式R5OH(式中、R5は炭素数1〜10のアルキル基を示す)で表されるアルコールと一般式R6COCH2COR7 (式中、R6は炭素数1〜10のアルキル基、R7は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Zr、TiまたはAlから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも1種の金属キレート化合物の存在下で、25〜100℃で撹拌することにより加水分解を行うことが好ましい。
もしくは触媒に含フッ素化合物を使用する場合、含フッ素化合物が完全に加水分解・縮合を進行させる能力が有るため、添加する水量を選択することにより重合度が決定でき、任意の分子量の設定が可能となるので好ましい。
金属キレート化合物中のR5およびR6は、同一または異なってもよく炭素数1〜10のアルキル基、具体的にはエチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec −ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、フェニル基などである。また、R7は、前記と同様の炭素数1〜10のアルキル基のほか、炭素数1〜10のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec −ブトキシ基、t−ブトキシ基などである。また、 金属キレート化合物中のp1、p2、q1、q2、r1、およびr2は、それぞれp1+p2=4、q1+q2=4、r1+r2=3となる様に決定される整数を表す。
さらに導電性層は、屈折率が1.40〜1.70であることが好ましく、1.45〜1.60であることがより好ましい。
本発明の反射防止フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、好ましくは透明支持体の一方の面にハードコート層を設けることができる。ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
さらに、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
画像の鮮明性を維持し、表面の反射率を抑えて、ハードコート層の内部及び表面にて光散乱機能を付与しない場合は、ヘイズ値は低い程良く、具体的には10%以下が好ましく、更に好ましくは5%以下であり、最も好ましくは2%以下である。
また、ハードコート層の内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、ギラツキなどを見難くしたり、散乱により視野角を拡大する機能を付与する場合は、内部ヘイズ値(全ヘイズ値から表面ヘイズ値を引いた値)は10%〜90%であることが好ましく、更に好ましくは15%〜80%であり、最も好ましくは20%〜70%である。
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類(特開2001−139663号等)、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
「最新UV硬化技術」,(株)技術情報協会,1991年,p.159、及び、「紫外線硬化システム」 加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
支持体上のいずれかの層を作製するのに用いる塗布液には、面状故障(塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥など)を改良するために、フッ素系及びシリコーン系の少なくともいずれかの面状改良剤を添加することが好ましい。
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
本発明で用いることができる防眩層の1つの好ましい態様は、ハードコート性を付与することのできるバインダー、防眩性を付与するための透光性粒子、および溶媒を必須成分として含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものである。防眩性を有する防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。
本発明のフィルムの反射率を低減するため、低屈折率層を用いることが好ましい。
低屈折率層の屈折率は、1.20〜1.46であることが好ましく、1.25〜1.46であることがより好ましく、1.30〜1.40であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、50〜200nmであることが好ましく、70〜100nmであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が90度以上であることが好ましい。更に好ましくは95度以上であり、特に好ましくは100度以上である。
好ましい硬化物組成の態様としては、(1)架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーを含有する組成物、(2)含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物を主成分とする組成物、(3)2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物、が挙げられる。
架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素化合物としては、含フッ素モノマーと架橋性または重合性の官能基を有するモノマーの共重合体を挙げることができる。含フッ素モノマーとしては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。
これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。
含フッ素のオルガノシラン化合物の加水分解縮合物を主成分とする組成物も屈折率が低く、塗膜表面の硬度が高く好ましい。フッ素化アルキル基に対して片末端又は両末端に加水分解性のシラノールを含有する化合物とテトラアルコキシシランの縮合物が好ましい。具体的組成物は、特開2002−265866号公報、317152号公報に記載されている。
更に別の好ましい態様として、低屈折率の粒子とバインダーからなる低屈折率層が挙げられる。低屈折率粒子としては、有機でも無機でも良いが、内部に空孔を有する粒子が好ましい。中空粒子の具体例は、特開2002−79616号公報に記載のシリカ系粒子に記載されている。粒子屈折率は1.15〜1.40が好ましく、1.20〜1.30が更に好ましい。バインダーとしては、上記ハードコート層の頁で述べた二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。
本発明のフィルムには、高屈折率層、中屈折率層を設け、前述の低屈折率層とともに光学干渉を利用すると反射防止性を高めることができる。
以下、本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、透明支持体との関係で言えば屈性率は、透明支持体>低屈折率層、高屈折率層>透明支持体の関係を満たすことが好ましい。また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素(例えば、Br,I,Cl等)を含む電離放射線硬化性化合物、S,N,P等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
上記各構成層のうち、基材フィルムに隣接して塗布される層には、基材フィルムを溶解する少なくとも一種類以上の溶剤と、基材フィルムを溶解しない少なくとも一種類以上の溶剤を含有することが好ましい。このような態様にすることで、基材フィルムへの隣接層成分の過剰な染み込み防止と、隣接層と基材フィルムとの密着性確保の両立を図ることができる。また、基材フィルムを溶解する溶剤のうちの少なくとも一種類が、基材フィルムを溶解しない溶剤のうちの少なくとも一種類よりも高沸点であることがより好ましい。さらに好ましくは、基材フィルムを溶解する溶剤のうち最も沸点の高い溶剤と、基材フィルムを溶解しない溶剤のうち、最も沸点の高い溶剤との沸点温度差が30℃以上であることであり、最も好ましくは40℃以上であることである。
本発明のフィルムの支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム(例えば、セルローストリアセテートフィルム(屈折率1.48)、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム)、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー(ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製))、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
支持体の厚さは通常25μm〜1000μm程度のものを用いることができるが、好ましくは25μm〜250μmであり、30μm〜90μmであることがより好ましい。
支持体の巾は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は100〜5000mmのものが用いられ、800〜3000mmであることが好ましく、1000〜2000mmであることがさらに好ましい。支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常100m〜5000m、好ましくは500m〜3000mのものである。
支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さRaの値が1μm以下であることが好ましく、0.0001〜0.5μmであることが好ましく、0.001〜0.1μmであることがさらに好ましい。
上記各種フィルムの中でも、透明性が高く、光学的に複屈折が少なく、製造が容易であり、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムが好ましい。
セルロースアシレートフィルムについては力学特性、透明性、平面性などを改良する目的のため、種々の改良技術が知られており、公開技報2001−1745に記載された技術は公知のものとして本発明のフィルムに用いることができる。
セルロースアシレートの粘度平均重合度(DP)は、250以上であることが好ましく、290以上であることがさらに好ましい。
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるMw/Mn(Mwは質量平均分子量、Mnは数平均分子量)の値が1.0に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なMw/Mnの値としては、1.0〜1.7であることが好ましく、1.3〜1.65であることがさらに好ましく、1.4〜1.6であることが最も好ましい。
全体の置換度に対して6位の水酸基が32%以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には33%以上、特に34%以上であることが好ましい。さらにセルロースアシレートの6位アシル基の置換度が0.88以上であることが好ましい。6位水酸基は、アセチル基以外に炭素数3以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、NMRによって求めることができる。
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平11−5851号公報の段落「0043」〜「0044」[実施例][合成例1]、段落「0048」〜「0049」[合成例2]、段落「0051」〜「0052」[合成例3]に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
本発明では、ポリエチレンテレフタレートフィルムも、透明性、機械的強度、平面性、耐薬品性および耐湿性共に優れており、その上安価であり好ましく用いられる。
透明プラスチックフィルムとその上に設けられるハードコート層との密着強度をより向上させるため、透明プラスチックフィルムは易接着処理が施されたされたものであることが更に好ましい。
市販されている光学用易接着層付きPETフィルムとしては東洋紡績社製コスモシャインA4100、A4300等が挙げられる。
本発明のフィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(ダイコート法)(米国特許2681294号明細書参照)、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
本発明のフィルムは、偏光膜およびその片側ないし両側に配置された保護フィルムとして使用し、偏光板として使用することができる。
一方の保護フィルムとして、本発明のフィルムを用いる、他方の保護フィルムは、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、上述の溶液製膜法で製造され、且つ10〜100%の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。
反射防止フィルムの透明支持体やセルロースアセテートフィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。
保護フィルムの透湿性は、透明支持体やポリマーフィルム(および重合性液晶化合物)の厚み、自由体積、親疎水性、等により決定される。
本発明のフィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる場合、透湿性は100〜1000g/m2・24hrsであることが好ましく、300〜700g/m2・24hrsであることが更に好ましい。
透明支持体の厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインスピード、あるいは、延伸、圧縮により調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。
透明支持体の自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することができる。
この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。
透明支持体の親疎水性は、添加剤により調整することが出来る。上記自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。
上記透湿性を独立に制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に45°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
偏光子の2枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
本発明のフィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置に用いられる。本発明に従う光学フィルターは、プラズマディスプレイパネル(PDP)または陰極管表示装置(CRT)など公知のディスプレー上に用いることが出来る。
本発明のフィルム、偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装・BR>Uに有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有し、液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置されることもある。
TNモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに60〜120゜にねじれ配向している。
TNモードの液晶セルは、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
VAモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of Tech.Papers(予稿集)28(1997)845頁記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59頁(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。
OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第4583825号、同5410422号の各公報に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend)液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
IPSモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはProc.IDRC(Asia Display ’95),577−580頁及び同707−710頁に記載されている。
ECBモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ECBモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平5−203946号公報に詳細が記載されている。
プラズマディスプレイパネル(PDP)は、一般に、ガス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。
プラズマディスプレイパネル(PDP)は、既に市販されている。プラズマディスプレイパネルについては、特開平5−205643号、同9−306366号の各公報に記載がある。
プラズマディスプレイパネルのような画像表示装置では、光学フィルターをディスプレイ表面に直接貼り付けることができる。また、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側(外側)または裏側(ディスプレイ側)に光学フィルターを貼り付けることもできる。
本発明のフィルムは、特開平5−127822号公報、特開2002−48913号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。
本発明のフィルムを有機EL素子等に用いる場合には、特開平11−335661号、特開平11−335368号、特開2001−192651号、特開2001−192652号、特開2001−192653号、特開2001−335776号、特開2001−247859号、特開2001−181616号、特開2001−181617号、特開2002−181816号、特開2002−181617号、特開2002−056976号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開2001−148291号、特開2001−221916号、特開2001−231443号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。
ハードコート層用塗布液H−1の組成
───────────────────────────────────
PET−30 51.0g
DPHA 10.0g
イルガキュア184 2.0g
SX−350(30%) 2.0g
架橋アクリルースチレン粒子(30%) 13.0g
SP−13 0.06g
トルエン 38.5g
───────────────────────────────────
ハードコート層用塗布液H−2の組成
───────────────────────────────────
PET−30 28.0g
DPHA 12.0g
凝集性シリカ(2次凝集径1.5μm) 5.0g
イルガキュア184 1.0g
イルガキュア907 0.2g
SP−13 0.08g
メチルイソブチルケトン 40.0g
シクロヘキサノン 15.0g
───────────────────────────────────
ハードコート層用塗布液H−3の組成
───────────────────────────────────
デソライトZ7404 100.0g
DPHA 31.0g
KBM−5103 10.0g
KE−P150 8.9g
MXS−300 3.4g
MEK(メチルエチルケトン) 29.0g
MIBK(メチルイソブチルケトン) 13.0g
───────────────────────────────────
ハードコート層用塗布液H−4の組成
───────────────────────────────────
PET−30 28.0g
DPHA 12.0g
イルガキュア184 1.0g
イルガキュア907 0.2g
SP−13 0.08g
メチルイソブチルケトン 40.0g
メチルエチルケトン 5.0g
───────────────────────────────────
・DPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物[日本化薬(株)製]
・PET−30:ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物[日本化薬(株)製]
・イルガキュア184:重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製]
・イルガキュア907:重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製]
・SX−350:平均粒径3.5μm架橋ポリスチレン粒子[屈折率1.60、綜研化学(株)製、30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用]
・架橋アクリル−スチレン粒子:平均粒径3.5μm[屈折率1.55、綜研化学(株)製、30%トルエン分散液、ポリトロン分散機にて10000rpmで20分分散後使用]
・SP−13フッ素系表面改質剤
・デソライトZ7404:ジルコニア微粒子含有光重合性ハードコート組成液[JSR(株)製]
・KBM−5103:γアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン[信越化学工業(株)製]
・KE−P150:1.5μmシリカ粒子[日本触媒(株)製]
・MXS−300:3μm架橋PMMA粒子[綜研化学(株)製]
14.2g(0.1mol)のエチレンジオキシチオフェンと0.15molのポリアリルスルホン酸を2000mlのイオン交換水に溶解した溶液とを混合させた。
この混合液を20℃に保ち、掻き混ぜながら200mlのイオン交換水に溶解した29.64g(0.13mol)の過硫酸アンモニウムを8.0g(0.02mol)の硫酸第二鉄の酸化触媒溶液をゆっくり加え、5時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に2000mlのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約2000mlの溶液を除去した。この操作を3回繰り返した。
そして得られた溶液の中の水を減圧除去し、ポリアリルスルホン酸ドープポリ(エチレンジオキシチオフェン)固形物を得た。該固形物を後述の溶液に混合し、透明導電性材料C−1とした。
14.2g(0.1mol)のエチレンジオキシチオフェンと0.15molのポリアリルスルホン酸/ポリアリルアミン共重合体(共重合モル比80/20)を2000mlのイオン交換水に溶解した溶液とを混合させた。
この混合液を20℃に保ち、掻き混ぜながら200mlのイオン交換水に溶解した29.64g(0.13mol)の過硫酸アンモニウムを8.0g(0.02mol)の硫酸第二鉄の酸化触媒溶液をゆっくり加え、5時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に2000mlのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約2000mlの溶液を除去した。この操作を3回繰り返した。
そして得られた溶液の中の水を減圧除去し、ポリアリルスルホン酸/ポリアリルアミン共重合体ドープポリ(エチレンジオキシチオフェン)固形物を得た。該固形物を後述の溶液に混合し、透明導電性材料C−2とした。
14.2g(0.1mol)のエチレンジオキシチオフェンと0.15molのポリアリルスルホン酸/ポリ(2−ビニルエタノール)共重合体(共重合モル比80/20)を2000mlのイオン交換水に溶解した溶液とを混合させた。
この混合液を20℃に保ち、掻き混ぜながら200mlのイオン交換水に溶解した29.64g(0.13mol)の過硫酸アンモニウムを8.0g(0.02mol)の硫酸第二鉄の酸化触媒溶液をゆっくり加え、5時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に2000mlのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約2000mlの溶液を除去した。この操作を3回繰り返した。
そして得られた溶液の中の水を減圧除去し、ポリアリルスルホン酸/ポリ(2−ビニルエタノール)共重合体ドープポリ(エチレンジオキシチオフェン)固形物を得た。該固形物を後述の溶液に混合し、透明導電性材料C−3とした。
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた1,000mlの反応容器に、Y−1:118.2g(0.50mol)、Z−1:117.2g(0.50mol)、メタノール320g(10mol)とKF0.06g(0.001mol)を仕込み、攪拌下室温で水15.1g(0.86mol)をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で3時間攪拌した後、メタノール還溜下2時間加熱攪拌した。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液a−1を120g得た。このようにして得た物質をGPC測定した結果、質量平均分子量は2000であり、オリゴマーであることを確認した。
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた1,000mlの反応容器に、Z−1:234.4g(1.00mol)、メタノール320g(10mol)とKF0.06g(0.001mol)を仕込み、攪拌下室温で水15.1g(0.86mol)をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で3時間攪拌した後、メタノール還溜下2時間加熱攪拌した。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液a−2を120g得た。このようにして得た物質をGPC測定した結果、質量平均分子量は1800であり、オリゴマーであることを確認した。
導電性層用塗布液の組成
───────────────────────────────────
透明導電性材料 32.5g
架橋点形成化合物 23.5g
PET−30 (架橋点形成化合物と合計して26.5gとなるよう調節)
イルガキュア184 1.0g
SP−13 0.05g
MEK(メチルエチルケトン) 40.0g
イソプロパノール 20.0g
───────────────────────────────────
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.31、特開2002−79616の調製例4に準じサイズを変更して作成)500gに、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)30g、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5g加え混合した後に、イオン交換水を9g加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8gを添加した。この分散液500gにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し20質量%にしたときの粘度は25℃で5mPa・sであった。得られた分散液Aのイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1.5%であった。
ポリシロキサンおよび水酸基を含有する屈折率1.44の熱架橋性含フッ素ポリマー(JTA113、固形分濃度6%、JSR(株)製)13g、コロイダルシリカ分散液MEK−ST−L(商品名、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)1.3g、前記ゾル液b0.65g、およびメチルエチルケトン4.4g、シクロヘキサノン1.2gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液L−1を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.45であった。
熱架橋性含フッ素ポリマー(特開平11−189621公報実施例1に記載の含フッ素含シリコーン熱硬化ポリマー)37.6g、硬化剤(サイメル303;商品名、日本サイテックインダストリーズ(株)製)9.40g、硬化触媒(キャタリスト4050;商品名、日本サイテックインダストリーズ(株)製)0.92gをメチルエチルケトン500gに溶解し、更に、分散液Aを195質量部(シリカ+表面処理剤固形分として39.0質量部)、コロイダルシリカ分散物(シリカ、MEK−STの粒子径違い品、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)30.0質量部(固形分として9.0質量部)、ゾル液b17.0質量部(固形分として5.0質量部)、PM980M(光重合開始剤、和光純薬製)0.3質量部を添加した。塗布液全体の固形分濃度が6質量%になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が8対92になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率用塗布液L−2を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.38であった。
エチレン性不飽和基含有含フッ素ポリマー(特開2005−89536公報製造例3に記載のフッ素ポリマー(A−1))固形分として45.0gをメチルイソブチルケトン500gに溶解し、更に、分散液Aを195質量部(シリカ+表面処理剤固形分として39.0質量部)、コロイダルシリカ分散物(シリカ、MEK−STの粒子径違い品、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)30.0質量部(固形分として9.0質量部)、ゾル液b17.0質量部(固形分として5.0質量部)、PM980M(光重合開始剤、和光純薬製)2.0質量部を添加した。塗布液全体の固形分濃度が6質量%になるようにメチルエチルケトンで希釈して低屈折率用塗布液L−3を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.38であった。
フルオロアルキル基およびポリシロキサン構造を有するフッ素化合物としてオプスターJTA105(JSR株式会社製、固形分:5重量%)100重量部、オプスターJTA105A(JSR株式会社製、固形分:5重量%)1重量部、酢酸ブチル151.5重量部、及びシロキサンオリゴマーとしてコルコートN103X(コルコート株式会社製、エチレングリコール換算による数平均分子量950、固形分:2重量%)164.0重量部を混合した。更に、中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.31、特開2002−79616の調製例4に準じサイズを変更して作成)42.5gを加えて、低屈折率層用塗布液L−4を調整した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.36であった。
トリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して、スロットルダイを有するコーターを用いて、ハードコート層用塗布液を直接押し出して塗布した。搬送速度30m/分の条件で塗布し、30℃で15秒間、90℃で20秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量90mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ5.0μmの防眩性を有するハードコート層を形成し、巻き取った。
〔積分反射率〕
フィルムの裏面をサンドペーパーで祖面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における積分分光反射率を測定した。結果には450〜650nmの積分反射率の算術平均値を用いた。積分反射率は2.7%以下であれば充分な反射防止性能が得られ、値が小さいほど好ましい。
スチールウールに200g/cm2の加重をかけ、10往復したときの傷の状態を観察して、以下の5段階で評価した。
◎:傷が全くつかなかったもの。
○:ほとんど見えない傷が少しついたもの。
△:明確に見える傷がついたもの。
×:明確に見える傷が顕著についたもの。
××:膜の剥離が生じたもの。
反射防止フィルムの低屈折率層を有する側の表面にカッターナイフで碁盤目状に縦11本、横11本の切り込みを入れて合計100個の正方形の升目を刻み、日東電工(株)製のポリエステル粘着テープ(NO.31B)を圧着して密着試験を同じ場所で繰り返し3回行った。
◎:100個の升目中に剥がれが全く認められなかったもの。
○:100個の升目中に剥がれが認められたものが2升以内のもの。
△:100個の升目中に剥がれが認められたものが3〜10升のもの。
×:100個の升目中に剥がれが認められたものが10升を越えたもの。
反射防止フィルムの低屈折率層(最外層)を有する側の表面の表面抵抗を、超絶縁抵抗/微小電流計“TR8601”{(株)アドバンテスト製}を用いて、25℃、湿度60%RHの条件下で測定した。単位をΩ/□とする値をSR値とするとlogSR(対数)で表面抵抗値を表した。logSRは11.0以下であれば十分な帯電防止性能が得られる。
表1に示す構成で反射防止フィルムの試料101〜107を作製し前述の評価方法にて評価を行った。
表2に示すような構成で反射防止フィルムの試料201〜205を作製し、前述の評価方法にて評価を行った。
表3に示すような構成で反射防止フィルムの試料301〜303を作製し、前述の評価方法にて評価を行った。ただし、本実施例の低屈折率層の硬化条件において、110℃10分加熱を実施しなかった。
表4に示すような構成で反射防止フィルムの試料401〜406を作製し、前述の評価方法にて評価を行った。ただし、本実施例の低屈折率層の硬化条件において、110℃10分加熱を120℃3分に変更した。
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子(MPT−129C、石原産業(株)製、TiO2:Co3O4:Al2O3:ZrO2=90.5:3.0:4.0:0.5重量比)を使用した。
この粒子257.1質量部に、下記分散剤A 41.1質量部、およびシクロヘキサノン701.8質量部を添加してダイノミルにより分散し、重量平均径70nmの二酸化チタン分散液を調製した。
上記の二酸化チタン分散液99.1質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)68.0質量部、光重合開始剤(イルガキュア907)3.6質量部、光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)1.2質量部、メチルエチルケトン279.6質量部およびシクロヘキサノン1049.0質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液M−1を調製した。
上記の二酸化チタン分散液A 469.8質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)40.0質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)3.3質量部、光増感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製)1.1質量部、メチルエチルケトン526.2質量部、およびシクロヘキサノン459.6質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液H−1を調製した。
以下の、本発明に係る共重合体Bをメチルイソブチルケトンに7質量%の濃度になるように溶解し、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂X−22−164C(信越化学(株)製)を固形分に対して3%、光ラジカル発生剤イルガキュア907(商品名)を固形分に対して5質量%添加し、低屈折率層用塗布液L−5を調製した。
膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TD−80UF、富士フイルム(株)製)上に、表5に示すようにハードコート層用塗布液、及び導電性層塗布液を、この順に実施例1〜4と同様な方法でスロットルダイを有するコーターを用いて塗布した。
さらにその上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を3つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。
実施例1、2、3、4、5の各反射防止フィルム試料の裏面を以下に示す条件で鹸化処理を行った。
アルカリ浴:1.5mol/dm3水酸化ナトリウム水溶液、55℃−120秒
第1水洗浴:水道水、60秒
中和浴:0.05mol/dm3硫酸、30℃−20秒。
第2水洗浴:水道水、60秒
乾燥:120℃、60秒
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。鹸化処理済みの反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、該反射防止フィルムの支持体(トリアセチルセルロース)側が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。光学補償層を有する視野角拡大フィルム「ワイドビューフィルムSA12B」{富士フイルム(株)製}を鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜のもう一方の側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。
作製した本発明の偏光板を装着したTN、IPS、VA、OCBのモードの透過型液晶表示装置を評価した結果、視認性、防塵性、耐擦傷性に優れた表示装置が作製できることが確認された。
TNモードで20インチの液晶表示装置:TH−20TA3型(松下電器(株)製)に設けられている視認側の偏光板の代わりに本発明の偏光板(実施例104の試料から作製)の光学異方性層が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、観察者側に一枚貼り付けた。
特開2000−154261号公報の実施例10、15、18,19に記載されたOCB型液晶表示装置の視認側の最表面に、本発明の実施例301の試料をポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。
VAモードで22インチの液晶表示装置:TH22−LH10型(松下電器(株)製)に設けられている視認側の表面保護フィルムの代わりに、本発明の実施例204の試料を貼り付けた。
IPSモードで20インチの液晶表示装置:W20−LC3000型(日立製作所(株)製)に設けられている視認側の表面保護フィルムの代わりに本発明の実施例402の試料を貼り付けた。
本発明の実施例405の試料を、有機EL表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせた。
実施例401において、支持体の厚みを40μに変更した試料を作成した。同様の評価を行った結果、カールの発生が少なく、耐擦傷性、防汚性に優れる反射防止フィルムが得られることが確認された。
市販されている光学用易接着層付きPETフィルムである東洋紡績社製コスモシャインA4100、A4300を用いて評価した結果同様の結果であった。
実施例501において、透明支持体として易接着層付きPET(東洋紡製コスモシャインA4100、膜厚188μm)を用いた以外は同様にして反射防止フィルムを作製した。前面板なしの42インチプラズマディスプレイ(パイオニア製ダイレクトカラーフィルター方式PDU−42H6A1)の表面フィルムを剥がし、本発明の反射防止フィルムを粘着剤で貼り付けた。作製した本発明の反射防止フィルムを装着したプラズマディスプレイを評価した結果、視認性、防塵性、耐擦傷性に優れた表示装置が作製できることが確認された。
Claims (10)
- 透明支持体上に高分子からなる透明導電性材料、及び複数の架橋反応基を有し、少なくとも1つの架橋反応基は透明導電性材料と架橋する架橋点形成化合物を含有する組成物から形成される少なくとも1層の導電性層と、少なくとも1層の低屈折率層とを有する反射防止フィルム。
- 前記透明支持体と前記導電性層との間に少なくとも1層のハードコート層又は防眩層を有する請求項1に記載の反射防止フィルム。
- 前記透明導電性材料が、π共役系導電性高分子と高分子ドーパントからなる複合体である請求項1または2に記載の反射防止フィルム。
- 前記高分子ドーパントが、少なくとも2種の基を有し、少なくとも1種はアニオン性基、少なくとも他の1種はアニオン性基でない基である請求項3に記載の反射防止フィルム。
- 前記架橋点形成化合物が、前記高分子ドーパントと架橋する基を有する請求項3または4に記載の反射防止フィルム。
- 前記架橋点形成化合物が、前記高分子ドーパントと架橋する基と、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有する化合物、又は前記高分子ドーパントと架橋する基と、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有するオリゴマーである請求項3〜5のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
- 前記架橋点形成化合物が、下記一般式(1)及び下記一般式(2)で表される化合物からそれぞれ選ばれる混合物の加水分解物及びその縮合物である請求項3〜6のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
一般式(1) (R1)m−M1−(OR3)n
(R1は前記高分子ドーパントと架橋する基を部分構造として有する基、R3はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、nは1以上であり、mは1以上である。M1は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。)
一般式(2) (R2)p−M2−(OR4)q
(R2はエチレン性不飽和二重結合を有する基を部分構造として有する基、R4はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、pは1以上であり、qは1以上である。M2は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。) - 前記導電性層上に、前記透明支持体から近い側に屈折率が1.5〜1.7の中屈折率層、屈折率1.7〜2.1の高屈折率層があり、さらに屈折率1.3〜1.5の低屈折率層を有する請求項1〜7のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。
- 偏光膜を2枚の保護フィルムで挟んでなる偏光板であって、少なくとも一方の保護フィルムが請求項1〜8のいずれか1項に記載の反射防止フィルムである偏光板。
- 請求項9に記載の偏光板を具備した画像表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007300308A JP5297633B2 (ja) | 2006-11-22 | 2007-11-20 | 反射防止フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006316146 | 2006-11-22 | ||
JP2006316146 | 2006-11-22 | ||
JP2007300308A JP5297633B2 (ja) | 2006-11-22 | 2007-11-20 | 反射防止フィルムの製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013128750A Division JP5568669B2 (ja) | 2006-11-22 | 2013-06-19 | 組成物、フィルムの製造方法、フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008152245A true JP2008152245A (ja) | 2008-07-03 |
JP5297633B2 JP5297633B2 (ja) | 2013-09-25 |
Family
ID=39417281
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007300308A Expired - Fee Related JP5297633B2 (ja) | 2006-11-22 | 2007-11-20 | 反射防止フィルムの製造方法 |
JP2013128750A Expired - Fee Related JP5568669B2 (ja) | 2006-11-22 | 2013-06-19 | 組成物、フィルムの製造方法、フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013128750A Expired - Fee Related JP5568669B2 (ja) | 2006-11-22 | 2013-06-19 | 組成物、フィルムの製造方法、フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8137767B2 (ja) |
JP (2) | JP5297633B2 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010035764A1 (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-01 | 株式会社巴川製紙所 | 光学積層体およびハードコートフィルム |
WO2010114084A1 (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-07 | リンテック株式会社 | 透明導電フィルム |
JP2011046193A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-03-10 | Fujifilm Corp | 積層体、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2011076081A (ja) * | 2009-09-03 | 2011-04-14 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 光学積層体、偏光板およびそれを用いた表示装置 |
JP2011136503A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2011528447A (ja) * | 2008-07-18 | 2011-11-17 | エルジー・ケム・リミテッド | 偏光板及び液晶表示装置 |
JP2011235444A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-11-24 | Fujifilm Corp | 帯電防止積層体、光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2012048195A (ja) * | 2010-07-27 | 2012-03-08 | Nof Corp | 反射防止フィルム |
JP2012214004A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-11-08 | Fujifilm Corp | 帯電防止積層体、光学フィルム、偏光板、画像表示装置、及び帯電防止積層体の製造方法 |
WO2013180202A1 (ja) * | 2012-06-01 | 2013-12-05 | コニカミノルタ株式会社 | 機能性フィルム及び機能性フィルムの製造方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8137767B2 (en) * | 2006-11-22 | 2012-03-20 | Fujifilm Corporation | Antireflective film, polarizing plate and image display device |
KR101356238B1 (ko) * | 2007-03-26 | 2014-01-28 | 삼성전자주식회사 | Uv 패터닝 가능한 전도성 고분자 필름의 제조방법 및이에 의해 제조되는 전도성 고분자 필름 |
JP5492486B2 (ja) * | 2009-07-31 | 2014-05-14 | 富士フイルム株式会社 | 光学積層体 |
CN102023403A (zh) * | 2009-09-17 | 2011-04-20 | 群康科技(深圳)有限公司 | 光学膜 |
KR101826379B1 (ko) * | 2010-07-09 | 2018-02-06 | 제이엔씨 주식회사 | 투명 도전성 필름 및 제조 방법 |
AU2011292398A1 (en) | 2010-08-20 | 2013-03-07 | Centre National De La Recherche Scientifique | Films containing electrically conductive polymers |
JPWO2013129116A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2015-07-30 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極の製造方法、透明電極及び有機電子デバイス |
CN106164713B (zh) * | 2014-03-31 | 2018-01-09 | 富士胶片株式会社 | 防反射膜、偏振片、护罩玻璃、图像显示装置及防反射膜的制造方法 |
JP6323154B2 (ja) * | 2014-05-13 | 2018-05-16 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック表示素子及びその製造方法、並びに表示装置、情報機器及びエレクトロクロミック調光レンズ |
US10604442B2 (en) | 2016-11-17 | 2020-03-31 | Cardinal Cg Company | Static-dissipative coating technology |
JP2023003762A (ja) * | 2021-06-24 | 2023-01-17 | 富士フイルム株式会社 | 転写フィルム、積層体、音響スピーカー、積層体の製造方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002514566A (ja) * | 1998-05-08 | 2002-05-21 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 光透過性低抵抗コーティングを具える光透過性基板 |
JP2003246874A (ja) * | 2002-02-26 | 2003-09-05 | Hs Planning:Kk | 導電処理された高分子フィルム |
JP2005297539A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-10-27 | Jsr Corp | 積層体の製造方法 |
JP2006117906A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-05-11 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 帯電防止塗料、帯電防止膜及び帯電防止フィルム、光学フィルタ、光情報記録媒体 |
JP2006143922A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-06-08 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 帯電防止塗料、帯電防止膜及び帯電防止フィルム、光学フィルタ、光情報記録媒体 |
JP2006289780A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 導電性フィルム |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3652722A (en) * | 1970-12-21 | 1972-03-28 | Ford Motor Co | Rubber-modified polyester thermoset |
US5721299A (en) * | 1989-05-26 | 1998-02-24 | International Business Machines Corporation | Electrically conductive and abrasion/scratch resistant polymeric materials, method of fabrication thereof and uses thereof |
US5868966A (en) * | 1995-03-30 | 1999-02-09 | Drexel University | Electroactive inorganic organic hybrid materials |
US6030550A (en) * | 1995-11-15 | 2000-02-29 | International Business Machines Corporation | Methods of fabrication of cross-linked electrically conductive polymers and precursors thereof |
JPH1087994A (ja) * | 1996-09-10 | 1998-04-07 | Polymertech Kk | 複合導電性高分子および組成物ならびにその製造方法 |
JP2001270999A (ja) * | 2000-01-19 | 2001-10-02 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 架橋性導電性組成物、耐水性導電体及びその形成方法 |
JP2002047429A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-12 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | π共役高分子/無機微粒子複合体およびそれを用いたゴム組成物 |
TWI225511B (en) * | 2001-01-15 | 2004-12-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Coating composition, coating film thereof, antireflection coating, antireflection film, image display, and intermediate product |
TWI300382B (ja) * | 2001-03-30 | 2008-09-01 | Jsr Corp | |
JP4098970B2 (ja) * | 2001-06-19 | 2008-06-11 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録用シート |
US20030078856A1 (en) * | 2001-09-11 | 2003-04-24 | Jihan Zubi | Book preview advertising system for online booksellers |
JP2005096397A (ja) | 2003-08-25 | 2005-04-14 | Jsr Corp | 積層体およびその製造方法 |
US7163734B2 (en) * | 2003-08-26 | 2007-01-16 | Eastman Kodak Company | Patterning of electrically conductive layers by ink printing methods |
US6872500B2 (en) * | 2003-08-26 | 2005-03-29 | Eastman Kodak Company | Method of patterning an electroconductive layer on a support |
JP2005114852A (ja) * | 2003-10-03 | 2005-04-28 | Jsr Corp | プラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム及びその製造方法 |
JP4806174B2 (ja) * | 2003-10-20 | 2011-11-02 | 富士通株式会社 | 有機導電性組成物、透明導電膜、透明導電体、入力装置及びその製造方法 |
JP2005196122A (ja) | 2003-12-12 | 2005-07-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光板用保護フィルム及びそれらの製造方法、並びに偏光板、画像表示装置 |
KR20060123368A (ko) * | 2003-12-22 | 2006-12-01 | 코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 비휘발성 메모리 장치 및 그 제조 방법 |
US20050208230A1 (en) * | 2004-03-16 | 2005-09-22 | Fuji Photo Film, Co., Ltd. | Antireflection film, production process of the same, polarizing plate and image displaying apparatus |
JP4821152B2 (ja) * | 2004-04-02 | 2011-11-24 | 大日本印刷株式会社 | 導電性樹脂硬化物の製造方法及び導電性樹脂硬化物用組成物 |
JP4347886B2 (ja) * | 2004-04-14 | 2009-10-21 | エルジー・ケム・リミテッド | 耐汚染性に優れたディスプレイ反射防止用コーティング組成物及びコーティングフィルム |
US20060066803A1 (en) * | 2004-09-30 | 2006-03-30 | Aylward Peter T | Substrate free flexible liquid crystal displays |
NO322202B1 (no) * | 2004-12-30 | 2006-08-28 | Thin Film Electronics Asa | Fremgangsmate i fremstillingen av en elektronisk innretning |
JP2006199781A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 導電性コーティング組成物及び成形物 |
JP4624152B2 (ja) * | 2005-03-24 | 2011-02-02 | 富士フイルム株式会社 | プラスチックフィルム、ガスバリアフィルム、およびそれを用いた画像表示素子 |
JP4890782B2 (ja) * | 2005-04-18 | 2012-03-07 | 帝人デュポンフィルム株式会社 | 導電性フィルムおよびその製造方法 |
US7535462B2 (en) * | 2005-06-02 | 2009-05-19 | Eastman Kodak Company | Touchscreen with one carbon nanotube conductive layer |
US8007878B2 (en) * | 2005-08-03 | 2011-08-30 | Fujifilm Corporation | Antireflection film, polarizing plate, and image display device |
US7862886B2 (en) * | 2005-08-12 | 2011-01-04 | Fujifilm Corporation | Optical film, antireflection film, processes for producing the same, and polarizing plate and display employing the same |
US8137767B2 (en) * | 2006-11-22 | 2012-03-20 | Fujifilm Corporation | Antireflective film, polarizing plate and image display device |
JP2010042608A (ja) | 2008-08-13 | 2010-02-25 | Nissha Printing Co Ltd | 転写シート、その製造方法及び樹脂成形品 |
JP2010105242A (ja) | 2008-10-29 | 2010-05-13 | Nissha Printing Co Ltd | 成形同時加飾品の製造方法 |
US8911653B2 (en) * | 2009-05-21 | 2014-12-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing light-emitting device |
-
2007
- 2007-11-20 US US11/943,442 patent/US8137767B2/en active Active
- 2007-11-20 JP JP2007300308A patent/JP5297633B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-02-09 US US13/370,081 patent/US8623475B2/en active Active
-
2013
- 2013-06-19 JP JP2013128750A patent/JP5568669B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002514566A (ja) * | 1998-05-08 | 2002-05-21 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 光透過性低抵抗コーティングを具える光透過性基板 |
JP2003246874A (ja) * | 2002-02-26 | 2003-09-05 | Hs Planning:Kk | 導電処理された高分子フィルム |
JP2005297539A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-10-27 | Jsr Corp | 積層体の製造方法 |
JP2006143922A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-06-08 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 帯電防止塗料、帯電防止膜及び帯電防止フィルム、光学フィルタ、光情報記録媒体 |
JP2006117906A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-05-11 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 帯電防止塗料、帯電防止膜及び帯電防止フィルム、光学フィルタ、光情報記録媒体 |
JP2006289780A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 導電性フィルム |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8717518B2 (en) | 2008-07-18 | 2014-05-06 | Lg Chem, Ltd. | Polarization plate and liquid crystal display |
JP2011528447A (ja) * | 2008-07-18 | 2011-11-17 | エルジー・ケム・リミテッド | 偏光板及び液晶表示装置 |
JP2014160246A (ja) * | 2008-07-18 | 2014-09-04 | Lg Chem Ltd | 偏光板及び液晶表示装置 |
WO2010035764A1 (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-01 | 株式会社巴川製紙所 | 光学積層体およびハードコートフィルム |
WO2010114084A1 (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-07 | リンテック株式会社 | 透明導電フィルム |
CN102369108B (zh) * | 2009-03-30 | 2015-09-09 | 琳得科株式会社 | 透明导电膜 |
CN102369108A (zh) * | 2009-03-30 | 2012-03-07 | 琳得科株式会社 | 透明导电膜 |
JP5651106B2 (ja) * | 2009-03-30 | 2015-01-07 | リンテック株式会社 | 透明導電フィルム |
JP2011046193A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-03-10 | Fujifilm Corp | 積層体、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2011076081A (ja) * | 2009-09-03 | 2011-04-14 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 光学積層体、偏光板およびそれを用いた表示装置 |
JP2011136503A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
US9050774B2 (en) | 2010-04-30 | 2015-06-09 | Fujifilm Corporation | Antistatic laminate, optical film, polarizing plate, and image display device |
JP2011235444A (ja) * | 2010-04-30 | 2011-11-24 | Fujifilm Corp | 帯電防止積層体、光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2012214004A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-11-08 | Fujifilm Corp | 帯電防止積層体、光学フィルム、偏光板、画像表示装置、及び帯電防止積層体の製造方法 |
JP2012048195A (ja) * | 2010-07-27 | 2012-03-08 | Nof Corp | 反射防止フィルム |
WO2013180202A1 (ja) * | 2012-06-01 | 2013-12-05 | コニカミノルタ株式会社 | 機能性フィルム及び機能性フィルムの製造方法 |
EP2857196A4 (en) * | 2012-06-01 | 2016-03-16 | Konica Minolta Inc | FUNCTIONAL FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING FUNCTIONAL FILM |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8137767B2 (en) | 2012-03-20 |
JP5568669B2 (ja) | 2014-08-06 |
US20080118669A1 (en) | 2008-05-22 |
US8623475B2 (en) | 2014-01-07 |
JP2013178584A (ja) | 2013-09-09 |
JP5297633B2 (ja) | 2013-09-25 |
US20120262785A1 (en) | 2012-10-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5568669B2 (ja) | 組成物、フィルムの製造方法、フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP5271575B2 (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置 | |
JP5785798B2 (ja) | 帯電防止積層体の製造方法 | |
JP5377283B2 (ja) | 偏光板、画像表示装置、及び偏光板の製造方法 | |
US9050774B2 (en) | Antistatic laminate, optical film, polarizing plate, and image display device | |
JP5651400B2 (ja) | 積層体、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP5312627B2 (ja) | 帯電防止層を有する光学フィルム、並びにこれを用いた、反射防止フィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
KR20100124657A (ko) | 눈부심 방지성 필름 및 그 제조 방법과 표시 장치 | |
JP4914858B2 (ja) | 光散乱フィルム、偏光板及び液晶表示装置 | |
JP2009098658A (ja) | 光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP4961238B2 (ja) | 光学フィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
JP5076763B2 (ja) | 光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置 | |
JP2007133384A (ja) | 防眩フィルム、偏光板、および画像表示装置 | |
JP2011048359A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2011048358A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP4878778B2 (ja) | 導電性ハードコートフィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2011215424A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2009086341A (ja) | 光散乱フィルム、偏光板、及び液晶表示装置 | |
JP2006268031A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 | |
JP2007057612A (ja) | 防眩性反射防止フィルム及びその製造方法、該防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板、並びに該偏光板を用いた液晶表示装置及び液晶表示装置 | |
JP5359652B2 (ja) | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 | |
JP5746949B2 (ja) | 防眩フィルム、偏光板、画像表示装置、及び防眩フィルムの製造方法 | |
JP2007272214A (ja) | 防眩フィルム、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び防眩フィルムの製造方法 | |
JP2012078538A (ja) | ハードコート層を有する反射防止フィルム、該反射防止フィルムの製造方法、該反射防止フィルムを具備する偏光板及び液晶表示装置 | |
JP2012093524A (ja) | 防眩フィルム、偏光板、画像表示装置、及び防眩フィルムの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100707 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120411 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120508 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120511 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120705 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120807 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120911 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20121004 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121009 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130521 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130617 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5297633 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |