JP2005114852A - プラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 反射防止特性が良好であり、透明性、近赤外線遮蔽性、色調補正性、帯電防止性に優れたプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層、導電性ポリマーからなる導電層、高屈折率層、および低屈折率層が任意の順序で設けられているプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
この導電性ポリマーからなる導電層を、チオフィンなどのモノマーを基材表面上に気相重合して形成すると、基材と導電層との密着性に優れる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、プラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムに関し、より詳細には、反射防止特性が良好であり、透明性、近赤外線遮蔽性、色調補正性、帯電防止性に優れた反射防止フィルムおよびその製造方法に関する。

近年、陰極線管テレビに代わり、より大画面の背面映写方式のプラズマディスプレイが実用化されるようになって来た。プラズマディスプレイには、画面を保護する目的で前面板が取り付けることが多く、表面の傷付きを防止するため、ハードコート層が設けた保護フィルムが用いられることが多い。

さらに、プラズマディスプレイは、従来の陰極線管テレビより大画面であり、かつ平面であるため、より多くの反射による周辺環境や人の映り込みが見られる。また、輝度が低いため、反射による外部環境の映り込みがあると、画像の視認性は著しく低下する。そこで、画像のコントラストを高めるべく、前面板を構成する透明樹脂基材に染料や顔料を添加したフィルムを貼り付ける場合があるが、可視光の透過率が低下するため、染料や顔料の添加量に限界があった。

このため、プラズマディスプレイの前面板用フィルムには、低反射率性、高透明性が求められている。さらに、前面板にこれらの反射防止フィルムを貼り付ける製造工程において、大画面であることから、静電気によるほこりが付着しやすく、帯電防止性が良好なことも要求されている。

これらの要求に対し、蒸着法やスパッタリング法による透明反射防止フィルムが提案されているが、コスト的に高く、また量産性に劣るという問題点があった。

一方、塗布法による反射防止機能を有するプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムとして、例えば、酸化ジルコニウム、酸化アンチモンなどの金属酸化物の粒子を含有する組成物を硬化してなる高屈折率層と、有機ケイ素化合物の硬化物からなる低屈折率層とを積層した反射防止フィルムを有する前面板が、特開２００１−３５９０２４号公報に開示されているが、透明性と帯電防止性のバランスが悪いなどの問題点があった。

また、プラズマディスプレイは、原理上、近赤外線と電磁波を装置外に放出することが知られている。近赤外線は、コードレス電話や赤外線方式のリモートコントローラー等の誤動作を引き起こす原因となるため、遮蔽する必要がある。電磁波も、機器に障害を及ぼすことがあり、最近では人体に障害を及ぼす可能性があるとの理由により、法規制が進みつつある。

電磁波遮蔽に関しては、銅などの金属メッシュを用いる方法、あるいは、金属薄膜と酸化インジウムなどの金属酸化物の交互多層膜などが知られている。一方、近赤外線遮蔽並びに色調を補正する目的で、透明樹脂に近赤外線を吸収する染料などを分散する方法が知られているが、可視光線の透過率が低下するなどの問題があった。

このような問題点を解決するため、本発明者は鋭意検討した結果、特定の導電性ポリマーを有するフィルムは、可視光線の透過率と近赤外線の遮蔽効果とのバランスに優れていること、ならびに、色調は導電性ポリマーの膜厚により制御でき、プラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムとして優れた特性を有していることを見出した。また、これら
の導電性ポリマーは、帯電防止性が良好であり、プラズマディスプレイ前面板の製造時のハンドリング性も良好である。

本発明は、反射防止特性が良好であり、透明性、近赤外線遮蔽性、色調補正性、帯電防止性に優れた反射防止フィルムを提供することを目的とする。

本発明によれば、下記のようなプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムおよびその製造方法が提供される。
１．基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層と、導電性ポリマーからなる導電層とが設けられていることを特徴とするプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
２．基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層、導電性ポリマーからなる導電層、高屈折率層、および低屈折率層が任意の順序で設けられていることを特徴とするプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
３．導電性ポリマーがポリチオフェンもしくはその誘導体であることを特徴とする１〜２のいずれかに記載のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
４．導電性ポリマーが気相重合により得られたポリチオフェンもしくはその誘導体であることを特徴とする１〜３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
５．導電性ポリマーの膜厚が、１〜２０００ｎｍであることを特徴とする１〜４のいずれかに記載のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
６．導電性ポリマーの膜厚が５〜３００ｎｍであることを特徴とする１〜４のいずれかに記載のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
７．基材の少なくとも一面に、導電性ポリマーからなる導電層を有する１〜６のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムを製造するに際して、導電層を形成する基材または積層体の表面に酸化剤を塗布し、単量体を前記酸化剤と接触させて気相重合により、基材または積層体の表面により導電性ポリマーからなる導電層を形成することを特徴とする１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムの製造方法。

本発明のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムは、反射防止特性が良好であり、透明性、近赤外線遮蔽性、色調補正性、帯電防止性に優れている。

また導電性ポリマーからなる導電層を気相重合法により形成すると、導電層と基材との密着性に優れた反射防止フィルムが得られる。

本発明のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムの各層を形成する材料およびその製造方法の実施形態を、具体的に説明する。
１．基材
本発明において使用される基材の種類は特に制限されるものではないが、例えば、ポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリルカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアクリレート樹脂、環状オレフィン系樹脂、アクリルスチレン樹脂からなる基材を挙げることができる。

これらの基材を用いることにより、カメラのレンズ部、テレビ（ＣＲＴ）の画面表示部、あるいは液晶表示装置におけるカラーフィルター、プラズマディスプレイ等の広範な反射防止膜等の利用分野において、反射防止効果はもちろんのこと、優れた耐擦傷性や透明
性が得られ、しかも優れた機械的強度や耐久性を得ることができる。

なお、これらの基材は、コロナ放電処理などの種々の表面処理がされていてもよい。また、その形態は、何ら制限されるものではないが、量産性を考慮すれば、ロール形態が好ましい。さらにまた、近赤外線を吸収する染料や顔料などの着色剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤など、各種の添加剤を含有していてもよい。
２．ハードコート層
ハードコート層の構成材料についても特に制限されるものでないが、シロキサン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの一種単独または二種以上の組み合わせを挙げることができる。シリカなどの無機酸化物微粒子を上記の樹脂に分散させたものも好適に用いることができる。

ハードコート層は、防眩（アンチグレア）処理されていても、何等問題なく使用できる。

ハードコート層の膜厚は、０．１〜５０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。ハードコート層の膜厚が０．１μｍ未満となると、高屈折率層を強固に固定することが困難となる場合があるためであり、一方、膜厚が５０μｍを超えると、製造が困難となったり、あるいは、フィルム用途に用いた場合に屈曲性が低下する場合があるためである。

したがって、ハードコート層の膜厚は、０．１〜５０μｍ好ましくは０．５〜３０μｍさらに好ましくは１〜２０μｍであることが望ましい。
３．低屈折率層
低屈折率層の屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定温度２５℃）は、１．３５〜１．５０の範囲にある。

低屈折率膜の屈折率が１．３５未満であると、使用可能な材料の種類が過度に制限され、一方、屈折率が１．５を超えると、高屈折率層と組み合わせた場合に、反射防止効果が低下する場合がある。

このように低屈折率層の屈折率は、１．３５〜１．５０、好ましくは１．３５〜１．４５、さらに好ましくは１．３５〜１．４２であることが望ましい。

また、低屈折率層と高屈折率層との間の屈折率差を０．０５以上の値とすると、より優れた反射防止効果が得られる。低屈折率層と、高屈折率層との間の屈折率差が０．０５未満であると、これらの反射防止膜層での相乗効果が得られず、かえって反射防止効果が低下する場合がある。

したがって、低屈折率層と、高屈折率層との間の屈折率差を０．０５以上、好ましくは０．１〜０．５、さらに好ましくは０．１５〜０．５とすることが望ましい。

また、低屈折率層の膜厚は、特に制限されるものではないが、例えば、０．０５〜１μｍの範囲内であることが好ましい。

低屈折率層の膜厚が０．０５μｍ未満であると、下地としての高屈折率層に対する密着力や擦傷性が低下する場合があり、一方、膜厚が１μｍを超えると、均一に製造することが困難となるばかりか、光透過率や耐擦傷性が低下する場合がある。

したがって、低屈折率層の膜厚は、０．０５〜１μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍ、さらに好ましくは０．０５〜０．３μｍであることが望ましい。

なお、低屈折率層の膜厚は、例えば、断面切片の透過型電子顕微鏡写真から実測した平均値（１０個所）と定義されるが、下面が平坦でない塗膜の場合には、ＪＩＳ Ｂ０６０１で規定される粗さ曲線（測定長１μｍ）における平均線間の距離として定義される。

低屈折率層は、たとえば低屈折率層形成用硬化性組成物を用いて形成することができる。このような低屈折率層形成用硬化性組成物としては、低屈折率材料 微粉末（平均粒子
径が０．３〜２００nm好ましくは０．５〜１００nm）として、フッ化マグネシウム（屈折率１．３８）、酸化シリコン（屈折率１．４６）、フッ化アルミニウム（屈折率１．３３〜１．３９）、フッ化カルシウム（屈折率１．４４）、フッ化リチウム（屈折率１．３６〜１．３７）、フッ化ナトリウム（１．３２〜１．３４）、フッ化トリウム（１．４５〜１．５）の中から一種類または二種類以上を、熱硬化性または紫外線硬化性樹脂バインダーに分散した組成物などを挙げることができる。

樹脂バインダーとしてはポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ビニール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹脂、塩化ビニール樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂等の中から適宜選定すればよい。

また、その他にフッ素系重合体などを含んだ組成物なども好適に使用することができる。
４．高屈折率層
高屈折率層の屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定温度２５℃）は、１．４５〜２．１である。

高屈折率層の屈折率が１．４５未満であると、低屈折率層と組み合わせた場合に、反射防止効果が著しく低下することがあり、一方、２．１を超えると、使用可能な材料が過度に制限されることがある。

したがって、高屈折率層の屈折率は、１．４５〜２．１、好ましくは１．５５〜２．０、さらに好ましくは１．６〜１．９であることが望ましい。

高屈折率層の膜厚は、特に制限されるものではないが、例えば、０．０５〜３０μｍであることが好ましい。

高屈折率層の膜厚が０．０５μｍ未満であると、低屈折率層と組み合わせた場合に、反射防止効果や基板に対する密着力がそれぞれ低下する場合があり、一方、高屈折率層の膜厚が３０μｍを超えると、非連続の高屈折率層を均一に形成することが困難となる場合があるためである。

したがって、高屈折率層の膜厚は、０．０５〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜５μｍ、さらに好ましくは０．０６〜０．５μｍであることが望ましい。

なお、高屈折率層の膜厚は、低屈折率層と同様に、例えば、断面切片の透過型電子顕微鏡写真から実測した平均値（１０個所）と定義されるが、下面が平坦でない塗膜の場合には、ＪＩＳ Ｂ０６０１で規定される粗さ曲線（測定長１μｍ）における平均線間の距離として定義される。

また、平坦な高屈折率層の一部に穴やスリット等が形成され、実質的に平坦な底面および上面を有する非連続層である場合には、かかる高屈折率層の膜厚は、底面から上面まで
の垂直方向距離（断面高さ）を意味する。

高屈折率層は、たとえば高屈折率層形成用硬化性組成物を用いて形成することができる。このような高屈折率層形成用組成物は、高屈折率材料微粉末（例えば平均粒径が０．３〜２００nm、好ましくは０．５〜１００nm）として、酸化セリウム（屈折率２．２〜２．５）、硫化亜鉛（屈折率２．２〜２．３）、酸化チタン（屈折率２．２〜２．７）、酸化ジルコニウム（屈折率１．９５〜２．０）、酸化アルミニウム（屈折率１．５９〜１．６２）をバインダー樹脂に分散してなる熱硬化性または紫外線硬化性組成物を挙げることができる。

バインダー樹脂としては、低屈折率層を形成するための組成物と同様のものを挙げることができる。
５．導電層
本発明に用いられる導電性ポリマーとしては、透明性ならびに色調の観点から、ポリチオフェン及びその誘導体が好ましく、具体的にはチオフェン及びチオフェン誘導体を重合して得られ単独重合体あるいは共重合体が好ましく、ポリマーとしては公知である（例えば、特開平７−９００６０号参照）。この内、特に、ポリチオフェン、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）が好適に用いられる。

このような導電性ポリマーからなる導電層は、導電性ポリマーの分散塗布液を基材または積層体上に塗布することによって形成することができるが、以下に述べるように気相重合法によって形成すると、基材への密着性に優れた導電層が得られる。

また、気相重合法により形成される導電層は、薄膜として得ることができ、さらに基材への密着性、透明性、膜厚の制御性が優れることから、特に好適に用いられる。ここで言う気相重合法とは、基材表面に酸化剤を数μｍ単位で塗布し、単量体を気体状態で接触させることで、重合が進行し、導電性ポリマー膜を基材上に形成する。

このような導電層は、特開２００３−８２１０５号公報に記載された方法にて製造できる。

本発明で使用する酸化剤の種類としては、制限されるものではないが、遷移金属のハロゲン化物、過塩素酸などの強酸残基を有する遷移金属塩、ペルオキソ酸などの過酸類およびその塩などが用いられる。特に、ＣｕＣｌ₃、ＦｅＣｌ_3,トルエンスルホン酸鉄（III）、過塩素酸鉄（III）、Ｃｕ（ＣｌＯ₄）₂・６Ｈ₂Ｏ、（ＮＨ₄）₂Ｓ₂Ｏ₈が好ましく、これら酸化剤を有機溶剤に溶解させて用いる。

有機溶剤としては、メチルアルコール、２−ブチルアルコール、エチルセロソルブ、エチルアルコール、シクロヘキサン、アセトン、エチルアセテート、トルエン及びメチルエチルケトンから選択されるものを用いることができる。これらは、単独または２種ないし４種を混合して用いることができ、例えば、メチルアルコール、２−ブチルアルコール及びエチルセロソルブから構成される有機溶剤を７：２：１、６：２：２、６：３：１、５：３：２の割合で混合して用いる。

酸化剤を基材に塗布する際に、接着力を向上させる意味で、有機溶剤とともにポリウレタン、ポリ塩化ビニール、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、キトサンなどの高分子を併用することも可能である。

上記のような単量体を酸化剤が塗布された基材上で重合させて導電性ポリマーからなる導電層を形成するには、単量体を気相重合させるが、この際の反応温度は、０〜１００℃
であることが好ましい。

具体的には、まず第１段階として、基材の表面に０．５〜１０重量％の酸化剤を数μｍ単位で塗布する。この際の溶剤条件は使用基材の種類によって異なり、通常２種以上の有機溶剤を混合して用いる。酸化剤が塗布された基材は、酸化剤の分解を考慮し、８０℃以下の熱風乾燥機で乾燥させる。

次に第２段階として、酸化剤で塗布された基材に、ピロール、チオフェン、フラン、セレノフェン、３、４−エチレンジオキシチオフェン及びこれらの誘導体から構成される群から選択された単量体を、気化して接触させ、基材の表面で重合反応を行う。この際、単量体を気化させる方法としては、密閉されたチャンバー内で単量体を０〜１００℃で蒸留させる方法と、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）による方法などが挙げられる。こ
の時、温度条件と反応時間を調整することが好ましく、重合反応は、１０秒〜４０分程度行なわれ、一般的には、単量体の種類に応じて変化するが、膜厚および表面抵抗値などが目標値に達するまで行なう。

次いで第３段階として、重合が完了した後、未反応の単量体及び酸化剤を除去するための洗浄工程を行う。この際の使用溶剤としては、通常メタノールなどのアルコール類を用い、場合によっては水で洗浄することもできる。

上記のような一連の工程は、段階的または連続的に行われることができ、単量体の重合から導電膜の形成までは、一連の作業工程で処理することができる。得られた導電性ポリマーフィルムは、１Ｈ〜３Ｈ程度に鉛筆硬度を有し、基材に対する密着性は良好であり、アルコール溶剤に対する耐性も十分である。

導電層の膜厚は、１〜２０００ｎｍであることが好ましい。１ｎｍ未満の膜厚では、ピンホールなどが発生しやすく、膜形成が困難であり、また、表面抵抗も大きくなり、帯電防止性に劣る。また、２０００ｎｍを超える膜厚では、表面抵抗は良好であるが、透明性、色調が著しく劣り、反射防止フィルムとしては使用不可である。特に好ましい膜厚は、透明性、色調、表面抵抗のバランスの観点から、５〜３００ｎｍである。

また、導電層の表面抵抗は１０²Ω／□乃至１０⁸Ω／□である。
６．プラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム
本発明のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムの断面図の例を図１〜図４に示す。またこの反射防止フィルムは、基材／ハードコート層／導電層、基材／導電層／ハードコート層などの積層構造であってもよい。

このような反射防止フィルムにおける、ハードコート層、導電層、高屈折率層、低屈折率層などの各層は、基材の上面に設けられていてもよく下面に設けられていてもよく、あるいは両面に設けてもよい。

基材の上面あるいは下面のいずかに、あるいは両面にハードコート層と気相重合法により重合された導電性ポリマーからなる導電層を有するものは帯電防止膜として有用である。

また、基材の少なくとも一方の面に、少なくともハードコート層、屈折率１．４５〜２．１である高屈折率層、および屈折率１．３５〜１．５である低屈折率層が順次積層されてなり、さらに前記ハードコート層と高屈折率層との間または基材とハードコート層との間に導電性ポリマーからなる導電層を有する反射防止フィルムは帯電防止性および反射防止性に優れたものである。

本発明の反射防止フィルムにおいては、各層の少なくとも一方の面に、必要に応じて中屈折率層や保護層、粘着層などを適宜設けることが可能である。さらに、また、本発明においては、上記反射防止能、帯電防止能以外の他の機能については、何等限定されるものではなく、近赤外線遮蔽層、電磁波遮蔽層、色調補正層などを必要に応じて設けることができる。近赤外線遮蔽層、色調補正層としては、フタロシアニン系や金属錯体などの色素、染料を含有した透明樹脂フィルムあるいは、基材にこれらの色素、染料を分散させたものなどが知られている。電磁波遮蔽層としては、金属メッシュなど格子状に導電体を形成したもの、銀と金属酸化物の多層膜、ＩＴＯ膜などが知られている。

本発明のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムにおいては、表面抵抗は１０⁶〜１０¹²Ω／□、また、全光線透過率は８０％以上である。
７．プラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムの製造方法
本発明の反射防止フィルムは、基材表面上にハードコート層、導電性ポリマーからなる導電層、高屈折率層、低屈折率層を任意の順序で形成すればよく、各層の形式方法はすでに記載した。

このうち導電性ポリマーからなる導電層は、この導電層が形成される基材または積層体（たとえば基材とハードコート層との積層体）の表面に、すでに説明したように酸化剤を塗布し、単量体（モノマー）を気体状態でこの酸化剤と接触させて気相重合することにより形成することが好ましい。
［実施例］
以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されるものではない。また、実施例中、各成分の配合量は特に記載のない限り重量部を意味している。
（合成例）触媒溶液の調製
酸化剤としてのＦｅＣｌ₃を、メチルアルコール、２−ブチルアルコール及びエチルセ
ロソルブがそれぞれ６：３：１の割合で混合された溶剤に重量比で３％溶解させた触媒溶液とした。
［実施例１］
ポリエステルフィルムＡ４３００（東洋紡績（株）製、膜厚１００μｍ、）上にハードコート剤として「デソライトＺ７５０１」（ＪＳＲ株式会社製）を塗工し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。次いで、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ²の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜厚３μｍのハード
コート層を形成した。

ハードコート層を設けたポリエステルフィルムに、前記合成例で製造した触媒溶液をスピンコーティングした後、温度条件６０℃３分間乾燥させた。触媒溶液で塗布されたポリエステルフィルムあるいはハードコート層を設けたポリエステルフィルムは薄黄色であった。

次いでこのハードコート層および触媒塗膜が形成されたポリエステルフィルムを、飽和状態の３、４−エチレンジオキシチオフェン単量体が生成されるように設計されたＣＶＤチャンバー内で、前記触媒溶液塗布の基材を３０秒間反応させた後、未反応物を除去するためにメタノール溶剤で洗浄し導電層を形成した。

次いで、高屈折率層用硬化性組成物として「デソライトＫＺ７９８７Ｂ」（ＪＳＲ株式会社製）を、ワイヤーバーコータを用いて、導電層に塗工し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。次いで、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ²の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜厚が０．１μｍである高屈折
率層を形成した。

さらに、低屈折率層用硬化性組成物として「オプスターＪＮ７２１５」（ＪＳＲ株式会社製）を、高屈折率層上に、ワイヤーバーコータを用いて塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。この塗膜を、オーブンを用いて１４０℃、１分の条件で加熱し、膜厚が０．１μｍの低屈折率層とした。
（導電層の密着性）
基材上に製膜した導電層の密着性を、ＪＩＳ Ｋ５４００における碁盤目セロハンテープ剥離試験に準拠し、１ｍｍ角、計１００個の碁盤目における残膜率（％）で評価した。結果を表１に示す。
（反射防止フィルムの評価）
得られた反射防止フィルムにおける、反射率、全光線透過率、および濁度（ヘイズ値）、黄色度（ｂ＊）、表面抵抗を下記に示す測定法により測定した。
１）反射率および全光線透過率
得られた反射防止フィルムにおける反射率（測定波長における最低反射率）および全光線透過率を、分光反射率測定装置（大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ自記分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製）により、ＪＩＳ Ｋ７１０５（測定法Ａ）に準拠し測定した。すなわち、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、５５０ｎｍ近辺の干渉振動の中心点における反射率および全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。

なお、干渉振動性は以下のように定義する。すなわち、５５０ｎｍ近辺に最大反射率をＡ、最小反射率をＢとし場合、干渉振動性Ｃは、Ｃ＝Ａ／Ｂで表す。結果を表１に示す。例えば、下記図５の場合、Ａ＝１．１％、Ｂ＝０．８％でＣ＝１．４となる。この値が小さい方が、ギラツキ感が少なく、反射防止特性は優れている。
２）濁度（ヘイズ値）／黄色度（ｂ＊）
得られた反射防止フィルムにつき、カラーヘイズメーター（須賀製作所（株）製）を用いて、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に準拠してヘイズ値並びに黄色度（ｂ＊）を測定した。得られた結果を表１に示す。
３）表面抵抗
得られた反射防止フィルムにつき、ハイレジスタンスメーター（ヒューレット・パッカード社製造ＨＰ４３３９）並びに三菱化学製ロレスターＥＰを用い測定した。
［実施例２］
図２の膜構成の反射防止フィルムを作製し、反射率、表面抵抗等の評価を行った。得られた結果を表１に示す。導電層はポリ（３、４−エチレンジオキシチオフェン）を用いた。
［実施例３］
導電層として、バイエル社製Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐ（ポリ（３、４−エチレンジオキシチオフェンの水分散液）をスピンコーティングしたものを用い、図３の膜構成の反射防止フィルムを作製し、反射率、表面抵抗等の評価を行った。得られた結果を表１に示す。
［実施例４］
図４の膜構成の反射防止フィルムを作製し、反射率、表面抵抗等の評価を行った。得られた結果を表１に示す。導電層は実施例３と同様に、バイエル社製Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐをスピンコーティングしたものを用いた。
［比較例１］
比較例１では、表１に示すように、導電層なしの反射防止フィルムを作製し、反射率、表面抵抗等の評価を行った。得られた結果を表１に示す。

本発明の反射防止フィルムの断面図である（その１）。 本発明の反射防止フィルムの断面図である（その２）。 本発明の反射防止フィルムの断面図である（その３）。 本発明の反射防止フィルムの断面図である（その４）。 干渉振動性を説明するための反射率チャート。

Claims (7)

1. 基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層と、導電性ポリマーからなる導電層とが設けられていることを特徴とするプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
2. 基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層、導電性ポリマーからなる導電層、高屈折率層、および低屈折率層が任意の順序で設けられていることを特徴とするプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
3. 導電性ポリマーがポリチオフェンもしくはその誘導体であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
4. 導電性ポリマーが気相重合により得られたポリチオフェンもしくはその誘導体であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
5. 導電性ポリマーの膜厚が、１〜２０００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
6. 導電性ポリマーの膜厚が５〜３００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルム。
7. 基材の少なくとも一面に、導電性ポリマーからなる導電層を有する請求項１〜６のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムを製造するに際して、導電層を形成する基材または積層体の表面に酸化剤を塗布し、単量体を前記酸化剤と接触させて気相重合により、基材または積層体の表面により導電性ポリマーからなる導電層を形成することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ前面板用反射防止フィルムの製造方法。

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