JP2001315242A - 反射防止基材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 十分な耐擦傷性を備え、容易には剥離し難い
反射防止層を備えた反射防止基材を提供する。 【解決手段】 以下の成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成
分（Ｃ）の組成物からなる被膜が硬化されてなる高屈折
率層と、有機ケイ素化合物の硬化物からなる低屈折率層
とがこの順で基材の表面に積層されてなることを特徴と
する反射防止基材。 成分（Ａ）：不飽和二重結合を２個以上有し活性化エネ
ルギー線を照射することにより重合可能な化合物または
そのオリゴマー 成分（Ｂ）：有機ケイ素化合物、その重合体または加水
分解生成物 成分（Ｃ）：酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ
および酸化アンチモンから選ばれる少なくとも１種の金
属酸化物の粒子

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止基材に関
する。

【０００２】

【従来の技術】基材の表面に反射防止層を設けた反射防
止基材は、光学部品として有用である。

【０００３】従来から、かかる反射防止基材として、基
材の表面に高屈折率層と低屈折率層とがこの順に積層さ
れてなる反射防止層が設けられたものが知られている。
ここで、高屈折率層は基材の屈折率よりも大きな屈折率
を示す層であり、低屈折率層は高屈折率層よりも小さい
屈折率を示す層である。これら高屈折率層と低屈折率層
とは、一体となって反射防止層を形成している。高屈折
率層および低屈折率層の厚みは、通常、屈折率（ｎ）と
厚み（ｄ）との積である光学膜厚（ｎ×ｄ）がそれぞれ
可視光の波長（λ）の概ね１／４（λ／４）程度や、１
／２（λ／２）程度となるように調整される。

【０００４】ここで、高屈折率層としては、基材の表面
にコーティング用組成物を塗布後硬化させた層が知られ
ている。ここで、コーティング用組成物としては、分子
中に不飽和二重結合を２個以上有する化合物と金属アル
コキシドとの組成物などが知られている（特開平８−２
９７２０１号公報など）。また、低屈折率層としては、
有機ケイ素化合物の硬化物からなる層が知られている
（特開昭６３−４２０１号公報など）。

【０００５】しかし、かかる高屈折率層と低屈折率層と
からなる反射防止層が基材の表面に設けられた反射防止
基材は、耐擦傷性に劣ったり、反射防止層が剥離し易い
傾向にあった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、十分な耐擦傷性を備え、容易には剥離し難い反射防
止層を備えた反射防止基材を開発するべく鋭意検討した
結果、分子中に２個以上の不飽和二重結合を有する化合
物および金属酸化物の粒子に加えて有機ケイ素化合物を
含有する組成物を塗布後硬化させて得た高屈折率層と、
有機ケイ素化合物を硬化させて得た低屈折率層とからな
る反射防止層を備えた反射防止基材は、反射防止層に傷
がつきにくく、しかも反射防止層が剥離しにくいことを
見出し、本発明に至った。

【０００７】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、以下
の成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）を含有する
被膜が硬化されてなる高屈折率層と、有機ケイ素化合物
の硬化物からなる低屈折率層とがこの順で基材の表面に
積層されてなることを特徴とする反射防止基材を提供す
るものである。

【０００８】成分（Ａ）：不飽和二重結合を２個以上有
し活性化エネルギー線を照射することにより重合可能な
化合物またはそのオリゴマー 成分（Ｂ）：有機ケイ素化合物、その重合体または加水
分解生成物 成分（Ｃ）：酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ
および酸化アンチモンから選ばれる少なくとも１種の金
属酸化物の粒子

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止基材は、高屈折
率層と低屈折率層とが基材の表面に積層されており、こ
れら高屈折率層および低屈折率層は反射防止層を構成し
ている。

【００１０】高屈折率層は、上記成分（Ａ）、成分
（Ｂ）および成分（Ｃ）を含む被膜が硬化されてなる層
である。成分（Ａ）は、不飽和二重結合を２個以上有す
る化合物である。かかる化合物は、活性化エネルギー線
を照射されることにより重合することができる。活性化
エネルギー線としては、電子線、紫外線、放射線などが
挙げられる。このような化合物としては、例えば多官能
アクリレート化合物などが挙げられる。ここで、多官能
アクリレート化合物とは、分子中に２個以上のアクリロ
イルオキシ基および／またはメタクロイルオキシ基（以
下、アクリロイルオキシ基とメタクロイルオキシ基とを
まとめて（メタ）アクリロイルオキシ基と呼ぶ。）を有
する化合物が挙げられる。

【００１１】かかる多官能アクリレート化合物として
は、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ト
リメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロー
ルメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテ
トラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアク
リレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、
ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキ
シエチル）イソシアヌレート、

【００１２】エチレングリコールジメタクリレート、ジ
エチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサ
ンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコール
ジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、
テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメ
チロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロ
ールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリス
リトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトール
テトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシ
アヌレート、

【００１３】ホスファゼン化合物のホスファゼン環に
（メタ）アクリロイルオキシ基が導入されたホスファゼ
ン系（メタ）アクリレート化合物、分子中に２個以上の
イソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物と
１個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基および１個以
上の水酸基を有するポリオール化合物とを反応させて得
られるウレタン（メタ）アクリレート化合物、分子中に
２個以上のカルボニル基を有するカルボン酸ハロゲン化
物と１個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する
ポリオール化合物とを反応させて得られるポリエステル
（メタ）アクリレート化合物などが挙げられる。これら
の化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用
いられる。成分（Ａ）は、上記各化合物の２量体、３量
体などのオリゴマーであってもよい。

【００１４】成分（Ａ）は、市販されているものを用い
ることもできる。市販されている成分（Ａ）としては、
例えば「ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ」（新中村化
学（株）製、テトラメチロールメタントリアクリレー
ト）、「ＮＫエステル Ａ−９５３０」（新中村化学
（株）製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト）、「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡシリーズ」（日本化
薬（株）製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
トの誘導体）、「アロニックス Ｍ−８５６０」（東亜
合成（株）製、ポリエステルアクリレート化合物）、
「ニューフロンティアＴＥＩＣＡ」（第一工業製薬
（株）製、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシ
アヌレート）、「ＰＰＺ」（共栄社化学（株）製、ホス
ファゼン系メタクリレート化合物）などが例示される。

【００１５】また、溶剤と混合された状態で市販されて
いるものを用いることもでき、かかる市販品としては、
例えばアロニックス ＵＶ３７０１」（東亜合成（株）
製）、「ユニディック １７−８１３」（大日本インキ
化学工業（株）製）、「ＮＫハードＭ−１０１」（新中
村化学（株）製）などが挙げられる。

【００１６】成分（Ｂ）は、有機ケイ素化合物またはそ
の重合体であるが、ここで有機ケイ素化合物としては、
アルコキシシラン化合物、ハロゲン化シラン化合物、ア
シロキシシラン化合物、シラザン化合物などが挙げられ
る。かかる有機ケイ素化合物は、その分子中にアルキル
基、アリール基、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリ
ロイルオキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基
などの置換基を有していてもよい。

【００１７】かかる有機ケイ素化合物としては、例えば
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ
クロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリ
クロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメ
チルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ―アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）
−γ―アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチ
ルジメトキシシランなどのアルコキシシラン化合物、ヘ
キサメチルジシラザンなどのシラザン化合物などが挙げ
られ、これらはそれぞれ単独または２種以上を混合して
用いられる。

【００１８】成分（Ｂ）は、かかる有機ケイ素化合物の
単量体であってもよいし、２量体〜１０量体程度のオリ
ゴマーまたは重合度が１０を超えるポリマーなどのよう
な重合体であってもよい。また、成分（Ｂ）は、上記有
機ケイ素化合物が加水分解された加水分解生成物あって
もよい。加水分解生成物は、上記有機ケイ素化合物に塩
酸、リン酸、酢酸などの酸または水酸化ナトリウム、酢
酸ナトリウムなどの塩基を加えることにより生成させる
ことができる。

【００１９】成分（Ｃ）は、酸化ジルコニウム、酸化チ
タン、酸化スズおよび酸化アンチモンから選ばれる少な
くとも１種の金属酸化物の粒子である。かかる粒子は、
その一次粒子径が通常０．１μｍ以下、好ましくは０．
０５μｍ以下であり、通常は０．００１μｍ以上であ
る。一次粒子径が０．０５μｍを超えると得られる高屈
折率層の透明性が低下する傾向にある。かかる粒子は１
種を用いてもよいし、２種以上を組合せて用いてもよ
い。

【００２０】本発明の反射防止基材における高屈折率層
は、かかる成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）か
らなる被膜が硬化されてなるものであるが、かかる被膜
は、成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の合計量
１００重量部当たり、成分（Ａ）を通常２０〜８０重量
部、好ましくは３０〜６０重量部、成分（Ｂ）を通常１
〜２０重量部、好ましくは３〜１５重量部、成分（Ｃ）
を通常１０〜７０重量部、好ましくは４０〜７０重量部
それぞれ含有する。成分（Ａ）の含有量が２０重量部未
満であると得られる反射防止層の硬度が小さくなる傾向
にあり、８０重量部を超えると得られる高屈折率層の屈
折率が小さくなる傾向にある。成分（Ｂ）の含有量が１
重量部未満であっても２０重量部を超えても得られる反
射防止層の硬度が小さくなる傾向にある。成分（Ｃ）の
含有量が１０重量部未満であると屈折率が小さくなる傾
向にあり、７０重量部を超えると得られる反射防止層の
硬度が小さくなる傾向にある。

【００２１】高屈折率層の厚みは基材の屈折率、高屈折
率層の屈折率、低屈折率層の屈折率、厚みなどに応じて
適宜選択されるが、通常は０．０１〜０．５μｍ程度で
ある。０．０１μｍ未満であると反射率が大きくなる傾
向にある。また０．５μｍを超えると反射率が大きくな
ると共に、高屈折率層および基材の屈折率によっては干
渉による虹模様が現れ易くなる傾向にある。高屈折率層
は、通常、成分（Ａ）の硬化物中に成分（Ｂ）および成
分（Ｃ）が分散された構造の層となる。

【００２２】本発明の反射防止基材は、かかる高屈折率
層の上に低屈折率層が積層されている。低屈折率層は、
有機ケイ素化合物の硬化物からなる層であり、高屈折率
層の屈折率よりも小さい屈折率を示す。有機ケイ素化合
物としては、成分（Ｂ）として上記したと同様の有機ケ
イ素化合物が挙げられる。また、有機ケイ素化合物の硬
化物には、上記有機化合物の重合体または加水分解生成
物の硬化物も含まれる。

【００２３】かかる低屈折率層は、シリカ粒子を含有し
ていてもよい。シリカ粒子としては、その粒子径が一次
粒子径で通常０．３〜１００ｎｍであり、コロイド状に
分散してシリカゾルを形成し得る粒子が好ましく使用さ
れる。粒子径が１００ｎｍを超えると透明性が低下し易
い傾向にある。かかるシリカ粒子は、多孔質であっても
よい。シリカ粒子を用いる場合、その使用量はシリカ粒
子および有機ケイ素化合物〔酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）に
換算〕の合計量１００重量部当たり６０重量部以下であ
り、通常は０．０１重量部以上である。

【００２４】低屈折率層の厚みは基材の屈折率、高屈折
率層の屈折率、厚み、低屈折率層の屈折率などに応じて
適宜選択されるが、通常は０．０１〜０．５μｍ程度で
ある。０．０１μｍ未満であったり０．０５μｍを超え
ると反射防止基材の反射率が大きくなる傾向にある。

【００２５】基材としては、例えばアクリル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリル
共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、トリ
アセチルセルロース樹脂などからなる樹脂基材、無機ガ
ラスなどの無機基材などが挙げられる。

【００２６】基材は、板（シート）、フィルムなどのよ
うに表面が平面である基材あってもよいし、凸レンズ、
凹レンズなどのように表面が曲面である基材であっても
よい。また、表面に細かな凹凸が設けられていてもよ
い。

【００２７】基材が樹脂基材である場合には、その表面
にハードコート層を有していてもよい。ハードコート層
としては、例えば２個以上の官能基を有する化合物から
なる被膜が硬化されてなる層が挙げられる。

【００２８】官能基としては、（メタ）アクリロイルオ
キシ基などのような不飽和二重結合を有する基、エポキ
シ基、シラノール基などの置換基が挙げられる。中でも
不飽和二重結合を有する基は、紫外線、電子線などのよ
うな活性化エネルギー線を照射することにより容易に硬
化し得る点で、好ましく用いられる。不飽和二重結合を
有する基を２個以上有する化合物としては、例えば成分
（Ａ）として上記したと同様の化合物が挙げられる。か
かる化合物は、溶剤に希釈された状態で「ハードコート
剤」として市販されているものを使用することもでき、
市販の「ハードコート剤」として具体的には、市販され
ている成分（Ａ）として前記したと同様のものが挙げら
れる。

【００２９】ハードコート層は通常の方法、例えばハー
ドコート剤を樹脂基材の表面に塗布することにより被膜
とし、これに活性化エネルギー線を照射することにより
設けることができる。塗布方法としては、例えばマイク
ログラビアコート法、ロールコート法、ディッピングコ
ート法、スピンコート法、ダイコート法、キャスト転写
法、スプレーコート法などが挙げられる。

【００３０】ハードコート層の厚みは通常０．５〜５０
μｍ程度、好ましくは１〜２０μｍ程度である。０．５
μｍ未満であると耐擦傷性が不十分となる傾向にあり、
５０μｍを超えるとハードコート層に亀裂が発生し易く
なる傾向にある。

【００３１】かかるハードコート層は、帯電防止性のハ
ードコート層であってもよい。帯電防止性のハードコー
ト層としては、例えば導電性粒子が分散されたハードコ
ート層、界面活性剤を含有するハードコート層等が挙げ
られる。

【００３２】導電性粒子が分散されたハードコート層と
しては、不飽和二重結合を２個以上有する化合物が硬化
されてなる硬化被膜に導電性粒子が分散されてなる層な
どが挙げられる。導電性粒子としては、例えばスズ、ア
ンチモン、チタン、インジウムなどの金属の酸化物や、
これらの金属の複合酸化物、例えばインジウムスズ複合
酸化物（ＩＴＯ、Indium Tin Oxide）などの粒子が挙げ
られる。導電性粒子の粒子径は、一次粒子径で通常、
０．００１〜０．１μｍ程度である。０．１μｍを超え
ると透明性が低下する傾向にある。

【００３３】このようなハードコート層は、ハードコー
ト剤として導電性粒子を含有するハードコート剤、界面
活性剤を含有するハードコート剤などを基材の表面に塗
布後、硬化させる方法により設けることができる。導電
性粒子を含有するハードコート剤としては、例えば「シ
ントロンＣ−４４５６」（神東塗料（株）製）、「スミ
セファイン Ｒ−３１１」(住友大阪セメント(株)製)な
どが市販されている。かくして得られるハードコート層
は、帯電防止性能を永久的に持続させることも可能であ
る。

【００３４】本発明の反射防止基材は、かかる基材の表
面に高屈折率層と低屈折率層とがこの順に積層されてい
るものであるが、かかる反射防止基材は、例えば基材の
表面に成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）を含有
する組成物を塗布して被膜を得、該被膜に活性化エネル
ギー線を照射することにより高屈折率層を形成し、次い
で有機ケイ素化合物を含有する組成物を塗布して被膜を
得、該被膜を硬化させることにより製造することができ
る。

【００３５】成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）
を含む組成物は、溶剤によって希釈されていてもよい。
溶剤としては、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）を
溶解または分散し得、塗布後揮発し得るものであれば特
に限定されるものではなく、これが塗布される基材の材
質、形状、塗布方法などに応じて適宜選択されるが、例
えばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノール、イソプロ
パノ−ル、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、イソ−ブ
タノール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコール類、
ジアセトンアルコール、２−エトキシエタノール、２−
ブトキシエタノール、３−メトキシプロパノール、１−
メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロ
パノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、トル
エン、キシレンなどの芳香族類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ルなどのエステル類などが挙げられる。溶剤の使用量
は、基材の材質、形状、塗布方法、目的とする高屈折率
層の厚みなどに応じて適宜選択されるが、通常は成分
（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）の合計量１００重
量部当たり５０〜１００００重量部程度である。

【００３６】かかる高屈折率層を形成するための組成物
は、重合開始剤、増感剤、安定化剤、酸化防止剤、着色
剤などの添加剤を含有していてもよい。重合開始剤とし
ては、例えばフェニルケトン系化合物、ベンゾフェノン
系化合物などの通常の重合開始剤を挙げることができ、
例えば「イルガキュア ９０７」（２−メチル−１−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロ
パン−１−オン）、「イルガキュア １８４」（１−ヒ
ドロキシシクロヘキシル−フェニル−ケトン）、「ダロ
キュア １１７３」（以上、チバスペシャリティーケミ
カルズ（株）製）、「エザキュア ＫＩＰ１００Ｆ」
（日本シーベルへグナー（株）製）などが挙げられる。
増感剤としては、例えば「エザキュア ＥＤＢ」（日本
シーベルへグナー（株）製）などが挙げられる。重合開
始剤や増感剤は、組成物を基材表面に塗布後、活性化エ
ネルギー線を照射することにより速やかに硬化させるた
めに含有される。

【００３７】かかる組成物を基材の表面に塗布すること
により成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）を含む
組成物からなる被膜が形成される。基材の表面に組成物
を塗布するには、通常と同様の方法、例えばマイクログ
ラビアコート法、ロールコート法、ディッピングコート
法、スピンコート法、ダイコート法、キャスト転写法、
スプレーコート法などの方法により塗布すればよい。

【００３８】次いで、この被膜に活性化エネルギー線を
照射する。活性化エネルギー線としては、例えば紫外
線、電子線、放射線などが挙げられ、成分（Ａ）の種類
に応じて適宜選択される。活性化エネルギー線の照射時
間は得に限定されないが、通常は０．１〜６０秒程度の
範囲である。また、活性化エネルギー線は、通常、１０
〜４０℃程度の雰囲気下で照射することができる。組成
物が溶剤を含有する場合、活性化エネルギー線は、被膜
が溶剤を含有した状態のまま照射してもよいし、溶剤を
揮発させた後に照射してもよい。

【００３９】次いで有機ケイ素化合物を含有する組成物
を塗布して被膜を得る。有機ケイ素化合物を含有する組
成物としては、例えば有機ケイ素化合物と溶剤との混合
物が用いられる。リカ粒子をさらに含有する組成物を用
いることにより、有機ケイ素化合物の硬化物中にシリカ
粒子が分散された低屈折率層を得ることができる。

【００４０】かかる組成物に用いられる溶剤としては、
有機ケイ素化合物を溶解し、塗布後揮発し得、シリカ粒
子を用いる場合にはこれを分散し得るものであれば特に
限定されるものではなく、高屈折率層の種類、基材の材
質、形状、塗布方法などに応じて適宜選択されるが、本
発明のコーティング用組成物におけると同様の溶剤を用
いることができる。

【００４１】かかる組成物は、反応促進剤、安定化剤、
酸化防止剤、着色剤などの添加剤を含有していてもよ
い。また、有機ケイ素化合物として、その加水分解生成
物を用いる場合には、塩酸、リン酸、酢酸などの酸また
は水酸化ナトリウム、酢酸ナトリウムなどの塩基などを
組成物に加えてもよい。

【００４２】塗布方法は、通常と同様の方法、例えばマ
イクログラビアコート法、ロールコート法、ディッピン
グコート法、スピンコート法、ダイコート法、キャスト
転写法、スプレーコート法などの方法が挙げられる。か
くして有機ケイ素化合物を含有する組成物からなる被膜
が形成される。

【００４３】次いで該被膜を硬化させる。硬化させるに
は、例えば加熱すればよい。加熱温度、加熱時間は用い
る有機ケイ素化合物の種類、使用量などに応じて適宜選
択される。かくして基材の表面に高屈折率層および低屈
折率層からなる反射防止層が設けられた反射防止基材を
得るが、かかる反射防止基材は反射防止層の硬度が十分
であるので耐擦傷性に優れており、光学部品として有用
である。

【００４４】

【発明の効果】本発明の反射防止基材は、十分な硬度を
備えていて耐擦傷性に優れている。また、高屈折率層を
形成する際に用いる成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分
（Ｃ）を含有する組成物は、比較的低温でも硬化し得て
高屈折率層を形成することができるので、反射防止層を
構成する高屈折率層を形成するためのコーティング用組
成物として好適に用いることができる。

【００４５】

【実施例】以下、実施例により本発明をより詳細に説明
するが、本発明かこれら実施例に限定されるものではな
い。なお、実施例で得た反射防止基材は、以下の方法で
評価した。 （１）反射率 反射防止基材の反射防止層側とは反対側の面をスチール
ウールで粗面化し、黒色ペンキを塗って乾燥し、次いで
反射防止層側の面の入射角度５°における絶対鏡面反射
スペクトルを紫外線可視分光光度計〔「ＵＶ−３１０
０」、島津製作所製〕を用いて測定し、反射率が最小値
を示す波長とその反射率の最小値を求めた。 （２）耐擦傷性 ガーゼに４９Ｎ／ｃｍ²の圧力を加えながら反射防止基
材の反射防止層が設けられた側の表面を往復させて、目
視で表面に傷が確認されるまでの往復回数で評価した。 （３）密着性 ＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の「碁盤目テープ法」に従
って反射防止層側の表面に設けた碁盤目１００個当たり
の剥離数で評価した。

【００４６】実施例１ （１）ハードコート層の形成 アクリル樹脂板〔「スミペックス Ｅ」、住友化学工業
(株)製、厚み２ｍｍ〕の一方の面にハードコート剤をデ
ィップコート法（引上げ速度５０ｃｍ／分）にて塗布
し、４０℃で１０分間乾燥した後、紫外線を照射してハ
ードコート層を設けた。このハードコート層は、帯電防
止性能を有している。ハードコート剤は、導電性粒子を
含有するハードコート剤〔「スミセファインＲ−３１
１」、住友大阪セメント(株)製、１００重量部当たり、
アンチモンがドープされた酸化スズ粒子（平均一次粒子
径５ｎｍ）を１．５重量部、ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートを１６．５重量部、シクロヘキシルア
クリレートを５重量部、Ｎ−ビニルピロリドンを４重量
部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル〕
−２−モルホリノプロパン−１−オン〔重合開始剤〕を
３重量部、メチルエチルケトンを４５重量部およびジア
セトンアルコールを１５重量部含有する組成物〕５３．
６重量部に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト〔「ＮＫエステル Ａ９５３０」、新中村化学(株)
製〕（６．９重量部）、メチルエチルケトン（１０．８
重量部）およびジアセトンアルコール（２４．２重量
部）を加えて混合して得たハードコート剤（ａ）を用い
た。

【００４７】（２）高屈折率層の形成 このハードコート層を有するアクリル樹脂板のハードコ
ート層の上に、ペンタエリスリトールトリアクリレート
〔成分（Ａ）〕（１．０重量部）、テトラエトキシシラ
ン〔成分（Ｂ）〕（０．１重量部）、平均一次粒子径
０．０１μｍである酸化ジルコニウムの粒子〔成分
（Ｃ）〕（１．７重量部）、１−ヒドロキシシクロヘキ
シル−フェニル−ケトン〔重合開始剤〕（０．２重量
部）およびイソブチルアルコール〔溶剤〕（９７重量
部）を混合して得たコーティング用組成物（ｂ）をディ
ップコート法（引上げ速度２０ｃｍ／分）により塗布
し、４０℃で１０分間乾燥したのち、紫外線を照射し
て、高屈折率層を設けた。

【００４８】（３）低屈折率層の形成 上記で設けた高屈折率層の上に、テトラエトキシシラン
〔有機ケイ素化合物〕（０．８重量部）、エタノール
〔溶剤〕（９８．４重量部）および０．１Ｎ塩酸〔１０
００ｃｍ³当たり０．１モルのＨＣｌを含有する水溶
液〕０．８重量部を混合して得た組成物（ｃ）をディッ
プコート法（引上げ速度２０ｃｍ／分）により塗布し、
室温で５分間乾燥したのち、８０℃で２０分間加熱して
低屈折率層を設け、反射防止基材を得た。

【００４９】この反射防止基材は、アクリル樹脂板の表
面にハードコート層が設けられており、該層の上に高屈
折率層および低屈折率層がこの順に設けられている。こ
の反射防止基材の評価結果を表１に示す。また、この反
射防止基材の反射スペクトルを図１に示す。

【００５０】実施例２ 実施例１と同様にしてアクリル樹脂板の表面にハードコ
ート層を設けた。このハードコート層を有するアクリル
樹脂板のハードコート層の上に、実施例１で得た組成物
（ｂ）に代えて、平均一次粒子径が０．０１μｍである
酸化ジルコニウム粒子〔成分（Ｃ）〕（１．７重量
部）、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート〔成分
（Ａ）〕（１．０重量部）、テトラメトキシシランオリ
ゴマー（「ＭＫＣシリケート ＭＳ５１」、三菱化学
(株)）〔成分（Ｂ）〕（０．１重量部）、イソブチルア
ルコール〔溶剤〕（９７重量部）、１−ヒドロキシシク
ロヘキシル−フェニル−ケトン〔重合開始剤〕（０．２
重量部）を混合して得たコーティング用組成物（ｄ）を
用いる以外は実施例１と同様に操作して高屈折率層を設
け、次いで低屈折率層を設けて反射防止基材を得た。こ
の反射防止基材の評価結果を表１に示す。

【００５１】比較例１ 実施例１と同様にしてアクリル樹脂板の表面にハードコ
ート層を設けた。このハードコート層を有するアクリル
樹脂板のハードコート層の上に、実施例１で得た組成物
（ｂ）に代えて、平均一次粒子径が０．０１μｍである
酸化ジルコニウム粒子〔成分（Ｃ）〕（１．７重量
部）、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート〔成分
（Ａ）〕（１．０重量部）、イソブチルアルコール〔溶
剤〕（９７重量部）、１−ヒドロキシシクロヘキシル−
フェニル−ケトン〔重合開始剤〕（０．３重量部）を混
合して得たコーティング用組成物（ｅ）を用いる以外は
実施例１と同様に操作して高屈折率層を設け、次いで低
屈折率層を設けて反射防止基材を得た。この反射防止基
材の評価結果を表１に示す。

【００５２】

【表１】 ────────────────────────────────── 反射率が最小値を示す 耐擦傷性 密着性 波長 反射率 (nm) (％) ────────────────────────────────── 実施例１ ５６４ ０．２３ １００往復以上 ０（剥離なし） 実施例２ ５９２ ０．２４ １００往復以上 ０（剥離なし） 比較例１ ５７８ ０．２３ １０往復 ２５ ──────────────────────────────────

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１で得た反射防止基材の反射スペクトル
を示す図であり、横軸は波長を、縦軸は反射率をそれぞ
れ示す。

フロントページの続き (72)発明者 赤田 勝己 愛媛県新居浜市惣開町５番１号 住友化学 工業株式会社内 (72)発明者 高橋 賢次 千葉県船橋市豊富町585番地 住友大阪セ メント株式会社内 (72)発明者 加藤 博貢 千葉県船橋市豊富町585番地 住友大阪セ メント株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA05 AA15 BB02 BB14 BB24 CC03 CC09 CC24 CC42 DD02 DD05 EE03 4F100 AA17A AA21A AA28A AH06A AH06B AK01C AK25 AK28A AK52A AL05A AR00A AR00B AT00C BA03 BA07 EH462 EJ082 EJ522 GB90 JB14A JK06 JK09 JM02A JN06 JN18A JN18B

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】以下の成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分
   （Ｃ）を含有する被膜が硬化されてなる高屈折率層と、
   有機ケイ素化合物の硬化物からなる低屈折率層とがこの
   順で基材の表面に積層されてなることを特徴とする反射
   防止基材。 成分（Ａ）：不飽和二重結合を２個以上有し活性化エネ
   ルギー線を照射することにより重合可能な化合物または
   そのオリゴマー 成分（Ｂ）：有機ケイ素化合物、その重合体または加水
   分解生成物 成分（Ｃ）：酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ
   および酸化アンチモンから選ばれる少なくとも１種の金
   属酸化物の粒子
2. 【請求項２】高屈折率層が、成分（Ａ）、成分（Ｂ）お
   よび成分（Ｃ）の合計量１００重量部当たり、成分
   （Ａ）を２０〜８０重量部、成分（Ｂ）を１〜２０重量
   部、成分（Ｃ）を１０〜７０重量部それぞれ含有する被
   膜が硬化されてなる層である請求項１に記載の反射防止
   基材。
3. 【請求項３】基材が、表面にハードコート層を有する樹
   脂基材である請求項１に記載の反射防止基材。
4. 【請求項４】以下の成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分
   （Ｃ）からなることを特徴とする組成物。 成分（Ａ）：不飽和二重結合を２個以上有し活性化エネ
   ルギー線を照射することにより重合可能な化合物または
   そのオリゴマー 成分（Ｂ）：有機ケイ素化合物、その重合体または加水
   分解生成物 成分（Ｃ）：酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ
   および酸化アンチモンから選ばれる少なくとも１種の金
   属酸化物の粒子
5. 【請求項５】成分（Ａ）、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）
   の合計量１００重量部当たり、成分（Ａ）を２０〜８０
   重量部、成分（Ｂ）を１〜２０重量部、成分（Ｃ）を１
   ０〜７０重量部それぞれ含む請求項４に記載の組成物。
6. 【請求項６】請求項４に記載の組成物を基材の表面に塗
   布して被膜を得、該被膜に活性化エネルギー線を照射す
   ることを特徴とする高屈折率層の形成方法。