JP2001359024A - ディスプレイ用前面板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 プロジェクションテレビやプラズマディスプ
レイテレビなどに用いられる前面板であって、反射によ
る周辺環境等の映り込みが少なく、また特に耐擦傷性に
も優れた前面板を提供する。 【解決手段】 表面に反射防止層を設けたディスプレイ
用前面板が提供される。この反射防止層は、前面板本体
の表面に設けた少なくとも二層からなり、前面板本体側
の第１層が、その上の第２層よりも高い屈折率を有する
ようにするのが有利であり、さらには、不飽和二重結合
を少なくとも２個有し、紫外線等の照射により重合可能
な化合物又はそのオリゴマー（Ａ）、有機ケイ素化合物
又はその重合体（Ｂ）並びに、酸化ジルコニウム、酸化
チタン、酸化スズ及び酸化アンチモンから選ばれる金属
酸化物の粒子（Ｃ）を含有する被膜を硬化してなる高屈
折率の第１層と、有機ケイ素化合物の硬化物からなる低
屈折率の第２層とで構成するのが一層有利である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ、す
なわち表示装置用の前面板に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、陰極線管（ＣＲＴ）テレビジョン
に代わり、より大きな画面が得られる映像方式として、
背面投写方式のプロジェクションテレビやプラズマディ
スプレイが用いられるようになってきている。また、液
晶ディスプレイも画面の大型化が進んでいる。これらの
ディスプレイには、画面を保護する目的で前面板を取り
付けることが多く、その前面板には、表面の傷付きを防
止するため、架橋被膜によるハードコート層（耐擦傷性
被膜）が設けられることが多い。さらに、画像のコント
ラストを高めるため、染料や顔料を添加して可視光の透
過率を低減させることもある。

【０００３】プロジェクションテレビやプラズマディス
プレイ方式のテレビ、あるいは液晶ディスプレイは、大
型でかつ平面であるため、従来のＣＲＴディスプレイに
比べて、より多くの反射による周辺環境や人の映り込み
が画面上に見られる。また、従来のＣＲＴ方式に比べて
画像の輝度が低いため、反射による周辺環境等の映り込
みがあると、画像の視認性が低くなる。さらに、保護板
としての機能を有する前面板には、耐擦傷性が要求され
る。さらにまた、画像のコントラストを高めるべく、前
面板を構成する樹脂基材に染料や顔料を添加することが
あるが、それにより可視光の透過率が低下するため、染
料や顔料の添加量には限界があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、プロジェクションテレビやプラズマディスプレイテ
レビ、あるいは液晶ディスプレイなどに用いられる前面
板であって、反射による周辺環境等の映り込みが少な
く、視認性の良好なものを提供することにある。

【０００５】本発明の別の目的は、耐擦傷性に優れ、画
像コントラストをも向上させうるディスプレイ用前面板
を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】研究の結果、ディスプレ
イ用前面板の表面の少なくとも一部に反射防止層を設け
ることにより、周辺環境や人の映り込みが低減できるこ
とを見出した。また、その反射防止層が、前面板本体の
表面に設けられた少なくとも二層からなり、前面板本体
側の第１層の方が、その上に設けられた第２層よりも高
い屈折率を有するようにすることで、視認性とともに硬
度も改良できることを見出した。特にこの第１層は、不
飽和二重結合を少なくとも２個有し、活性化エネルギー
線の照射により重合可能な化合物又はそのオリゴマー
（Ａ）、有機ケイ素化合物又はその重合体（Ｂ）並び
に、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ及び酸化
アンチモンから選ばれる金属酸化物の粒子（Ｃ）を含有
する組成物からなる被膜が硬化されてなる高屈折率層と
し、第２層は有機ケイ素化合物の硬化物からなる低屈折
率層とした場合には、反射防止性だけでなく、十分な耐
擦傷性をも有するディスプレイ用前面板が提供できるこ
とを併せて見出した。このような反射防止層を設けるこ
とで、可視光の透過率が高まるため、反射防止層のない
前面板と同等の透過率を得るには、より多くの染料や顔
料を前面板本体の材料に添加でき、そのために画面のコ
ントラストをより向上させることができる。

【０００７】

【発明の実施の形態】ディスプレイ用前面板の本体とな
る基材は、透明樹脂であれば特に限定されないが、例え
ば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、スチレン−アクリル共重合体、トリアセチルセ
ルロース樹脂、ポリエステル樹脂のようなプラスチック
材料、及び無機ガラスのような無機材料が挙げられる。
前面板本体となる材料中には、染料や顔料のような着色
剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤など、各種の添加剤が含
まれていても構わない。前面板本体は、単層でも構わな
いし、異なる樹脂同士又は着色層と透明層等との二層構
成、あるいはそれ以上の層の多層構成でも構わない。前
面板の厚さは特に限定されないが、通常１〜１０mm程度
である。前面板の表面は、平滑であってもよいし、微細
な凹凸が設けられていてもよい。また平面形状でもよい
し、曲面を有していても構わない。

【０００８】このような前面板本体の表面の少なくとも
一部に反射防止層が設けられる。この反射防止層は、高
屈折率層と低屈折率層とから構成され、前面板本体上に
高屈折率層、低屈折率層の順で形成するのが好ましい。

【０００９】そして高屈折率層は、不飽和二重結合を少
なくとも２個有し、活性化エネルギー線の照射により重
合可能な化合物又はそのオリゴマー（Ａ）、有機ケイ素
化合物又はその重合体（Ｂ）並びに、酸化ジルコニウ
ム、酸化チタン、酸化スズ及び酸化アンチモンから選ば
れる金属酸化物の粒子（Ｃ）を含有する組成物からなる
被膜を硬化させて形成するのが好ましい。以下、高屈折
率層を形成するために用いられる、活性化エネルギー線
の照射により重合可能な化合物又はそのオリゴマー
（Ａ）を成分（Ａ）と、有機ケイ素化合物又はその重合
体（Ｂ）を成分（Ｂ）と、また酸化ジルコニウム、酸化
チタン、酸化スズ及び酸化アンチモンから選ばれる金属
酸化物の粒子（Ｃ）を成分（Ｃ）と呼ぶことがある。

【００１０】成分（Ａ）は、不飽和二重結合を少なくと
も２個有する化合物である。かかる化合物は、活性化エ
ネルギー線の照射を受けて重合することができる。不飽
和二重結合を少なくとも２個有する化合物としては、例
えば、多官能アクリレート化合物などが挙げられる。こ
こで、多官能アクリレート化合物とは、分子中に少なく
とも２個のアクリロイルオキシ基及び／又はメタクロイ
ルオキシ基を有する化合物をいう。以下、アクリロイル
オキシ基とメタクロイルオキシ基とをまとめて（メタ）
アクリロイルオキシ基と呼ぶ。

【００１１】成分（Ａ）となりうる多官能アクリレート
化合物としては、例えば、次のようなものを挙げること
ができる。

【００１２】エチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジ
オールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロ
ールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタン
テトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリア
クリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイル
オキシエチル）イソシアヌレート、

【００１３】エチレングリコールジメタクリレート、ジ
エチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサ
ンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコール
ジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、
テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメ
チロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロ
ールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリス
リトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトール
テトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシ
アヌレート、

【００１４】ホスファゼン化合物のホスファゼン環に
（メタ）アクリロイルオキシ基が導入されたホスファゼ
ン系（メタ）アクリレート化合物、分子中に少なくとも
２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物と少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基
及び少なくとも１個の水酸基を有するポリオール化合物
とを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート
化合物、分子中に少なくとも２個のカルボニル基を有す
るカルボン酸ハロゲン化物と少なくとも１個の（メタ）
アクリロイルオキシ基を有するポリオール化合物とを反
応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート化
合物など。

【００１５】成分（Ａ）を構成するこれらの化合物は、
それぞれ単独で又は２種以上混合して用いることができ
る。また成分（Ａ）は、これら各化合物の２量体、３量
体などのオリゴマーであってもよい。

【００１６】これらの重合性化合物は市販されているも
のもあるので、それをそのまま用いることもできる。市
販されている重合性化合物としては、例えば、“NK エ
ステル A-TMM-3L”〔化学名テトラメチロールメタント
リアクリレート、新中村化学（株）で販売〕、“NK エ
ステル A-9530”〔化学名ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート、新中村化学（株）で販売〕、“KAYARA
D DPCA シリーズ”〔ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートの誘導体、日本化薬（株）で販売〕、“アロ
ニックス M-8560”〔ポリエステルアクリレート化合
物、東亞合成（株）で販売〕、“ニューフロンティア T
EICA”〔化学名トリス（アクリロイルオキシエチル）イ
ソシアヌレート、第一工業製薬（株）で販売〕、“PP
Z”〔ホスファゼン系メタクリレート化合物、共栄社化
学（株）で販売〕などが例示される。また、溶剤と混合
した状態で市販されているものを用いることもでき、こ
のような市販品としては、例えば、“アロニックス UV3
701”〔東亞合成(株)で販売〕、“ユニディック 17-81
3”〔大日本インキ化学工業（株）で販売〕、“NK ハー
ドM-101”〔新中村化学（株）で販売〕などが挙げられ
る。

【００１７】成分（Ｂ）は、有機ケイ素化合物又はその
重合体であり、ここで有機ケイ素化合物としては、例え
ば、アルコキシシラン化合物、ハロゲン化シラン化合
物、アシロキシシラン化合物、シラザン化合物などが挙
げられる。これらの有機ケイ素化合物は、その分子中
に、アルキル基、アリール基、ビニル基、アリル基、
（メタ）アクリロイルオキシ基、エポキシ基、アミノ
基、メルカプト基などの置換基を有していてもよい。
このような有機ケイ素化合物の例を挙げると、テトラメ
トキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラクロロシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリクロロシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリ
エトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ―アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ―ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
メチルジメトキシシランのようなアルコキシシラン化合
物、ヘキサメチルジシラザンのようなシラザン化合物な
どがあり、これらは、それぞれ単独で又は２種以上混合
して用いることができる。

【００１８】成分（Ｂ）は、このような有機ケイ素化合
物の単量体であってもよいし、２量体〜１０量体程度の
オリゴマー又は重合度が１０を超えるポリマーなどであ
ってもよい。また成分（Ｂ）は、このような有機ケイ素
化合物が加水分解されたものであってもよい。加水分解
生成物は、上記有機ケイ素化合物に、塩酸やリン酸、酢
酸のような酸又は、水酸化ナトリウムや酢酸ナトリウム
のような塩基を加えることにより、生成させることがで
きる。

【００１９】成分（Ｃ）は、酸化ジルコニウム、酸化チ
タン、酸化スズ及び酸化アンチモンから選ばれる金属酸
化物の粒子である。これらの粒子は、その一次粒子径
が、通常０.１μm 以下、好ましくは０.０５μm 以下で
あり、また通常は０.００１μm以上である。一次粒子径
があまり大きくなると、得られる高屈折率層の透明性が
低下する傾向にある。これらの粒子は、１種を単独で用
いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【００２０】本発明において、反射防止層を構成するの
に好ましい高屈折率層は、以上の成分（Ａ）、成分
（Ｂ）及び成分（Ｃ）からなる被膜が硬化されてなるも
のであるが、この被膜は、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び
成分（Ｃ）の合計１００重量部を基準に、成分（Ａ）を
通常２０〜８０重量部、好ましくは３０〜６０重量部、
成分（Ｂ）を通常１〜２０重量部、好ましくは３〜１５
重量部、成分（Ｃ）を通常１０〜７０重量部、好ましく
は４０〜７０重量部それぞれ含有する。成分（Ａ）の含
有量が２０重量部を下回ると、得られる反射防止層の硬
度が小さくなる傾向にあり、８０重量部を超えると、得
られる高屈折率層の屈折率が小さくなる傾向にある。成
分（Ｂ）の含有量が１重量部を下回ったり、２０重量部
を超えたりすると、得られる反射防止層の硬度が小さく
なる傾向にある。また成分（Ｃ）の含有量が１０重量部
を下回ると、得られる高屈折率層の屈折率が小さくなる
傾向にあり、７０重量部を超えると、得られる反射防止
層の硬度が小さくなる傾向にある。

【００２１】高屈折率層の厚みは、前面板基材の屈折
率、高屈折率層の屈折率、低屈折率層の屈折率及び厚み
などに応じて適宜選択されるが、通常は０.０１〜０.５
μm 程度である。その厚みが０.０１μmを下回ると、反
射率が大きくなる傾向にあり、また０.５μmを超える
と、反射率が大きくなるとともに、高屈折率層及び基材
の屈折率によっては干渉による虹模様が現れ易くなる傾
向にある。この高屈折率層は、通常、成分（Ａ）の硬化
物中に成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）が分散された構造の層
となる。

【００２２】成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を
含有する組成物は、溶剤で希釈されていてもよい。溶剤
としては、これらの成分を溶解又は分散することがで
き、塗布後に揮発しうるものであれば、特に限定される
ものではなく、これが塗布される基材の材質や形状、塗
布方法などに応じて適宜選択される。例えば、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノ−ル、ｎ
−ブタノール、２−ブタノール、イソブタノール、tert
−ブタノール、ジアセトンアルコール、２−エトキシエ
タノール、２−ブトキシエタノール、３−メトキシプロ
パノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エト
キシ−２−プロパノールのようなアルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのよ
うなケトン類、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類な
どが挙げられる。溶剤の使用量は、基材の材質及び形
状、さらには塗布方法、目的とする高屈折率層の厚みな
どに応じて適宜選択されるが、通常は、成分（Ａ）、成
分（Ｂ）及び成分（Ｃ）の合計１００重量部を基準に、
５０〜１０,０００重量部程度である。

【００２３】高屈折率層を形成するための組成物は、以
上説明した各成分のほかに、重合開始剤、増感剤、安定
化剤、酸化防止剤、着色剤などの添加剤を含有していて
もよい。重合開始剤としては、例えば、フェニルケトン
系化合物、ベンゾフェノン系化合物など、通常のものが
使用でき、例えば、“イルガキュア 907”（化学名２−
メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モ
ルホリノプロパン−１−オン）、“イルガキュア 184”
（化学名１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン）、“ダロキュア 1173”（化学名２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン）（以
上、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ(株)で販売）、
“エザキュア KIP”（２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１
−オンのオリゴマー、日本シイベルへグナー（株）で販
売）などが挙げられる。 増感剤としては、例えば、
“エザキュア EDB”（化学名４−ジメチルアミノ安息香
酸エチル、日本シイベルへグナー（株）で販売）などが
挙げられる。重合開始剤や増感剤は、組成物を基材表面
に塗布後、活性化エネルギー線を照射することにより速
やかに硬化させるために含有される。

【００２４】以上のような組成物を前面板基材の表面に
塗布することにより、成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分
（Ｃ）を含む被膜が形成される。前面板基材の表面に組
成物を塗布するには、通常と同様の方法、例えば、マイ
クログラビアコート法、ロールコート法、ディッピング
コート法、スピンコート法、ダイコート法、キャスト転
写法、スプレーコート法などの方法が採用できる。

【００２５】次いで、この被膜に活性化エネルギー線を
照射する。活性化エネルギー線としては、例えば、紫外
線、電子線、放射線などが挙げられ、成分（Ａ）の種類
に応じて適宜選択される。活性化エネルギー線の照射時
間は特に限定されないが、通常は０.１〜６０秒程度の
範囲である。また、活性化エネルギー線は通常、１０〜
４０℃程度の雰囲気下で照射することができる。組成物
が溶剤を含有する場合には、被膜が溶剤を含有した状態
のままで活性化エネルギー線を照射してもよいし、溶剤
を揮発させた後に活性化エネルギー線を照射してもよ
い。

【００２６】本発明の反射防止前面板は、かかる高屈折
率層の上に低屈折率層が積層されている。低屈折率層
は、高屈折率層の屈折率よりも小さい屈折率を示す層で
あり、有機ケイ素化合物の硬化物からなる層であるのが
好ましい。低屈折率層を形成する有機ケイ素化合物とし
ては、先に成分（Ｂ）として説明したものと同様の有機
ケイ素化合物が挙げられる。また、有機ケイ素化合物の
硬化物には、これらの化合物の重合体又は加水分解生成
物の硬化物も含まれる。

【００２７】この低屈折率層は、シリカ粒子を含有して
いてもよい。シリカ粒子としては、その一次粒子径が通
常０.３〜１００nmであり、コロイド状に分散してシリ
カゾルを形成しうる粒子が好ましく使用される。粒子径
が１００nmを超えると、透明性が低下し易い傾向にあ
る。かかるシリカ粒子は、多孔質であってもよい。シリ
カ粒子を用いる場合、その使用量は、シリカ粒子及び有
機ケイ素化合物〔酸化ケイ素（ＳｉＯ₂ ）に換算〕の合
計１００重量部あたり、通常６０重量部以下、また０.
０１重量部以上である。

【００２８】低屈折率層の厚みは、前面板基材の屈折
率、高屈折率層の屈折率及び厚み、低屈折率層の屈折率
などに応じて適宜選択されるが、通常は０.０１〜０.５
μm 程度である。その厚みが０.０１μm を下回ったり
０.０５μm を超えたりすると、前面板の反射率が大き
くなる傾向にある。

【００２９】低屈折率層は、高屈折率層の上に形成され
る。この低屈折率層の形成には、有機ケイ素化合物を含
有する組成物を塗布して被膜を得る方法が採用される。
有機ケイ素化合物を含有する組成物としては、例えば、
有機ケイ素化合物と溶剤との混合物が用いられる。シリ
カ粒子をさらに含有する組成物を用いることにより、有
機ケイ素化合物の硬化物中にシリカ粒子が分散された低
屈折率層を得ることができる。この組成物に用いられる
溶剤としては、有機ケイ素化合物を溶解することがで
き、塗布後に揮発し、シリカ粒子を用いる場合にはこれ
を分散しうるものであれば、特に限定されるものではな
く、低屈折率層の種類、基材の材質及び形状、塗布方法
などに応じて適宜選択されるが、高屈折率層の組成物に
おいて例示したのと同様の溶剤から、適宜選択して用い
ることができる。

【００３０】低屈折率層用の組成物は、反応促進剤、安
定化剤、酸化防止剤、着色剤などの添加剤を含有してい
てもよい。また、有機ケイ素化合物として、その加水分
解生成物を用いる場合には、塩酸やリン酸、酢酸のよう
な酸又は、水酸化ナトリウムや酢酸ナトリウムのような
塩基などを組成物に加えてもよい。

【００３１】塗布方法は、通常と同様の方法、例えば、
マイクログラビアコート法、ロールコート法、ディッピ
ングコート法、スピンコート法、ダイコート法、キャス
ト転写法、スプレーコート法などが採用できる。かくし
て、有機ケイ素化合物を含有する組成物からなる被膜が
形成される。

【００３２】次いで、この被膜を硬化させる。硬化に
は、例えば、加熱による方法が用いられる。加熱温度や
加熱時間は、用いる有機ケイ素化合物の種類や使用量な
どに応じて適宜選択される。かくして、前面板基材の表
面に高屈折率層及び低屈折率層からなる反射防止層が設
けられた反射防止前面板が得られるが、この反射防止前
面板は、反射防止層の硬度が十分であるので、耐擦傷性
にも優れている。

【００３３】前面板基材と反射防止層の間には、ハード
コート層を有していてもよい。ハードコート層として
は、例えば、少なくとも２個の官能基を有する化合物か
らなる被膜を硬化したものが挙げられる。ハードコート
層を形成するための官能基としては、例えば、（メタ）
アクリロイルオキシ基のような不飽和二重結合を有する
基、エポキシ基やシラノール基のような反応性の置換基
などが挙げられる。なかでも、不飽和二重結合を有する
基は、紫外線や電子線のような活性化エネルギー線の照
射により容易に硬化しうるので、好ましく用いられる。
不飽和二重結合を有する基を少なくとも２個有する化合
物としては、例えば、成分（Ａ）として先に説明したの
と同様の化合物が挙げられる。かかる化合物は、溶剤に
希釈された状態で「ハードコート剤」として市販されて
いるものを使用することもでき、市販のハードコート剤
として具体的には、成分（Ａ）となりうる市販品として
先に説明したのと同様のものが挙げられる。

【００３４】ハードコート層は、通常の方法、例えば、
ハードコート剤を樹脂基材の表面に塗布することにより
被膜とし、これに活性化エネルギー線を照射することに
より設けることができる。塗布方法としては、例えば、
マイクログラビアコート法、ロールコート法、ディッピ
ングコート法、スピンコート法、ダイコート法、フロー
コート法、スプレーコート法などが挙げられる。ハード
コート層の厚みは、通常０.５〜５０μm 程度、好まし
くは１〜２０μm 程度である。その厚みが０.５μm 未
満であると、耐擦傷性が不十分となる傾向にあり、また
５０μm を超えると、ハードコート層に亀裂が発生し易
くなる傾向にある。

【００３５】かかるハードコート層は、帯電防止性のハ
ードコート層であってもよい。帯電防止性のハードコー
ト層としては、例えば、導電性粒子が分散されたハード
コート層、界面活性剤を含有するハードコート層などが
挙げられる。導電性粒子が分散されたハードコート層と
しては、不飽和二重結合を少なくとも２個有する化合物
が硬化されてなる硬化被膜に、導電性粒子が分散されて
なる層などが挙げられる。導電性粒子としては、例え
ば、スズ、アンチモン、チタン、インジウムの如き金属
の酸化物や、これらの金属の複合酸化物、例えば、イン
ジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）やアンチモンドープ酸
化スズなどの粒子が挙げられる。導電性粒子の粒子径
は、一次粒子径で通常、０.００１〜０.１μm 程度であ
る。その一次粒子径が０.１μm を超えると、透明性が
低下する傾向にある。

【００３６】このようなハードコート層は、導電性粒子
を含有するハードコート剤、界面活性剤を含有するハー
ドコート剤などを前面板基材の表面に塗布した後、硬化
させる方法により設けることができる。導電性粒子を含
有するハードコート剤としては、例えば、“シントロン
C-4456”（神東塗料（株）で販売）、“スミセファイ
ン R-311”（住友大阪セメント（株）で販売）などが市
販されている。かくして得られるハードコート層は、帯
電防止性能を永久的に持続させることも可能である。

【００３７】本発明のディスプレイ用前面板は、前面板
本体の表面に反射防止層を設けたものであり、特に高屈
折率層とその上に積層された低屈折率層とで反射防止層
を構成したものであるが、この前面板は、以上説明した
ように、例えば、前面板本体を構成する基材の表面に、
成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を含有する組成
物を塗布して被膜を設け、この被膜に活性化エネルギー
線を照射して高屈折率層を形成し、次いで有機ケイ素化
合物を含有する組成物を塗布して被膜を設け、この被膜
を硬化させて低屈折率層を形成することにより、製造で
きる。反射防止層は、前面板本体の片面に設けてもよい
し、両面に設けてもよい。また片面に設ける場合は、そ
の反射防止層がディスプレイ側（視聴側から見て裏面）
となるようにすることもできるし、視聴側（前面）とな
るようにすることもできる。

【００３８】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。なお、実施例で得た反射防止前面板は、
以下の方法で評価した。

【００３９】(a) 反射率 前面板の一方の面をスチールウールで粗面化し、そこに
黒色ペンキを塗って乾燥し、次いでもう一方の面（反射
防止層側）の入射角度５°における絶対鏡面反射スペク
トルを、紫外線可視分光光度計〔（株）島津製作所製の
“UV-3100”〕を用いて測定し、反射率が最小値を示す
波長とその反射率の最小値を求めた。

【００４０】(b) 全光線透過率 JIS K 7105 に準拠して測定した。

【００４１】(c) 耐擦傷性 ガーゼに４９Ｎ／cm² の圧力を加えながら、反射防止前
面板の反射防止層が設けられた側の表面を往復させて、
目視で表面に傷が確認されるまでの往復回数で評価し
た。

【００４２】実施例１ (1) ハードコート層の形成 導電性粒子を含有する市販ハードコート剤〔住友大阪セ
メント（株）製の“スミセファイン R-311”〕５３.６
重量部に、さらにジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート〔新中村化学（株）製の“NK エステル A953
0”〕６.９重量部、メチルエチルケトン１０.８重量部
及びジアセトンアルコール２４.２重量部を加えて混合
し、ハードコート用組成物とした。アクリル樹脂板〔住
友化学工業(株)製の“スミペックス E000”、厚み２m
m〕に、上記のハードコート用組成物をディップコート
法にて引上げ速度５０cm／分で塗布し、４０℃で１０分
間乾燥した後、紫外線を照射してハードコート層を設け
た。このハードコート層は、帯電防止性能を有してい
る。

【００４３】(2) 高屈折率層の形成 ペンタエリスリトールトリアクリレート１.０重量部、
テトラエトキシシラン０.１重量部、平均一次粒子径０.
０１μm である酸化ジルコニウムの粒子１.７重量部、
重合開始剤である１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン０.２重量部及び溶剤であるイソブチルアルコ
ール９７重量部を混合して、高屈折率層用のコーティン
グ組成物とした。上記 (1)で得たハードコート層を有す
るアクリル樹脂板のハードコート層の上に、この高屈折
率層用のコーティング組成物をディップコート法にて引
上げ速度２０cm／分で塗布し、４０℃で１０分間乾燥し
たのち、紫外線を照射して、高屈折率層を設けた。な
お、ここで用いた高屈折率層用のコーティング組成物を
アクリル樹脂板に塗布し、硬化させた状態で測定した屈
折率は、１.７２であった。

【００４４】(3) 低屈折率層の形成 テトラエトキシシラン０.８重量部、溶剤であるエタノ
ール９８.４重量部、及び０.１Ｎ塩酸０.８重量部を混
合して、低屈折率層用のコーティング組成物とした。上
記 (2)で設けた高屈折率層の上に、この低屈折率層用の
コーティング組成物をディップコート法にて引上げ速度
２０cm／分で塗布し、室温で５分間乾燥したのち、８０
℃で２０分間加熱して低屈折率層を設け、反射防止前面
板を得た。なお、ここで用いた低屈折率層用のコーティ
ング組成物をアクリル樹脂板に塗布し、硬化させた状態
で測定した屈折率は、１.４４であった。

【００４５】この反射防止前面板は、アクリル樹脂板の
表面にハードコート層が設けられており、この層の上に
高屈折率層及び低屈折率層がこの順に設けられている。
この反射防止前面板の評価結果を表１に示す。また、こ
の反射防止前面板の反射スペクトルを図１に示す。この
反射防止前面板をプロジェクションテレビに取り付けた
ところ、外光の映り込みが少なく、画像の視認性が良好
であった。

【００４６】実施例２ 平均一次粒子径が０.０１μm である酸化ジルコニウム
粒子１.７重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート１.０重量部、テトラメトキシシランオリゴマー
（三菱化学（株）で販売の“MKC シリケート MS51”）
０.１重量部、溶剤であるイソブチルアルコール９７重
量部及び重合開始剤である１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン０.２重量部を混合して、高屈折率層
用のコーティング組成物とした。実施例１と同様にし
て、アクリル樹脂板の表面にハードコート層を設け、こ
のハードコート層を有するアクリル樹脂板のハードコー
ト層の上に上記高屈折率層用のコーティング組成物を適
用する以外は、実施例１と同様に操作して高屈折率層を
設け、次いで実施例１と同様の低屈折率層を設けて、反
射防止前面板を得た。この反射防止前面板の評価結果を
表１に示す。この反射防止前面板をプロジェクションテ
レビに取り付けたところ、外光の映り込みが少なく、画
像の視認性が良好であった。

【００４７】実施例３ 染料を含有する着色アクリル樹脂板〔住友化学工業
（株）製の“スミペックスE109”、厚み２mm〕を用いた
以外は、実施例２と同様にして反射防止前面板を得た。
この反射防止前面板の評価結果を表１に示す。この反射
防止前面板をプロジェクションテレビに取り付けたとこ
ろ、外光の映り込みが少なく、画像の視認性が良好であ
った。また、透過率が染料により低減されているので、
コントラストも良好であった。

【００４８】実施例４ 平均一次粒子径が０.０１μm である酸化ジルコニウム
粒子１.７重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート１.０重量部、溶剤であるイソブチルアルコール９
７重量部及び重合開始剤である１−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン０.３重量部を混合して、高屈折
率層用のコーティング組成物とした。実施例１と同様に
してアクリル樹脂板の表面にハードコート層を設け、こ
のハードコート層を有するアクリル樹脂板のハードコー
ト層の上に、上記高屈折率層用のコーティング組成物を
適用する以外は、実施例１と同様に操作して高屈折率層
を設け、次いで実施例１と同じ低屈折率層を設けて、反
射防止前面板を得た。この反射防止前面板の評価結果を
表１に示す。

【００４９】比較例１ 実施例１と同様にしてアクリル樹脂板の表面にハードコ
ート層を設け、反射防止層を形成せずに前面板とした。
この前面板の評価結果を表１に示す。この前面板をプロ
ジェクションテレビに取り付けたところ、外光の映り込
みが多く、画像の視認性は良好とはいえなかった。

【００５０】比較例２ 実施例３と同様にして着色アクリル樹脂板の表面にハー
ドコート層を設け、反射防止層を形成せずに前面板とし
た。この前面板の評価結果を表１に示す。この前面板を
プロジェクションテレビに取り付けたところ、外光の映
り込みが多く、画像の視認性は良好とはいえなかった。
比較例２のものに比べてコントラストは向上していた
が、実施例３のものよりも画像が暗かった。

【００５１】

【表１】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 反射率が最小値を示す 全光線透過率 耐擦傷性 波長 反射率 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例１ ５６４nm ０.２３％ ９６.２％ １００往復以上 実施例２ ５９２nm ０.２４％ ９６.２％ １００往復以上 実施例３ ５５３nm ０.２４％ ８４.３％ １００往復以上 実施例４ ５７８nm ０.２３％ ９６.２％ １０往復 ────────────────────────────── 比較例１ − ４.３％ ９２.１％ １００往復以上 比較例２ − ４.３％ ８０.２％ １００往復以上 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【００５２】これらの例からわかるように、本発明に従
って反射防止層を設けたディスプレイ用前面板は、低い
反射率及び高い光線透過率を示し、視認性に優れたもの
となる。特に、実施例１〜３のように、反射防止層を構
成する高屈折率層に有機ケイ素化合物を含有させること
で、耐擦傷性にも優れたものとなる。

【００５３】

【発明の効果】本発明により反射防止層を形成したディ
スプレイ用前面板は、周辺環境等の映り込みが小さく、
高い光線透過率を示し、視認性に優れている。特に、こ
の反射防止層を特定の二層構造とした場合には、耐擦傷
性に優れた十分な硬度を備えたものとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で得た反射防止前面板の反射スペクト
ルを示す図であり、横軸は波長を、縦軸は反射率をそれ
ぞれ表す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA15 BA20 2K009 AA05 AA12 AA15 CC03 CC09 CC24 CC42 DD02 DD06 EE01 EE03 5C058 AB05 BA35 DA01 DA03

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】表面の少なくとも一部に反射防止層を設け
   たことを特徴とするディスプレイ用前面板。
2. 【請求項２】反射防止層が、前面板本体の表面に設けら
   れた少なくとも二層からなり、前面板本体側の第１層の
   方が、その上に設けられた第２層よりも高い屈折率を有
   する請求項１記載のディスプレイ用前面板。
3. 【請求項３】反射防止層が、不飽和二重結合を少なくと
   も２個有し、活性化エネルギー線の照射により重合可能
   な化合物又はそのオリゴマー（Ａ）、有機ケイ素化合物
   又はその重合体（Ｂ）並びに、酸化ジルコニウム、酸化
   チタン、酸化スズ及び酸化アンチモンから選ばれる金属
   酸化物の粒子（Ｃ）を含有する被膜を硬化してなる高屈
   折率層と、有機ケイ素化合物の硬化物からなる低屈折率
   層とが、前面板本体の側からこの順で表面に積層されて
   いる請求項２記載のディスプレイ用前面板。
4. 【請求項４】高屈折率層が、重合可能な化合物又はその
   オリゴマー（Ａ）、有機ケイ素化合物又はその重合体
   （Ｂ）及び金属酸化物の粒子（Ｃ）の合計１００重量部
   を基準に、重合可能な化合物又はそのオリゴマー（Ａ）
   を２０〜８０重量部、有機ケイ素化合物又はその重合体
   （Ｂ）を１〜２０重量部、及び金属酸化物の粒子（Ｃ）
   を１０〜７０重量部それぞれ含有する被膜を硬化してな
   る請求項３記載のディスプレイ用前面板。
5. 【請求項５】前面板本体が、表面にハードコート層を有
   する樹脂基材である請求項２〜４のいずれかに記載のデ
   ィスプレイ用前面板。