JP5156753B2 - ディスプレイパネル用光学フィルター及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明はディスプレイパネル用光学フィルター及びその製造方法に関する。本発明は特に電磁波遮蔽層がグラビアオフセット方法でガラス基板に直接形成されたＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用光学フィルターに関するものである。

ディスプレイパネルは通常、人体への有害な影響と精密機器の誤作動を引き起こす電磁波及び近赤外線を遮断することができる光学フィルターを採用している。

前記の有害電磁波を遮断するために既に採用されているＰＤＰ用光学フィルターは、１）銅箔をポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート）基材フィルム上に付着させた後、銅箔をエッチングによりパターン化した金属メッシュフィルム、２）金属繊維または金属被覆された有機繊維などをフィルム基材上に加工してパターン化させた繊維メッシュフィルム、または３）スパッタリングのようなドライコーティング法によって、金属（Ａｇ）層と誘電層を交互に多層薄膜で被覆した導電膜、の３種に一般的に分類される。

しかし、これら電磁波遮蔽フィルターは製造工程が複雑で、製造過程において失われる原材料量が多くて原価が高い。また、電磁波遮蔽層の形成のための別途のフィルム基材及びフィルターで製造する時に前記フィルムを付着できる粘着層などを別途に要する問題を有している。特に、図１に示したようなメッシュタイプで形成された既存の電磁波遮蔽フィルターの場合にヘーズが高くて鮮明な画質を実現するのが難しい。したがって、改良されたフィルターをメッシュタイプの電磁波遮蔽層として用いるには、独立してフィルターが可視光に対して透明になるように粘着層として透明樹脂層を形成する必要がある。

従って、当該技術分野においては優れた電磁波遮断性能及び光学特性を示すと共に、低コストで製造工程が単純である、ＰＤＰフィルターに対する開発の要求が増大している。

従って、本発明の課題は、改善されたディスプレイ用光学フィルターの製造方法を提供することである。

前記の課題を解決するために、本発明では、透明ガラス基板及び電磁波遮蔽層を含むディスプレイ用光学フィルターを製造する方法において、前記電磁波遮蔽層を、（ａ）アクリレート高分子樹脂５乃至３０重量％、（ｂ）沸点２００℃またはそれを超える高沸点溶剤５乃至３５重量％、（ｃ）沸点２００℃またはそれ未満の低沸点溶剤５乃至３５重量％、及び（ｄ）金属粉末５０乃至８５重量％を含む組成物をガラス基板上に直接印刷することによって形成することを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法を提供する。

通常の光学フィルターの構造を示した断面図である。 本発明の一実施例による光学フィルターの構造を示した断面図である。 本発明の他の実施例による光学フィルターの構造を示した断面図である。

本発明によれば、電磁波遮蔽層は、ガラス基板に、例えばグラビアオフセット印刷法を活用して導電性メッシュパターンを直接形成することにより形成される。このように形成された電磁波遮蔽層は膜付着力などの機械的特性及び電気伝導性に優れている。

本発明において電磁波遮蔽層の原材料として用いられる組成物は、（ａ）アクリレート高分子樹脂５乃至３０重量％、（ｂ）沸点２００℃またはそれを超える高沸点溶剤５乃至３５重量％、（ｃ）沸点２００℃またはそれ未満の低沸点溶剤５乃至３５重量％、及び（ｄ）金属粉末５０乃至８５重量％を含む。

本発明に用いられる前記成分（ａ）のアクリレート高分子樹脂は、通常のアクリレート高分子樹脂を使用できることは勿論、望ましくは不飽和カルボン酸単量体、芳香族単量体、及びその他の単量体を重合して製造することができる。

前記不飽和カルボン酸単量体は強化した水素結合を通してアクリレート高分子樹脂の弾性を増加させるために用いられる。具体的に不飽和カルボン酸単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などをあげられる。前記不飽和カルボン酸単量体はアクリレート高分子樹脂製造時に用いられる総単量体を基準として２０乃至５０重量％用いられるのが望ましい。前記不飽和カルボン酸単量体の含有量が前記範囲内の場合には、前記高分子樹脂の所望の弾性特性及び所望の重合度をえることができ、また重合時ゲル化を防止することができる。

前記芳香族単量体はガラス支持体との密着性と安定したパターンを形成させる作用をする単量体であり、具体的にスチレン、ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、２−ニトロフェニルアクリレート、４−ニトロフェニルアクリレート、２−ニトロフェニルメタクリレート、４−ニトロフェニルメタクリレート、４−クロロフェニルアクリレートなどを用いることができる。前記芳香族単量体はアクリレート高分子樹脂製造時に用いられる総単量体を基準として１０乃至３０重量％用いられるのが望ましく、さらに望ましくは１５乃至２０重量％に含まれる。前記芳香族単量体の含有量が前記範囲内の場合に、パターンの基板との接着力、パターンの良好な直進性、安定したパターン実現、焼成工程時の有機物の容易な除去を全て満足させることができる。

前記不飽和カルボン酸単量体と芳香族単量体以外にアクリレート高分子樹脂製造時に用いられるその他の単量体は、高分子のガラス転移温度と極性を調節するために用いられる。前記のその他の単量体は２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどのアクリル系単量体を用いることができる。その他の単量体の含有量はアクリレート高分子樹脂のガラス転移温度、得られたパターンの耐熱性、パターンと基材との親密性などを考慮して、アクリレート高分子樹脂製造時に用いられる総単量体を基準に２０乃至６０重量％使用された方が良い。

このような単量体を重合して製造されるアクリレート高分子樹脂は、不飽和カルボン酸単量体、芳香族単量体及びその他の単量体のゲル化を防止し、オフセット印刷工程時に適切な揮発性を付与できるように溶媒下で重合して製造することができる。前記溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチルエーテルプロピオネート、テルピネオール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルアミノホルムアルデヒド、メチルエチルケトン、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル、またはこれらの混合物があげられる。

前記不飽和カルボン酸単量体、芳香族単量体及びその他の単量体を溶媒の存在下で重合して得られた前記アクリレート高分子樹脂は、重量平均分子量が１０，０００乃至１００，０００であるのが望ましく、さらに望ましくは２０，０００乃至５０，０００であるのが良い。前記アクリレート高分子樹脂の重量平均分子量が前記範囲内の場合には、アクリレート高分子樹脂のガラス転移温度が低く、そのため、アクリレート高分子樹脂は、オフセット印刷工程時のグラビア溝からブランケットへのパターン転写を満足できる流動性を有するようになり、また、アクリレート高分子樹脂の良好な弾性特性により、グラビア溝への組成物の投入を満足できるようになる。

前記アクリレート高分子樹脂は本発明の組成物に５乃至３０重量％に含まれるのが望ましい。前記アクリレート高分子樹脂の含有量が５重量％未満の場合には組成物の弾性減少によってオフセット印刷工程を効率良く行いにくい。一方、前記アクリレート高分子樹脂の含有量が３０重量％を超過する場合には形成されたパターンの電気抵抗が増加するようになる。

前記成分（ｂ）である、沸点２００℃またはそれを超える高沸点溶剤としては、γ‐ブチロラクトン、ブチルカルビトールアセテート、カルビトール、メトキシメチルエーテルプロピオネート、テルピネオール、またはこれらの混合物があげられる。

前記高沸点溶剤は本発明の組成物に５乃至３５重量％の含有量で用いられる。前記高沸点溶剤の含有量が５重量％未満の場合には、オフセット印刷工程でのパターンの転写において、前記組成物の流動性が不十分となる。一方、高沸点溶剤の含有量が３５重量％を超過する場合には得られるパターンのオフ特性及び直進性が悪化しうる。

また、前記成分（ｃ）である、沸点が２００℃またはそれ未満の低沸点溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、乳酸エチル、またはこれらの混合物があげられる。

前記低沸点溶剤は本発明の組成物に対して５乃至３５重量％で含まれるのが望ましい。前記低沸点溶剤の含有量が５重量％未満である場合には、得られるパターンのオフ特性及び直進性が悪化しうる。一方、前記低沸点溶剤の含有量が３５重量％を超える場合には、オフセット印刷工程でのパターンの転写において、前記組成物の流動性が不十分となる。

前記高沸点溶剤と低沸点溶剤の総量は、本発明の組成物の全量に対して４０重量％以下であるのが望ましい。前記高沸点溶剤と低沸点溶剤の総量が４０重量％を超過する場合には、前記組成物が低粘度になり印刷特性が悪化しうる。

従って、前記高沸点溶剤と低沸点溶剤は、本発明の組成物の粘度が５，０００乃至２０，０００ｃＰになるように、適切に混用するのがよい。

前記成分（ｄ）である、金属粉末としては、ディスプレイ用電極形成に用いることができる金属の粉末や電磁波遮蔽用として用いることができる金属粉末であれば特に限定されない。金属粉末は、好ましくは、銀、銅、ニッケル、ＡＴＯ（アンチモン錫酸化物）またはこれらを含む合金などの粉末である。

前記金属粉末は本発明の組成物に５０乃至８５重量％に含まれる。前記金属粉末の含有量が５０重量％未満の場合には要求される電磁波遮蔽性能を達成するのが難しい。一方、前記金属粉末の含有量が、８５重量％を超過する場合には前記組成物の粘度が上昇して分散性に問題が生じる。

本発明の組成物は、必要に応じて、金属粉末の分散のための分散剤、コントラスト比の調節のためのブラック顔料、焼成時ガラスとの接着力増加のためのガラスパウダー等の添加剤を選択して追加的に含むことができる。前記添加剤の含有量は本発明の組成物に対して０．０１乃至１０重量％であるのが望ましく、さらに望ましくは０．１乃至３重量％を用いるのが良い。

本発明の前記組成物を利用して形成された電磁波遮蔽層は、０．２乃至１．２Ω／□程度の低い表面抵抗を有する。

前記電磁波遮蔽層に加え、本発明のディスプレイ用光学フィルターは、当業界で公知の通常の機能層、例えば、反射防止層、近赤外線遮断及び選択的吸光層、を有してもよい。

前記近赤外線遮断及び選択的吸光層は近赤外線遮断物質及び選択的吸光物質を含む。前記近赤外線遮断物質としては、ニッケル錯体系化合物とジアンモニウム系化合物の混合物や、銅や亜鉛イオンを含有する色素化合物及び有機物色素などがあげられ、選択的吸光物質としては、オクタフェニルテトラアザ‐ポルフィリンまたはテトラアザ‐ポルフィリン環の中心に金属元素が存在する金属錯体誘導体色素や、アンモニア、水及びハロゲンで構成された群から選ばれる材料が前記金属元素に配位結合を成したものがあげられる。前記近赤外線遮断及び選択的吸光層は、近赤外線遮断物質及び選択的吸光物質に係る前記色素と透明プラスチック樹脂を溶剤中で混合して溶液混合物を調製し、当該溶液混合物を透明基材上に１乃至２０μｍの厚さに塗布して製造することができる。ここで、透明プラスチック樹脂としては、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）、ポリ（ビニルブチラール）（ＰＶＢ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等があげられ、前記溶剤としてはトルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等があげられる。

反射防止層は、低屈折率単層膜を、基材フィルム上に耐スクラッチ処理した後、アクリル樹脂でハードコーティングを施して形成してもよく、高屈折率透明膜と低屈折率透明膜を交互に積層することによって形成してもよい。反射防止層は、前記材料を真空成膜する方法と前記材料が含まれている溶液を湿式方式でロールコーティングしたりダイコーティングする方法により形成することができる。

前記反射防止層、並びに前記近赤外線遮断及び選択的吸光層は別途の基材上に形成でき、一つの基材上で両面（前面、背面）に各々形成されることもできる。前記近赤外線遮断及び選択的吸光層は粘着剤に近赤外線遮断色素及び選択的吸光色素を混入させることによって形成してもよい。

本発明による光学フィルターの好ましい実施例を図２及び図３に示す。図２を参照すると、ディスプレイパネル用光学フィルターは、外部光の反射を防止するための反射防止層２００を透明粘着層２２０によって近赤外線遮断及び選択的吸光層２４０上に配置して外部と対向させ、電磁波遮蔽層２７０を前記記載された方法でガラス基板２６０上に直接形成し、近赤外線遮断及び選択的吸光層２４０を透明粘着層２５０によって電磁波遮蔽層２７０と対向するガラス基板２６０の反対面（前面）に積層して得ることができる。図３を参照すると、ディスプレイパネル用光学フィルターは、外部光の反射を防止するための反射防止層３００を外部へ向かうように配置し、電磁波遮蔽層３４０を前記記載された方法でガラス基板３３０上に直接形成し、近赤外線遮断及び選択的吸光層３６０を透明粘着層３５０によって電磁波遮蔽層３４０と対向するガラス基板３３０の後面に積層して得ることができる。図面に示されてはいないが、ディスプレイパネル用光学フィルターは反射防止層、及び近赤外線遮断及び選択的吸光層を基材フィルムの前面及び背面にそれぞれ直接形成してもよい。このような場合、電磁波遮蔽層及び反射防止層は基材フィルムの表面に配置されることができる。また、粘着層は近赤外線遮断機能及び選択的吸光機能を有することができる。

このような本発明の光学フィルターは３８０乃至７８０ｎｍの波長範囲に対して３０乃至６０％の透過率を有する。また、各機能性フィルムをラミネーティングした後に別途の透明シートを貼り合せていない状態で測定したヘーズが１〜６％で非常に低い。

このように形成されたディスプレイ用光学フィルターはＴＶセットに別途の治具を介して固定して用いることができる。

本発明の方法によって製造されたディスプレイ用光学フィルターは、従来のエッチング工程で製造される電磁波遮断メッシュフィルムとは異なって、グラビアオフセット印刷に適した印刷用ペーストをガラス基板に直接適用することにより形成された電磁波遮断層を有する。このため、本発明の製造方法では、ポリエステルフィルム及び粘着層を用いる必要がなく、フィルターの構造が顕著に単純化され、同時に光透明性が上昇して、ディスプレイ最終画質特性を顕著に改善できる。また、本発明の単純な工程で低抵抗実現が可能であるため、一般家庭用ＰＤＰテレビなどへの適用が可能であり、従来のエッチングタイプで実現されたメッシュフィルムから根本的な問題として指摘されている材料費の問題を基本的に解決して低価に光学フィルターを製作できる効果がある。

以下、実施例を介して本発明をより詳しく説明する。下記の実施例は本発明の理解を助けるための例示目的で提供されているだけであり、特許請求の範囲に記載された保護範囲を制限するものではない。

（実施例１）
下記のような方法でペースト組成物を製造した。

アクリレート高分子樹脂として、メタクリル酸（ＭＡ）、ベンジルアクリレート（ＢＡ）、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（２−ＨＥＭＡ）及びメチル（メタ）アクリレート（ＭＭＡ）を３０：２０：１０：４０の重量比率で重合された、重量平均分子量２５,０００のアクリレート高分子樹脂１５重量部；高沸点溶剤としてのテルピネオール（α−、β−、γ−テルピネオール混合物）１０重量部;低沸点溶剤としてのプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート（ＰＧＭＥＰ）１０重量部;金属粉末として銀粉末６３重量部;及びアミン基を含む有機分散剤ＤＳ−１０１（韓国サンノプコ社製）２重量部を常温で混合、攪拌して、最終的に３−ロールミルでミリングして、所望の印刷用ペースト組成物を得た。

このペースト組成物を、ガラス基板の表面にグラビアオフセット印刷を実施して電磁波遮蔽層を形成した。具体的には、前記で製造した印刷用ペースト組成物をグラビア板に塗布した後、ブレードを利用して均一な厚さにした後、ブランケットにグラビア板の組成物を転写させた（オフ工程）。その後、ブランケットに転写したパターンをＵＶランプを利用して１次硬化させた後、得られたパターンをガラス基板に転写させた（セット工程）。前記基板に転写したパターンをＵＶランプを利用して２次硬化させて熱処理を通し不純物除去工程を経て電磁波遮蔽層を形成させた。

（実施例２及び比較例１乃至２）
下記表１に示したような組成を使って実施例１と同じ方法で電磁波遮蔽層を形成した。

（実施例３）
図２に概略的に示した構造のディスプレイ用光学フィルター積層体を下記のように製造した。

まず、ポリエステルフィルム上にハードコーティング層、ジルコニウム酸化物系高屈折膜、フッ化シロキサン系低屈折膜を湿式コーティング法で順次に積層して反射防止層を得た。一方、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）１０００ｍｌにポリ（メチルメタクリレート）３００ｇを完全に溶解させた後、ここにオクタフェニルテトラアザ‐ポルフィリン１００ｍｇ及びＩＦＧ０２２（日本化薬社製）１５０ｍｇを加えて溶解させた。次いで、これに、イソプロピアルコール５０ｍｌ中にアクリジンオレンジ（アルドリッチケミカル社）１２０ｍｇを有する溶液をゆっくり加えて、得られた溶液を２軸延伸フィルムに湿式コーティング法で塗布（約５μｍの乾燥厚さ）することによって近赤外線遮断及び選択的吸光層を得た。

次に、アクリル系透明粘着剤をシリコン離型層がコーティングされている離型フィルムの離型層上に連続的にコンマコーティング方式で塗布し、熱風乾燥した。その後に、他の離型フィルムを塗布面の上に合紙して、両面が離型可能に処理された透明粘着層をロール状で得た。

透明粘着層の離型フィルムを剥離しながら、上記反射防止フィルムと近赤外線遮断及び選択的吸光層を、圧力３ｋｇｆ／ｍ^２を加えて、実施例１で得られた電磁波遮蔽層が形成されたガラスに付着させて、ディスプレイ用光学フィルターを製造した。

（実施例４）
実施例２で得られた電磁波遮蔽層を用いたことを除いては実施例３と同じ方法でディスプレイ用光学フィルターを製造した。

（比較例３）
比較例１で得られた電磁波遮蔽層を用いたことを除いては実施例３と同じ方法でディスプレイ用光学フィルターを製造した。

（比較例４）
比較例２で得られた電磁波遮蔽層を用いたことを除いては実施例３と同じ方法でディスプレイ用光学フィルターを製造した。

（比較例５）
ライン幅が１０μｍであり、ラインピッチが３００μｍであり、開口率が約９３％の特性を有するエッチングタイプのメッシュフィルム（日本フィルコン社製）に透明粘着剤を塗布及び乾燥させた後、離型フィルムをラミネーティングして電磁波遮蔽層を形成することを除いては、実施例３と同じ方法で反射防止層、粘着層、近赤外線遮断及び選択的吸光層を製造した。

このように別途に形成された電磁波遮断フィルムを、離型フィルムを除去しながら、圧力３ｋｇｆ／ｍ^２を加えてガラス基板に付着して、図１に示されたディスプレイ用光学フィルターを製造した。

（特性試験）
前記実施例３及び４と、比較例３及び５により製造されたディスプレイ用光学フィルターに対して、ＡＳＴＭのＤ２５７規格に従って、同じ間隔の４つ探針で構成された４ポイントプローブ（４ｐｏｉｎｔ ｐｒｏｂｅ）を使って表面抵抗を測定した。同時に分光計（モデル名：日本電色工業社製のＮＤＨ）で透過率とヘーズを測定した。また、電磁波遮蔽層のメッシュ最小線幅を光学顕微鏡を使って同時に測定し、メッシュパターンの形状を同じ光学顕微鏡を使って評価した。前記測定結果を下記表２に示す。

前記表１に示したように、実施例３及び実施例４で得られた光学フィルター、即ち、本発明によるペースト組成物を用いてグラビアオフセット印刷法によってガラスに直接成形した電磁波遮蔽層を使って製作された光学フィルターの場合には、ヘーズ値が約３％であり、実施例３及び実施例４で得られた光学フィルターの透明性は、比較例３乃至比較例５で得られた光学フィルターに比べて優れていることが分かる。

メッシュパターン形状を比較した結果、実施例３及び４で得られた光学フィルターは、パターン線幅が１５〜２０μｍ程度に均一に形成されている。一方、比較例３で得られた光学フィルターはパターン線幅が５０μｍ程度で広く、パターンの直進性も不良であり、外観が不良であった。光透過率に関しては、比較例３で得られた光学フィルターは、メッシュ線幅が広く、パターンの直進性も不良であり、３５％の低透過率であり、本発明の近赤外線遮断及び選択的吸光層を利用したフィルター透過率に比べて低いことが分かる。

実施例４で製造した光学フィルターは、印刷パターンが不良であり、このため、表面抵抗及びメッシュパターン線幅を評価することができなかった。

また、既存光学フィルターで汎用的に使用されているエッチングタイプのメッシュフィルムを用いた、比較例５で得られた光学フィルターは、メッシュフィルムに起因したヘーズによってフィルター全体のヘーズが非常に高まっていることが分かる。

電磁波遮蔽能力の尺度として一般に用いられる表面抵抗は、実施例３、４で得られた光学フィルターは、表面抵抗が０．４〜０．８Ω／□であり、既存光学フィルター（比較例５）に一般に使用されているエッチングタイプのメッシュフィルムを用いた場合の表面抵抗（０．０５Ω／□）よりは多少高い。現在光学フィルター事業分野において家庭向けＰＤＰテレビ用として実際採択されている多層スパッタリングタイプ導電膜で形成された電磁波遮蔽膜の抵抗が０．８〜１．２Ω／□であることを考慮すると、実施例３、４で得られた光学フィルターは、電磁波遮蔽効果も優れていることが分かる。

１００ 反射防止層
１１０ 基材フィルム
１２０ 粘着層
１３０ ガラス基板
１４０ 粘着層
１５０ 基材フィルム
１６０ 電磁波遮蔽層
１７０ 粘着層
１８０ 近赤外線遮断及び選択的吸光層
１９０ 基材フィルム
２００ 反射防止層
２１０ 基材フィルム
２２０ 粘着層
２３０ 基材フィルム
２４０ 近赤外線遮断及び選択的吸光層
２５０ 粘着層
２６０ ガラス基板
２７０ 電磁波遮蔽層
３００ 反射防止層
３１０ 基材フィルム
３２０ 粘着層
３３０ ガラス基板
３４０ 電磁波遮蔽層
３５０ 粘着層
３６０ 近赤外線遮断及び選択的吸光層
３７０ ガラス基板

Claims (15)

1. 透明ガラス基板及び電磁波遮蔽層を含むディスプレイ用光学フィルターを製造する方法において、前記電磁波遮蔽層を、組成物全重量に基づき、（ａ）アクリレート高分子樹脂５乃至３０重量％、（ｂ）沸点２００℃を超える高沸点溶剤５乃至３５重量％、（ｃ）沸点２００℃未満の低沸点溶剤５乃至３５重量％、及び（ｄ）金属粉末５０乃至８５重量％を含む組成物をガラス基板上にグラビアオフセット印刷法によって導電性メッシュパターンを直接印刷することによって形成し、
   前記成分（ｂ）の高沸点溶剤がγブチロラクトン、ブチルカルビトールアセテート、カルビトール、メトキシメチルエーテルプロピオン酸塩及びテルピネオール（ｔｅｒｐｉｎｅｏｌ）で構成される群の中で選択された１種以上であり、
   前記成分（ｃ）の低沸点溶剤がプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオン酸塩、エチルエーテルプロピオン酸塩、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、及び乳酸エチルで構成される群の中で選択された１種以上であることを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
2. 前記光学フィルターは反射防止層、並びに近赤外線遮断及び選択的吸光層からなる群より選択された少なくとも１つをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
3. 前記電磁波遮蔽層の表面抵抗が０．２乃至１．２Ω／□であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
4. 電磁波遮蔽層、反射防止層、並びに近赤外線遮断及び選択的吸光層の各層フィルムを積層した後に別途の透明シートを貼り合せていない状態で測定したディスプレイ用光学フィルターのヘーズが１〜６％であることを特徴とする請求項２に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
5. 前記成分（ａ）のアクリレート高分子樹脂が、ｉ）不飽和カルボン酸単量体２０乃至５０重量％、ｉｉ）芳香族単量体１０乃至３０重量％、及びｉｉｉ）２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、及びｎ−ブチルアクリレートで構成される群から選択される少なくとも１種の単量体２０乃至６０重量％（高分子の全重量を基準にした重量％）を溶媒下で重合して製造されたものであることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
6. 前記不飽和カルボン酸単量体が、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これらの酸無水物、及びこれらの混合物で構成される群から選択されることを特徴とする請求項５に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
7. 前記芳香族単量体が、スチレン、ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、２−ニトロフェニルアクリレート、４−ニトロフェニルアクリレート、２−ニトロフェニルメタクリレート、４−ニトロフェニルメタクリレート、２−ニトロベンジルメタクリレート、４−ニトロベンジルメタクリレート、２−クロロフェニルメタクリレート、４−クロロフェニルアクリレート、２−クロロフェニルメタクリレート、及び４−クロロフェニルメタクリレート、及びこれらの混合物で構成される群から選択されることを特徴とする請求項５に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
8. 前記成分（ａ）のアクリレート高分子樹脂は、重量平均分子量が１０,０００乃至１００,０００であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
9. 前記高沸点溶剤と低沸点溶剤の総量が、組成物全重量に基づき、４０重量％以下であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
10. 前記組成物の粘度が５，０００乃至２０，０００ｃＰ範囲であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
11. 反射防止層がフィルターの最外部に形成されることを特徴とする請求項２に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
12. 近赤外線遮断及び選択的吸光層、並びに反射防止層が一つの透明ガラス基材の両面に各々形成されていることを特徴とする請求項２に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
13. 近赤外線遮断及び選択的吸光層が、近赤外線遮断色素及び選択的吸光色素を粘着剤に混入させたものによって形成されていることを特徴とする請求項２に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
14. 請求項１乃至請求項１３のいずれか一項による方法で製造されたことを特徴とするディスプレイ用光学フィルター。
15. ３８０乃至７８０ｎｍの波長範囲に対する光透過率が３０乃至６０％であることを特徴とする請求項１４に記載のディスプレイ用光学フィルター。

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