JP5297633B2 - 反射防止フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、反射防止フィルム、該フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置に関する。

反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）などのような様々な画像表示装置において、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、ディスプレイの表面に配置される。そのため反射防止フィルムには、高い物理強度（耐擦傷性など）、透明性、耐薬品性、耐候性（耐湿熱性、耐光性など）が要求される。さらにまた、ディスプレイの視認性を低下させる塵埃（埃など）が、反射防止フィルムの表面に付着するのを防止するために帯電防止性が要求される。

導電性の金属酸化物を含有する反射防止フィルムが知られている（特許文献１参照）。金属酸化物を導電性材料として用いる場合には、導電性を出すために導電性層に金属酸化物の密度を高くする必要があるが、その場合、金属酸化物の過剰添加の影響から透明性、硬度、耐久性に影響を及ぼすことがある。

一方、導電性ポリマーを導電性材料として用いる反射防止フィルムが知られている（特許文献２参照）。これは導電性ポリマーをその単量体の気相重合により形成するものであるが、生産性、耐久性において更なる改善が望まれていた。

特開２００５−１９６１２２号公報 特開２００５−９６３９７号公報

本発明は、塵埃（埃など）の付着防止を目的とした帯電防止性に優れ、生産性に優れ、密着性が高く、耐擦傷性など高い物理強度を有する反射防止フィルムを提供することである。

また、本発明は、該反射防止フィルムを用いた偏光板（適切な手段により反射防止処理がされている、偏光板用保護フィルム）、及び画像表示装置を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、以下に示す手段により上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は下記の通りである。
［１］
透明支持体上に
高分子からなる透明導電性材料、及び複数の架橋反応基を有し、少なくとも１つの架橋反応基は透明導電性材料と架橋する架橋点形成化合物を含有する組成物から形成される少なくとも1層の導電性層と、
前記透明支持体と前記導電性層との間に少なくとも１層のハードコート層又は防眩層と、
少なくとも1層の低屈折率層とを有する反射防止フィルムの製造方法であって、
前記透明導電性材料が、π共役系導電性高分子と高分子ドーパントからなる複合体であり、
前記架橋点形成化合物として、前記高分子ドーパントと架橋する基と、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有するオリゴマーを含み、下記一般式（１）及び下記一般式（２）で表される化合物からそれぞれ選ばれる混合物の加水分解物及びその縮合物を用いる反射防止フィルムの製造方法。
一般式（１） （Ｒ^１）m−Ｍ^１−（ＯＲ^３）n
（Ｒ¹は前記高分子ドーパントと架橋する基を部分構造として有する基、Ｒ³はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、nは１以上であり、mは１以上である。Ｍ^１は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。）
一般式（２） （Ｒ^２）p−Ｍ^２−（ＯＲ^４）q
（Ｒ²はエチレン性不飽和二重結合を有する基を部分構造として有する基、Ｒ^４はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、pは１以上であり、qは１以上である。Ｍ^２は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。）
［２］
前記加水分解物及びその縮合物の質量平均分子量が５００〜５０００である［１］に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［３］
前記質量平均分子量が、分子量３００未満の成分を除いた質量平均分子量である［２］に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［４］
前記オリゴマーが１価アルコールまたは２価アルコールの少なくとも１種及び水の存在下で形成される［１］〜［３］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［５］
前記架橋点形成化合物の塗布量が１平米あたり、０．０１ｇ〜３．０ｇである［１］〜［４］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［６］
前記高分子ドーパントが、少なくとも２種の基を有し、少なくとも1種はアニオン性基、少なくとも他の1種はアニオン性基でない基である［１］〜［５］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
［７］
前記導電性層上に、前記透明支持体から近い側に屈折率が１．５〜１．７の中屈折率層、屈折率１．７〜２．１の高屈折率層を形成する工程と、さらに屈折率１．３〜１．５の低屈折率層を形成する工程と、を有する［１］〜［６］のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
上記目的は以下の各手段によっても達成できる。

（１） 透明支持体上に高分子からなる透明導電性材料、及び複数の架橋反応基を有し、少なくとも１つの架橋反応基は透明導電性材料と架橋する架橋点形成化合物を含有する組成物から形成される少なくとも1層の導電性層と、少なくとも1層の低屈折率層とを有する反射防止フィルム。
（２） 前記透明支持体と前記導電性層との間に少なくとも１層のハードコート層又は防眩層を有する上記（１）に記載の反射防止フィルム。
（３） 前記透明導電性材料が、π共役系導電性高分子と高分子ドーパントからなる複合体である上記（１）または（２）に記載の反射防止フィルム。
（４） 前記高分子ドーパントが、少なくとも2種の基を有し、少なくとも1種はアニオン性基、少なくとも他の1種はアニオン性基でない基である上記（３）に記載の反射防止フィルム。
（５） 前記架橋点形成化合物が、前記高分子ドーパントと架橋する基を有する上記（３）または（４）に記載の反射防止フィルム。
（６） 前記架橋点形成化合物が、前記高分子ドーパントと架橋する基と、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有する化合物、又は前記高分子ドーパントと架橋する基と、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有するオリゴマーである上記（３）〜（５）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（７） 前記架橋点形成化合物が、下記一般式（１）及び下記一般式（２）で表される化合物からそれぞれ選ばれた少なくとも1種の混合物の加水分解物及びその縮合物である上記（３）〜（６）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
一般式（１） （Ｒ^１）m−Ｍ^１−（ＯＲ^３）n
（Ｒ^１は前記高分子ドーパントと架橋する基を部分構造として有する基、Ｒ^３はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、nは１以上であり、mは１以上である。Ｍ^１は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。）
一般式（２） （Ｒ^２）p−Ｍ^２−（ＯＲ^４）q
（Ｒ^２はエチレン性不飽和二重結合を有する基を部分構造として有する基、Ｒ^４はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、pは１以上であり、qは１以上である。Ｍ^２は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。）
（８） 前記導電性層上の前記透明支持体から遠い側に屈折率が１．５〜１．７の中屈折率層、屈折率１．７〜２．１の高屈折率層があり、さらに屈折率１．３〜１．５の低屈折率層を有する上記（１）〜（７）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（９） 偏光膜を２枚の保護フィルムで挟んでなる偏光板であって、少なくとも一方の保護フィルムが上記（１）〜（８）のいずれかに記載の反射防止フィルムである偏光板。
（１０） 上記（９）に記載の偏光板を具備した画像表示装置。

本発明によれば、帯電防止性能に優れ、生産性に優れ、フィルムの密着性が高く、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムを得ることができる。本発明の反射防止フィルム又は偏光板を備えたディスプレイ装置（画像表示装置）は、外光の映り込みや背景の映りこみが少なく、極めて視認性が高い特徴を有する。

以下、本発明の反射防止フィルムについて説明する。

＜反射防止フィルムの層構成＞
本発明の反射防止フィルムは、透明な基材（透明支持体、基材フィルム、又は支持体とも言う。）上に、少なくとも1層の導電性層と、少なくとも1層の低屈折率層を有し、目的に応じてその他の機能層を単独又は複数層設けることができる。
好ましい態様としては、基材上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層された反射防止フィルムを挙げることができる。反射防止フィルムは、最も単純な構成では、基材上に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、反射防止層を、基材よりも屈折率の高い高屈折率層と、基材よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、基材側から高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（基材又はハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する基材上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に塗布することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。
また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。

本発明における反射防止フィルムの好ましい層構成の例を下記に示す。下記構成において基材フィルムは、フィルムで構成された支持体を指している。
・基材フィルム／導電性層／低屈折率層
・基材フィルム／ハードコート層／導電性層／低屈折率層
・基材フィルム／防眩層／導電性層／低屈折率層
・基材フィルム／導電性層／ハードコート層／低屈折率層
・基材フィルム／導電性層／防眩層／低屈折率層
・基材フィルム／防湿層／ハードコート層／導電性層／低屈折率層
・基材フィルム／防湿層／防眩層／導電性層／低屈折率層
・防湿層／基材フィルム／ハードコート層／導電性層／低屈折率層
・防湿層／基材フィルム／防眩層／導電性層／低屈折率層
・基材フィルム／導電性層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・基材フィルム／ハードコート層／導電性層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・防湿層／基材フィルム／ハードコート層／導電性層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層

これらの層は、蒸着、大気圧プラズマ、塗布などの方法により形成することができるが、生産性の観点からは、塗布により形成することが好ましい。

以下、本発明の反射防止フィルムを構成する各層について説明する。

１．導電性層
本発明の導電性層は、導電性、可撓性、隣接層との密着性が高く、塗布方法で簡易に製造できる。

（１）透明導電性材料
透明導電性材料とは、透明で導電性を有する、高分子からなる物質であり、単一の素材、もしくは複数の素材の複合体である。
透明導電性材料は、イオン導電性を示すカチオン性又はアニオン性のポリマー、または電子伝導性を示すπ共役系導電性ポリマーとそれに付随するドーパントの複合体が好ましく用いられる。特にπ共役系導電性ポリマーとそれに付随するドーパントの複合体が好ましい。

１-（1）π共役系導電性ポリマー
π共役系導電性高分子は、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用できる。例えば、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体等が挙げられる。重合の容易さ、空気中での安定性の点からは、ポリピロール類、ポリチオフェン類及びポリアニリン類が好ましい。π共役系導電性高分子は無置換のままでも、充分な導電性、バインダ樹脂への相溶性を得ることができるが、導電性及びバインダ樹脂への分散性又は溶解性をより高めるためには、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基をπ共役系導電性高分子に導入することが好ましい。

このようなπ共役系導電性高分子の具体例としては、ポリピロール類の例には、ポリ（３−メチルピロール）、ポリ（３−エチルピロール）、ポリ（３−ｎ−プロピルピロール）、ポリ（３−ブチルピロール）、ポリ（３−オクチルピロール）、ポリ（３−デシルピロール）、ポリ（３−ドデシルピロール）、ポリ（３，４−ジメチルピロール）、ポリ（３，４−ジブチルピロール）、ポリ（３−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルピロール）、ポリ（３−ヒドロキシピロール）、ポリ（３−メトキシピロール）、ポリ（３−エトキシピロール）、ポリ（３−ブトキシピロール）、ポリ（３−ヘキシルオキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−ヘキシルオキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−ヘキシルオキシピロール）等が挙げられる。

ポリチオフェン類の例には、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（３−エチルチオフェン）、ポリ（３−プロピルチオフェン）、ポリ（３−ブチルチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルチオフェン）、ポリ（３−オクチルチオフェン）、ポリ（３−デシルチオフェン）、ポリ（３−ドデシルチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルチオフェン）、ポリ（３−ブロモチオフェン）、ポリ（３−クロロチオフェン）、ポリ（３−ヨードチオフェン）、ポリ（３−シアノチオフェン）、ポリ（３−フェニルチオフェン）、ポリ（３，４−ジメチルチオフェン）、ポリ（３，４−ジブチルチオフェン）、ポリ（３−ヒドロキシチオフェン）、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３−エトキシチオフェン）、ポリ（３−ブトキシチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクチルオキシチオフェン）、ポリ（３−デシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヒドロキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジメトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジエトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジプロポキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジブトキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジオクチルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−プロピレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ブテンジオキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−メトキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−エトキシチオフェン）、ポリ（３−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルチオフェン）等が挙げられる。

ポリアニリン類の例には、ポリ（２−メチルアニリン）、ポリ（３−イソブチルアニリン）、ポリ（２−アニリンスルホン酸）、ポリ（３−アニリンスルホン酸）等が挙げられる。

中でも、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ（Ｎ−メチルピロール）、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）から選ばれる１種又は２種からなる（共）重合体が抵抗値、反応性の点から好適に用いられる。さらには、ポリピロール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）は、導電性がより高い上に、耐熱性が向上する点から、より好ましい。また、ポリ（Ｎ−メチルピロール）、ポリ（３−メチルチオフェン）のようなアルキル置換化合物は溶媒溶解性や、バインダ樹脂との相溶性及び分散性を向上させるためより好ましい。アルキル基の中では導電性に悪影響を与えることがないため、メチル基が好ましい。

１-（2）ドーパント
透明導電性材料は、前記π共役系導電性高分子とドーパントの複合体であることが好ましい。ドーパントは、高分子ドーパントであることが好ましく、特に分子内にアニオン性基を有するポリアニオンをドーパントとすることが特に好ましい。
以下、ポリアニオンからなるドーパントのことをポリアニオンドーパントいう。このポリアニオンドーパントは、導電性高分子に化学酸化ドープして塩を形成して複合体を形成する。

ポリアニオンドーパントのアニオン基としては、導電性高分子への化学酸化ドープが起こり、かつアニオン基のプロトン酸がビニル基、グリシジル基、ヒドロキシ基のいずれかと結合可能な官能基であることが好ましい。具体的には、硫酸基、リン酸基、スルホ基、カルボキシ基、ホスホ基等が好ましく、さらに、化学酸化ドープの観点から、スルホ基、カルボキシ基がより好ましい。

スルホ基を有するポリアニオンドーパントとしては、例えば、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリルスルホン酸、ポリメタクリルスルホン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。

カルボキシ基を有するポリアニオンドーパントとしては、例えば、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。

透明導電性材料は、溶媒中、上記π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤と酸化触媒と前記高分子ドーパント（好適にはポリアニオン）の存在下で化学酸化重合することによって容易に製造できる。

導電性材料は、電気伝導性と熱安定性をより向上させるためにポリアニオンドーパント以外のドーパントを含有してもよい。そのドーパントとしては、ハロゲン化合物、ルイス酸、プロトン酸などが挙げられ、具体的には、有機カルボン酸、有機スルホン酸等の有機酸、有機シアノ化合物、フラーレン化合物などが挙げられる。

ハロゲン化合物としては、例えば、塩素、臭素、ヨウ素、塩化ヨウ素、臭化ヨウ、フッ化ヨウ素等が挙げられる。

プロトン酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウフッ化水素酸、フッ化水素酸、過塩素酸等の無機酸や、有機カルボン酸、フェノール類、有機スルホン酸等が挙げられる。

さらに、有機カルボン酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、ショウ酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、マロン酸、酒石酸、クエン酸、乳酸、コハク酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ニトロ酢酸、トリフェニル酢酸等が挙げられる。

有機スルホン酸としては、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸、アルキルナフタレンスルホン酸、アルキルナフタレンジスルホン酸、ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物、メラミンスルホン酸ホルマリン重縮合物、ナフタレンジスルホン酸、ナフタレントリスルホン酸、ジナフチルメタンジスルホン酸、アントラキノンスルホン酸、アントラキノンジスルホン酸、アントラセンスルホン酸、ピレンスルホン酸などが挙げられる。また、これらの金属塩も使用できる。

有機シアノ化合物としては、例えば、ジクロロジシアノベンゾキノン（ＤＤＱ）、テトラシアノキノジメタンテトラシアノアザナフタレンなどが挙げられる。

フラーレン化合物としては、例えば、水素化フラーレン、水酸化フラーレン、カルボン酸化フラーレン、スルホン酸化フラーレンなどが挙げられる。

高分子ドーパントは、後述する架橋点形成化合物と架橋することが好ましい。これにより、導電性層の密着性を高め、優れた耐擦傷性を実現することができる。
また、前記高分子ドーパントは、少なくとも２種の官能基を有し、少なくとも１種はアニオン性基、少なくとも他の１種はアニオン性基でない基であることが好ましい。
前記高分子ドーパントが有する官能基のうち、前記π共役系導電性高分子と塩を形成しなかった残存アニオン性基、又はアニオン性基でない基は後述する架橋点形成化合物と架橋することが好ましい。
前記高分子ドーパントのアニオン性基でない官能基としては、後述する架橋点形成化合物と架橋する基であれば特に限定されないが、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基などが挙げられ、それぞれ、２−ビニルエタノール、（ヒドロキシメチル）ビニルケトン、（２−ヒドロキシエチル）ビニルケトン、アリルアミン、２−アミノエチルビニルエーテル、３−ビニルオキシ−１−プロパンアミン、２−アリルアミノエタンチオールなどを高分子ドーパントに共重合することにより導入される。アニオン性基でない官能基を有する単量体の共重合比としては１〜５０モル％が好ましく、５〜３０モル％が特に好ましく、１モル％を下回ると架橋点数が不十分となり、５０モル％を超えると、アニオンドーパントとして十分に機能しない。

１-（3）π共役系導電性ポリマーと高分子ドーパントからなる複合体
以下、π共役系導電性ポリマーと高分子ドーパントの複合体においてポリアニオンドーパントを例にとって説明する。

複合体の形成の際には、導電性高分子の主鎖の成長と共にポリアニオンドーパントのアニオン基が導電性高分子と塩を形成するため、導電性高分子の主鎖はポリアニオンドーパントに沿って成長する。よって、得られた導電性高分子とポリアニオンドーパントは無数に塩を形成した複合体になる。この複合体においては、導電性高分子のモノマー３ユニットに対して１ユニットのアニオン基が塩を形成し、短く成長した導電性高分子の数本が長いポリアニオンドーパントに沿って塩を形成しているものと推定されている。

導電性高分子とポリアニオンドーパントとを複合した複合体を形成する方法としては、例えば、ポリアニオンドーパントの存在下、導電性高分子を形成するモノマーを化学酸化重合する方法などが挙げられる。

化学酸化重合においてモノマーを重合するために使用される酸化剤、酸化触媒としては、前記前駆体モノマーを酸化させてπ共役系導電性高分子を得ることができるものであればよく、例えば、ぺルオキソ二硫酸アンモニウム、ぺルオキソ二硫酸ナトリウム、ぺルオキソ二硫酸カリウム等のぺルオキソ二硫酸塩、塩化第二鉄、硫酸第二鉄、硝酸第二鉄、塩化第二銅等の遷移金属化合物、三フッ化ホウ素、塩化アルミニウムなどの金属ハロゲン化合物、酸化銀、酸化セシウム等の金属酸化物、過酸化水素、オゾン等の過酸化物、過酸化ベンゾイル等の有機過酸化物、酸素等が挙げられる。

また、化学酸化重合は溶媒中で行われてもよい。その際に使用される溶媒としては、ポリアニオンドーパントおよび導電性高分子を溶解するものであれば特に制限されず、例えば、水、メタノール、エタノール、プロピレンカーボネート、クレゾール、フェノール、キシレノール、アセトン、メチルエチルケトン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジン、ジメチルイミダゾリン、酢酸エチル、２−メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジフェニルスルホン等が挙げられる。これら溶媒は必要に応じて、１種類もしくは２種類以上の混合溶媒で用いることができる。

透明導電性材料の塗布量としては、１平米あたり、０．０１ｇ〜５．０ｇが好ましく、０．０５〜２．０ｇがより好ましく、０．１０ｇ〜１．０ｇが最も好ましい。
また、透明導電性材料が前述したπ共役系導電性ポリマーと高分子ドーパントの複合体である場合には、π共役系導電性ポリマーのユニットあたりの分子量と、高分子ドーパントのユニットあたりの分子量の比が１：１〜１：５であることが好ましく、１：１〜１：２であることがより好ましい。

１-（４）架橋点形成化合物
本発明において架橋点形成化合物とは、複数の架橋反応基を有し、少なくとも１つの架橋反応基は透明導電性材料と架橋する化合物を指す。
架橋点形成化合物は、透明性導電性材料がπ共役系導電性高分子と高分子ドーパントからなる複合体であるとき、高分子ドーパントと架橋することが好ましく、高分子ドーパントの残存アニオン性基、及び／またはアニオン性基でない官能基と架橋することが特に好ましい。
架橋点形成化合物において、高分子ドーパントのアニオン性基、またはアニオン性基でない基と架橋する基としては、好ましくは、水酸基、アルコキシシリル基、環状エーテル基、イソシアナート基であり、より好ましくはグリシジル基、オキセタン基、イソシアナート基であり、最も好ましくはイソシアナート基を部分構造として有する基である。 本発明の好ましい1つの態様においては、高分子ドーパントのポリアニオンの残存アニオン基（例えば、スルホ基、カルボキシル基）と、架橋点形成化合物の水酸基、アルコキシシリル基、環状エーテル基、が反応してエステルを形成して、架橋を行うものである。また、本発明の別の好ましい態様としては、高分子ドーパントのアニオン性基でない基（例えば水酸基、アミノ基）と、架橋点形成化合物の環状エーテル基、イソシアナート基、が反応して、架橋を行うものである。
これらの反応基を有効に反応させるために各種、触媒や各種の重合開始剤を使用してもよい。
環状エーテル基については、３級アミン、４級アンモニウム塩などの触媒や、ヨードニウム塩、スルホニウム塩などの光カチオン開始剤を使用してもよい。
イソシアナート基については、３級アミンや有機金属化合物などの触媒を使用してもよい。

本発明の好ましい態様として、架橋点形成化合物は、高分子ドーパントと架橋する基と、高分子ドーパントと架橋する基以外の反応性基を有することが好ましい。高分子ドーパントと架橋する基以外の反応性基としては、エチレン性不飽和二重結合を有する基が好ましく、具体的には（メタ）アクリル基、アリル基、ビニルエーテル基、（メタ）アクリルアミド基を部分構造として有する基を有することが好ましい。
これらの反応基を有効に反応させるために各種、触媒や各種の重合開始剤を使用してもよく、特に各種の光ラジカル開始剤が好ましく用いられる。

好ましい架橋点形成化合物は特に限定されないが具体例を以下に列挙する。

本発明の別の好ましい態様として、架橋点形成化合物が、高分子ドーパントと架橋する基とエチレン性不飽和二重結合を有する基を有するオリゴマーであることが好ましい。高分子ドーパントと架橋する基とエチレン性不飽和二重結合を有する基については、前述した通りである。

高分子ドーパントと架橋する基とエチレン性不飽和二重結合を有する基を有するオリゴマーの質量平均分子量としては、分子量が３００未満の成分を除いた場合に、５００〜１００００が好ましく、５００〜５０００がより好ましく、７００〜３０００が最も好ましい。

高分子ドーパントと架橋する基とエチレン性不飽和二重結合を有する基を有するオリゴマーにおける分子量が３００以上の成分のうち、分子量が１００００より大きい成分は１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以下であることが更に好ましい。１０質量％より多く含有すると、高分子ドーパントと架橋する基とエチレン性不飽和二重結合を有する基を有するオリゴマーを含有する（硬化性）組成物を硬化させて得られる硬化皮膜は、透明性や基板との密着性が劣る場合がある。

ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。

また、前記架橋点形成化合物が、下記一般式（１）及び下記一般式（２）で表される化合物からそれぞれ選ばれる少なくとも1種の混合物の加水分解物及び／又はその縮合物であることが好ましい。

一般式（１） （Ｒ^１）m−Ｍ^１−（ＯＲ^３）n
（Ｒ^１は前記高分子ドーパントと架橋する基を部分構造として有する基、Ｒ^３はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、nは１以上であり、mは１以上である。Ｍ^１は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。）
Ｒ^１は前記高分子ドーパントと架橋する基であり、好ましくは環状エーテル基、イソシアナート基であり、より好ましくはグリシジル基、オキセタン基、イソシアナート基を部分構造として有する基である。
Ｒ^３はアルキル基が好ましく、特にエチル基、メチル基が好ましい。
ｍは１であることがより好ましく、ｎは２以上であることが好ましい。
Ｍ^１は特にケイ素であることが好ましい。

一般式（２） （Ｒ^２）p−Ｍ^２−（ＯＲ^４）q
（Ｒ^２はエチレン性不飽和二重結合を有する基を部分構造として有する基、Ｒ^４はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、pは１以上であり、qは１以上である。Ｍ^２は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。）
Ｒ^２はエチレン性不飽和二重結合を有する基であり、好ましくは（メタ）アクリル基、アリル基、ビニルエーテル基、（メタ）アクリルアミド基を部分構造として有する基である。
Ｒ^４はアルキル基が好ましく、特にエチル基、メチル基が好ましい。
ｐは１であることがより好ましく、ｑは２以上であることが好ましい。
Ｍ^２は特にケイ素であることが好ましい。

一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物からそれぞれ選ばれる少なくとも1種の混合物の加水分解物及び／又はその縮合物は、ゾル状の架橋点形成化合物であって、複数の架橋点で高分子ドーパントと結合し、さらに複数の架橋点で架橋点形成化合物同士で結合し合うため、導電性層の架橋点密度を高める。

一般式（１）の具体例は特に限定されないが以下のものが例示できる。

一般式（２）の具体例は特に限定されないが以下のものが例示できる。

一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物からそれぞれ選ばれる少なくとも1種の混合物としては、一般式（１）の化合物：一般式（２）の化合物のモル比で１：９〜９：１が好ましく、２：８〜８：２がより好ましく、３：７〜７：３が特に好ましい。
加水分解縮合反応は加水分解性基（一般式のＯＲ^３、ＯＲ^４）１モルに対して０．０５〜２．０モル、好ましくは０．１〜１．０モルの水を添加し、本発明に用いられる触媒の存在下、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。

加水分解物およびその部分縮合物の質量平均分子量は、分子量が３００未満の成分を除いた場合に、５００〜１００００が好ましく、５００〜５０００がより好ましく、７００〜３０００が最も好ましい。

加水分解物およびその部分縮合物における分子量が３００以上の成分のうち、分子量が１００００より大きい成分は１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以下であることが更に好ましい。１０質量％より多く含有すると、加水分解物およびその部分縮合物を含有する硬化性組成物を硬化させて得られる硬化皮膜は、透明性や基板との密着性が劣る場合がある。

ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。

加水分解物および部分縮合物の²⁹Ｓｉ−ＮＭＲ分析により一般式（１）の加水分解性基が−ＯＳｉの形で縮合している状態を確認できる。
この時、Ｓｉの３つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ３）、Ｓｉの２つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ２）、Ｓｉの１つの結合が−ＯＳｉの形で縮合している場合（Ｔ１）、Ｓｉが全く縮合していない場合を（Ｔ０）とした場合に縮合率αは数式（Ｉ）：α＝（Ｔ３×３＋Ｔ２×２＋Ｔ１×１）／３／（Ｔ３＋Ｔ２＋Ｔ１＋Ｔ０）で表され、縮合率は０．２〜０．９５が好ましく、０．３〜０．９３がより好ましく、０．４〜０．９がとくに好ましい。
０．１より小さいと加水分解や縮合が十分でなく、モノマー成分が増えるため硬化が十分でなく、０．９５より大きいと加水分解や縮合が進みすぎ、加水分解可能な基が消費されてしまうため、バインダーポリマー、樹脂基板、無機微粒子などの相互作用が低下してしまい、これらを用いても効果が得られにくくなる。

加水分解物および部分縮合物についてさらに詳細を説明する。加水分解反応、それに引き続く縮合反応は、一般に触媒の存在下で行われる。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、酪酸、マレイン酸、クエン酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブチルチタネート、ジブチル錫ジラウレート等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等；ＫＦ、ＮＨ_４Ｆなどの含Ｆ化合物が挙げられる。
上記触媒は単独で使用しても良く、或いは複数種を併用しても良い。

加水分解・縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができるが成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒は一般式（１）及び/又は一般式（２）で表される化合物と触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。

このうち、アルコール類としては、例えば１価アルコールまたは２価アルコールを挙げることができ、このうち１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽和脂肪族アルコールが好ましい。

これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。

また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶媒は、１種単独であるいは２種以上を混合して使用することもできる。該反応における固形分の濃度は特に限定されるものではないが通常１％〜１００％の範囲である。

一般式（１）及び一般式（２）の加水分解性基１モルに対して０．０５〜２モル、好ましくは０．１〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして触媒の存在下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。
本発明においては、一般式Ｒ^５ＯＨ（式中、Ｒ^５は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと一般式Ｒ^６ＣＯＣＨ_２ＣＯＲ^７ (式中、Ｒ^６は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ^７は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、ＴｉまたはＡｌから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも１種の金属キレート化合物の存在下で、２５〜１００℃で撹拌することにより加水分解を行うことが好ましい。
もしくは触媒に含フッ素化合物を使用する場合、含フッ素化合物が完全に加水分解・縮合を進行させる能力が有るため、添加する水量を選択することにより重合度が決定でき、任意の分子量の設定が可能となるので好ましい。

金属キレート化合物は、一般式Ｒ^５ＯＨ（式中、Ｒ^５は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールとＲ^６ＣＯＣＨ_２ＣＯＲ^７（式中、Ｒ^６は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ^７は炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる 金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ^５）ｐ１（Ｒ^６ＣＯＣＨＣＯＲ^７）ｐ２、Ｔｉ（ＯＲ^５）ｑ１（Ｒ^６ＣＯＣＨＣＯＲ^７）ｑ２、およびＡｌ（ＯＲ^５）ｒ１（Ｒ^６ＣＯＣＨＣＯＲ^７）ｒ２で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、加水分解物および部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のＲ^５およびＲ^６は、同一または異なってもよく炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、sec −ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ^７は、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、sec −ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、 金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、およびｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。

これらの金属キレート化合物の具体例としては特に限定されないが、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。

これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。

金属キレート化合物は、一般式（１）及び一般式（２）の化合物に対し、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜５０質量％、さらに好ましくは０．５〜１０質量％の割合で用いられる。金属キレート化合物が上記範囲で用いられることにより縮合反応が早く、塗膜の耐久性が良好であり、本発明の加水分解物および部分縮合物と金属キレート化合物を含有してなる組成物の保存安定性が良好である。

本発明に用いられる塗布液には、上記ゾル成分および金属キレート化合物を含む組成物に加えて、β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかが添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。

本発明で使用されるのは、一般式Ｒ^６ＣＯＣＨ₂ＣＯＲ^７で表されるβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかであり、本発明に用いられる組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、前記金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウムおよびアルミニウム化合物の少なくともいずれかの化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物による一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物の加水分解物および部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物を構成するＲ^６およびＲ^７は、前記金属キレート化合物を構成するＲ^６およびＲ^７と同様である。

このβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−sec-ブチル、アセト酢酸−ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物は、１種単独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物およびβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられる。２モル未満では得られる組成物の保存安定性に劣るおそれがあり好ましいものではない。

架橋点形成化合物の塗布量としては、１平米あたり、０．０１ｇ〜３．０ｇが好ましく、０．０２〜２．０ｇがより好ましく、０．０５ｇ〜１．０ｇが最も好ましい。

本発明において導電性層は、後述する塗布方法により容易に形成することができる。導電性層の厚さは、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０３〜７μｍであることがより好ましく、０．０５〜５μｍであることがさらに好ましい。

また、導電性層の表面抵抗は、１０^４〜１０^１３Ω／ｓｑであることが好ましく、１０^５〜１０^１２Ω／ｓｑであることがさらに好ましく、１０^６〜１０^１１Ω／ｓｑであることが最も好ましい。導電性層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。

導電性層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、導電性層のヘイズが、１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。波長５５０ｎｍの光の透過率が、５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが最も好ましい。
さらに導電性層は、屈折率が１．４０〜１．７０であることが好ましく、１．４５〜１．６０であることがより好ましい。

本発明の導電性層は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましく、４Ｈ以上であることが最も好ましい。

本発明において、透明支持体と前記導電性層との間に、以下に述べる、少なくとも１層のハードコート層又は防眩層を有することが、反射防止フィルムの密着性を向上させる点で好ましい。支持体と導電性層の密着は、高分子材料からなる透明導電性材料を含有する導電性層形成用組成物に前記架橋点形成化合物を含有することで一定のレベルにまで改良されるが、ハードコート層又は防眩層を架橋性又は重合性の化合物を用いて形成することで更に改良される。

１．ハードコート層
本発明の反射防止フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、好ましくは透明支持体の一方の面にハードコート層を設けることができる。ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。

本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計からは、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．５２〜１．９０であり、更に好ましくは１．５５〜１．８０である。本発明の好ましい態様である、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも１層ある態様では、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは２μｍ〜１０μｍ、最も好ましくは３μｍ〜７μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
さらに、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に直接、又は他の層を介し塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

上記の重合性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性の官能基をバインダーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を有するモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１５．０μｍ、好ましくは１．５〜１０．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子を含有してもよい。

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマーまたは無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマーおよび／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。

ハードコート層のヘイズは、反射防止フィルムに付与させる機能によって異なる。
画像の鮮明性を維持し、表面の反射率を抑えて、ハードコート層の内部及び表面にて光散乱機能を付与しない場合は、ヘイズ値は低い程良く、具体的には１０％以下が好ましく、更に好ましくは５％以下であり、最も好ましくは２％以下である。

一方、ハードコート層の表面散乱にて、防眩機能を付与する場合は、表面ヘイズが５％〜１５％であることが好ましく、５％〜１０％であることがより好ましい。
また、ハードコート層の内部散乱により液晶パネルの模様や色ムラ、輝度ムラ、ギラツキなどを見難くしたり、散乱により視野角を拡大する機能を付与する場合は、内部ヘイズ値（全ヘイズ値から表面ヘイズ値を引いた値）は１０％〜９０％であることが好ましく、更に好ましくは１５％〜８０％であり、最も好ましくは２０％〜７０％である。

本発明のフィルムは、目的に応じて、表面ヘイズ及び内部ヘイズを自由に設定可能である。

また、ハードコート層の表面凹凸形状については、画像の鮮明性を維持する目的で、クリアな表面を得る為には、表面粗さを示す特性のうち、例えば中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．１０μｍ以下とすることが好ましい。Ｒａは、より好ましくは０．０８μｍ以下であり、更に好ましくは０．０６μｍ以下である。本発明のフィルムにおいては、フィルムの表面凹凸にはハードコート層の表面凹凸が支配的であり、ハードコート層の中心線平均粗さを調節することにより、反射防止フィルムの中心線平均粗さを上記範囲とすることができる。

画像の鮮明性を維持する目的では、表面の凹凸形状を調整することに加えて、透過画像鮮明度を調整することが好ましい。クリアな反射防止フィルムの透過画像鮮明度は６０％以上が好ましい。透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像の呆け具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。透過画像鮮明度は好ましくは７０％以上であり、更に好ましくは８０％以上である。

＜光開始剤＞
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類（特開２００１−１３９６６３号等）、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。

これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。
「最新ＵＶ硬化技術」，（株）技術情報協会，１９９１年，ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」 加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＥＴＸ−Ｓ，ＢＰ−１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２−ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，５００，８１９，９０７，３６９，１１７３，１８７０，２９５９，４２６５，４２６３など）、サートマー社製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）等およびそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。

光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。

＜面状改良剤＞
支持体上のいずれかの層を作製するのに用いる塗布液には、面状故障（塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥など）を改良するために、フッ素系及びシリコーン系の少なくともいずれかの面状改良剤を添加することが好ましい。

面状改良剤は、塗布液の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上変化させることが好ましい。ここで、塗布液の表面張力が１ｍＮ／ｍ以上変化するとは、面状改良剤を添加後の塗布液の表面張力が、塗布／乾燥時での濃縮過程を含めて、面状改良剤を添加してない塗布液の表面張力と比較して、１ｍＮ／ｍ以上変化することを意味する。好ましくは、塗布液の表面張力を１ｍＮ／ｍ以上下げる効果がある面状改良剤であり、更に好ましく２ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤、特に好ましくは３ｍＮ／ｍ以上下げる面状改良剤である。

フッ素系の面状改良剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基を含有する化合物が挙げられる。好ましい化合物の例は、特開２００５−１１５３５９号、特開２００５−２２１９６３号、特開２００５−２３４４７６号に記載の化合物を挙げることができる。

３．防眩層
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。

防眩性を付与する方法としては、特開平６−１６８５１号記載のような表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法、特開２０００−２０６３１７号記載のように電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法、特開２０００−３３８３１０号記載のように乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の重量比が減少することにより透光性微粒子および透光性樹脂とをゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法、特開２０００−２７５４０４号記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法、特開２０００−２７５４０４号記載のように外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法、特開２００５−１９５８１９号記載のように複数のポリマーの混合溶液から溶媒が蒸発する過程で相分離することを利用して表面凹凸を形成する方法、などが知られており、これら公知の方法を利用することができる。

＜透光性粒子＞
本発明で用いることができる防眩層の１つの好ましい態様は、ハードコート性を付与することのできるバインダー、防眩性を付与するための透光性粒子、および溶媒を必須成分として含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものである。防眩性を有する防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。

上記透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ_２粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。マット粒子の形状は、球形あるいは不定形のいずれも使用できる。

また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに防眩性反射防止フィルムを貼り付けた場合に、「ギラツキ」と呼ばれる表示画像品位上の不具合が発生する場合がある。「ギラツキ」は、防眩性反射防止防止フィルム表面に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与するマット粒子よりも小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。

上記マット粒子は、形成された防眩性ハードコート層中のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ^２となるように防眩層に含有される。

防眩層の膜厚は、１〜２０μｍが好ましく、２〜１０μｍがより好ましい。前記範囲内とすることで、ハードコート性、カール、脆性を満足することができる。

一方、防眩層の中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．１０μｍ以下とすることが好ましい。Ｒａは、より好ましくは０．０８μｍ以下であり、更に好ましくは０．０６μｍ以下である。

防眩層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

４．低屈折率層
本発明のフィルムの反射率を低減するため、低屈折率層を用いることが好ましい。
低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４６であることがより好ましく、１．３０〜１．４０であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、７０〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０度以上であることが好ましい。更に好ましくは９５度以上であり、特に好ましくは１００度以上である。
好ましい硬化物組成の態様としては、（１）架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーを含有する組成物、（２）含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物を主成分とする組成物、（３）２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物、が挙げられる。

４−（１）架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素化合物
架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素化合物としては、含フッ素モノマーと架橋性または重合性の官能基を有するモノマーの共重合体を挙げることができる。含フッ素モノマーとしては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。

架橋性基付与のためのモノマーとしては、１つの態様としては、グリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーを挙げることができる。又別の態様としては、水酸基等の官能基を有するモノマーを用い含フッ素共重合体を合成後、さらにそれら置換基を修飾して架橋性若しくは重合性の官能基を導入するモノマーを使用する方法である。これらモノマーとしては、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。後者の態様は特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示されている。

上記含フッ素共重合体には、溶解性、分散性、塗布性、防汚性、帯電防止性などの観点から、適宜共重合可能な成分を含むことができる。特に防汚性・滑り性付与のためには、シリコーンを導入することが好ましく、主鎖にも側鎖にも導入することができる。主鎖へのポリシロキサン部分構造導入方法は、例えば特開平６−９３１００号公報に記載のアゾ基含有ポリシロキサンアミド（市販のものではＶＰＳ-０５０１、１００１（商品名；ワコー純薬工業（株）社製））等のポリマー型開始剤を用いる方法が挙げられる。また、側鎖に導入する方法は、例えばJ.Appl.Polym.Sci.2000,78,1955、特開昭５６−２８２１９号公報等に記載のごとく、反応性基を片末端に有するポリシロキサン（例えばサイラプレーンシリーズ（チッソ株式会社製）など）を高分子反応によって導入する方法、ポリシロキサン含有シリコンマクロマーを重合させる方法によって合成することができ、どちらの方法も好ましく用いることができる。

上記のポリマーに対しては特開２０００−１７０２８号公報に記載のごとく適宜重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開２００２−１４５９５２号に記載のごとく含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、上記の２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。また、特開２００４−１７０９０１号公報に記載のオルガノランの加水分解縮合物も好ましく、特に（メタ）アクリロイル基を含有するオルガノシランの加水分解縮合物が好ましい。
これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。

ポリマー自身が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。これら化合物の硬化には、有機酸又はその塩を用いるのが好ましい。

これら含フッ素ポリマーの具体例は、特開２００３−２２２７０２号公報、特開２００３−１８３３２２号公報等に記載されている。

４−（２）含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物
含フッ素のオルガノシラン化合物の加水分解縮合物を主成分とする組成物も屈折率が低く、塗膜表面の硬度が高く好ましい。フッ素化アルキル基に対して片末端又は両末端に加水分解性のシラノールを含有する化合物とテトラアルコキシシランの縮合物が好ましい。具体的組成物は、特開２００２−２６５８６６号公報、３１７１５２号公報に記載されている。

４−（３）２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物
更に別の好ましい態様として、低屈折率の粒子とバインダーからなる低屈折率層が挙げられる。低屈折率粒子としては、有機でも無機でも良いが、内部に空孔を有する粒子が好ましい。中空粒子の具体例は、特開２００２−７９６１６号公報に記載のシリカ系粒子に記載されている。粒子屈折率は１．１５〜１．４０が好ましく、１．２０〜１．３０が更に好ましい。バインダーとしては、上記ハードコート層の頁で述べた二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。

本発明の低屈折率層には、上記のハードコート層の頁で述べた重合開始剤を添加することが好ましい。ラジカル重合性化合物を含有する場合には、該化合物に対して１〜１０質量部、好ましくは１〜５質量部の重合開始剤を使用できる。

本発明の低屈折層には、無機粒子を併用することができる。耐擦傷性を付与するために、低屈折率層の厚みの１５％〜１５０％、好ましくは３０％〜１００％、更に好ましくは４５％〜６０％の粒径を有する微粒子を使用することができる。

本発明の低屈折率層には、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のポリシロキサン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することができる。

５．高屈折率層、中屈折率層
本発明のフィルムには、高屈折率層、中屈折率層を設け、前述の低屈折率層とともに光学干渉を利用すると反射防止性を高めることができる。
以下、本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、透明支持体との関係で言えば屈性率は、透明支持体＞低屈折率層、高屈折率層＞透明支持体の関係を満たすことが好ましい。また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。

高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は１．５０〜２．４０であることが好ましく、より好ましくは１．６０〜２．２０、更に好ましくは、１．７０〜２．１０、最も好ましくは１．８０〜２．００である。

前記導電性層上に、前記透明支持体から近い側から順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設して反射防止フィルムを作成する場合、高屈折率層の屈折率は、１．６０乃至２．１０であることが好ましく、１．７０乃至２．００であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０乃至１．７０であることが好ましい。そのとき低屈折率層の屈折率は１．３乃至１．５であることが好ましい。

高屈折率層および中屈折率層に用いられる無機粒子の具体例としては、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯとＳｉＯ₂等が挙げられる。ＴｉＯ₂及びＺｒＯ₂が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは、表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。

高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量％、特に好ましくは１５〜７５質量％である。無機粒子は高屈折率層内で二種類以上を併用してもよい。
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ，Ｉ，Ｃｌ等）を含む電離放射線硬化性化合物、Ｓ，Ｎ，Ｐ等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。

高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を光学干渉層として用いる場合、３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１７０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１５０ｎｍである。

高屈折率層のヘイズは、防眩機能を付与する粒子を含有しない場合、低いほど好ましい。５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。

[塗布溶媒]
上記各構成層のうち、基材フィルムに隣接して塗布される層には、基材フィルムを溶解する少なくとも一種類以上の溶剤と、基材フィルムを溶解しない少なくとも一種類以上の溶剤を含有することが好ましい。このような態様にすることで、基材フィルムへの隣接層成分の過剰な染み込み防止と、隣接層と基材フィルムとの密着性確保の両立を図ることができる。また、基材フィルムを溶解する溶剤のうちの少なくとも一種類が、基材フィルムを溶解しない溶剤のうちの少なくとも一種類よりも高沸点であることがより好ましい。さらに好ましくは、基材フィルムを溶解する溶剤のうち最も沸点の高い溶剤と、基材フィルムを溶解しない溶剤のうち、最も沸点の高い溶剤との沸点温度差が３０℃以上であることであり、最も好ましくは４０℃以上であることである。

透明基材フィルムを溶解する溶剤の総量（Ａ）と透明基材フィルムを溶解しない溶剤の総量（Ｂ）の質量割合（Ａ／Ｂ）は、５／９５〜５０／５０が好ましく、より好ましくは１０／９０〜４０／６０であり、さらに好ましく１５／８５〜３０／７０である。

６．支持体
本発明のフィルムの支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製））、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものを用いることができるが、好ましくは２５μｍ〜２５０μｍであり、３０μｍ〜９０μｍであることがより好ましい。
支持体の巾は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は１００〜５０００ｍｍのものが用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることがさらに好ましい。支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常１００ｍ〜５０００ｍ、好ましくは５００ｍ〜３０００ｍのものである。
支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さＲａの値が１μｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．１μｍであることがさらに好ましい。

＜セルロースアシレートフィルム＞
上記各種フィルムの中でも、透明性が高く、光学的に複屈折が少なく、製造が容易であり、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムが好ましい。
セルロースアシレートフィルムについては力学特性、透明性、平面性などを改良する目的のため、種々の改良技術が知られており、公開技報２００１−１７４５に記載された技術は公知のものとして本発明のフィルムに用いることができる。

本発明ではセルロースアシレートフィルムの中でもセルローストリアセテートフィルムが特に好ましく、セルロースアシレートフィルムに酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。
また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の値が１．０に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。

一般に、セルロースアシレートの２，３，６の水酸基は全体の置換度の１／３づつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。さらにセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落「００４３」〜「００４４」［実施例］［合成例１］、段落「００４８」〜「００４９」［合成例２］、段落「００５１」〜「００５２」［合成例３］に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。

＜ポリエチレンテレフタレートフィルム＞
本発明では、ポリエチレンテレフタレートフィルムも、透明性、機械的強度、平面性、耐薬品性および耐湿性共に優れており、その上安価であり好ましく用いられる。
透明プラスチックフィルムとその上に設けられるハードコート層との密着強度をより向上させるため、透明プラスチックフィルムは易接着処理が施されたされたものであることが更に好ましい。
市販されている光学用易接着層付きＰＥＴフィルムとしては東洋紡績社製コスモシャインＡ４１００、Ａ４３００等が挙げられる。

７．塗布方法
本発明のフィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許２６８１２９４号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。

本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくともハードコート層乃至フッ素含有オレフィン系重合体を含む低屈折率層の内の少なくとも一層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。

マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／インチが好ましく、１００〜３００本／インチがより好ましく、グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、５〜２００ｒｐｍであることがより好ましく、支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分であることが好ましく、１〜５０ｍ／分がより好ましい。

本発明のフィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法（ダイコート法）が好ましく用いられる。特に、ハードコート層や反射防止層のような、ウエット塗布量の少ない領域（２０ｃｃ／ｍ^２以下）では特開２００６−１２２８８９号に記載の製造方法を採用することにより塗膜の均一性を向上させることができる。

８．偏光板
本発明のフィルムは、偏光膜およびその片側ないし両側に配置された保護フィルムとして使用し、偏光板として使用することができる。
一方の保護フィルムとして、本発明のフィルムを用いる、他方の保護フィルムは、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、上述の溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。

偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
反射防止フィルムの透明支持体やセルロースアセテートフィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。

偏光板の生産性には保護フィルムの透湿性が重要である。偏光膜と保護フィルムは水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤溶剤は保護フィルム中を拡散することで、乾燥される。保護フィルムの透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり、生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高湿下）により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。
保護フィルムの透湿性は、透明支持体やポリマーフィルム（および重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、親疎水性、等により決定される。
本発明のフィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる場合、透湿性は１００〜１０００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒｓであることが好ましく、３００〜７００ｇ／ｍ^２・２４ｈｒｓであることが更に好ましい。
透明支持体の厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインスピード、あるいは、延伸、圧縮により調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。
透明支持体の自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することができる。
この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。
透明支持体の親疎水性は、添加剤により調整することが出来る。上記自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。
上記透湿性を独立に制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。

偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。

ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落００２０〜００３０に詳しい記載がある。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。

９．本発明の使用形態
本発明のフィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。本発明に従う光学フィルターは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）または陰極管表示装置（ＣＲＴ）など公知のディスプレー上に用いることが出来る。

９−（１）液晶表示装置
本発明のフィルム、偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装・BR>Uに有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有し、液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置されることもある。

液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモードまたはＥＣＢモードであることが好ましい。

＜ＴＮモード＞
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０〜１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。

＜ＶＡモード＞
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ Ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５頁記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９頁（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

＜ＯＣＢモード＞
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各公報に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。

＜ＩＰＳモード＞
ＩＰＳモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはＰｒｏｃ．ＩＤＲＣ（Ａｓｉａ Ｄｉｓｐｌａｙ ’９５），５７７−５８０頁及び同７０７−７１０頁に記載されている。

＜ＥＣＢモード＞
ＥＣＢモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平５−２０３９４６号公報に詳細が記載されている。

９−（２）液晶表示装置以外のディスプレー

＜ＰＤＰ＞
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、一般に、ガス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、既に市販されている。プラズマディスプレイパネルについては、特開平５−２０５６４３号、同９−３０６３６６号の各公報に記載がある。

前面板をプラズマディスプレイパネルの前面に配置することがある。前面板はプラズマディスプレイパネルを保護するために充分な強度を備えていることが好ましい。前面板は、プラズマディスプレイパネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラズマディスプレイ本体に直貼りして使用することもできる。
プラズマディスプレイパネルのような画像表示装置では、光学フィルターをディスプレイ表面に直接貼り付けることができる。また、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側（外側）または裏側（ディスプレイ側）に光学フィルターを貼り付けることもできる。

＜タッチパネル＞
本発明のフィルムは、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。

本発明のフィルムは、有機ＥＬ素子等の保護フィルムとして用いることができる。
本発明のフィルムを有機ＥＬ素子等に用いる場合には、特開平１１−３３５６６１号、特開平１１−３３５３６８号、特開２００１−１９２６５１号、特開２００１−１９２６５２号、特開２００１−１９２６５３号、特開２００１−３３５７７６号、特開２００１−２４７８５９号、特開２００１−１８１６１６号、特開２００１−１８１６１７号、特開２００２−１８１８１６号、特開２００２−１８１６１７号、特開２００２−０５６９７６号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開２００１−１４８２９１号、特開２００１−２２１９１６号、特開２００１−２３１４４３号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。

以下、実施例に基づき本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、以下の実施例の試料１０１〜１０４、１０７、２０１〜２０４、３０２、４０２〜４０６、及び５０２〜５０６は参考例と読み替えるものとする。

＜ハードコート層用塗布液の調製＞

───────────────────────────────────
ハードコート層用塗布液Ｈ−１の組成
───────────────────────────────────
ＰＥＴ−３０ ５１．０ｇ
ＤＰＨＡ １０．０ｇ
イルガキュア１８４ ２．０ｇ
ＳＸ−３５０（３０％） ２．０ｇ
架橋アクリルースチレン粒子（３０％） １３．０ｇ
ＳＰ−１３ ０．０６ｇ
トルエン ３８．５ｇ
───────────────────────────────────

───────────────────────────────────
ハードコート層用塗布液Ｈ−２の組成
───────────────────────────────────
ＰＥＴ−３０ ２８．０ｇ
ＤＰＨＡ １２．０ｇ
凝集性シリカ（２次凝集径１．５μｍ） ５．０ｇ
イルガキュア１８４ １．０ｇ
イルガキュア９０７ ０．２ｇ
ＳＰ−１３ ０．０８ｇ
メチルイソブチルケトン ４０．０ｇ
シクロヘキサノン １５．０ｇ
───────────────────────────────────

───────────────────────────────────
ハードコート層用塗布液Ｈ−３の組成
───────────────────────────────────
デソライトＺ７４０４ １００．０ｇ
ＤＰＨＡ ３１．０ｇ
ＫＢＭ−５１０３ １０．０ｇ
ＫＥ−Ｐ１５０ ８．９ｇ
ＭＸＳ−３００ ３．４ｇ
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ２９．０ｇ
ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン） １３．０ｇ
───────────────────────────────────

──────────────────────────────────―
ハードコート層用塗布液Ｈ−４の組成
───────────────────────────────────
ＰＥＴ−３０ ２８．０ｇ
ＤＰＨＡ １２．０ｇ
イルガキュア１８４ １．０ｇ
イルガキュア９０７ ０．２ｇ
ＳＰ−１３ ０．０８ｇ
メチルイソブチルケトン ４０．０ｇ
メチルエチルケトン ５．０ｇ
───────────────────────────────────

上記塗布液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液Ｈ−１〜４を調製した。また、Ｈ−１〜３でそれぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・イルガキュア１８４：重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製］
・イルガキュア９０７：重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製]
・ＳＸ−３５０：平均粒径３．５μｍ架橋ポリスチレン粒子［屈折率１．６０、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用］
・架橋アクリル−スチレン粒子：平均粒径３．５μｍ［屈折率１．５５、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液、ポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散後使用］
・ＳＰ−１３フッ素系表面改質剤

・凝集性シリカ：２次凝集径１．５μｍ（１次粒径数十ｎｍ）、[日本シリカ（株）製]
・デソライトＺ７４０４：ジルコニア微粒子含有光重合性ハードコート組成液[ＪＳＲ（株）製]
・ＫＢＭ−５１０３：γアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン［信越化学工業(株)製］
・ＫＥ−Ｐ１５０：１．５μｍシリカ粒子［日本触媒(株)製］
・ＭＸＳ−３００：３μｍ架橋ＰＭＭＡ粒子［綜研化学(株)製］

＜導電性層用塗布液の調製＞ （透明導電性材料の調製） π共役系導電性高分子と高分子ドーパントとの複合体の調製

＜Ｃ−１＞ポリ（エチレンジオキシチオフェン）とポリアリルスルホン酸の複合体（透明導電性材料Ｃ−１）の調製
１４．２ｇ（０．１ｍｏｌ）のエチレンジオキシチオフェンと０．１５ｍｏｌのポリアリルスルホン酸を２０００ｍｌのイオン交換水に溶解した溶液とを混合させた。
この混合液を２０℃に保ち、掻き混ぜながら２００ｍｌのイオン交換水に溶解した２９．６４ｇ（０．１３ｍｏｌ）の過硫酸アンモニウムを８．０ｇ（０．０２ｍｏｌ）の硫酸第二鉄の酸化触媒溶液をゆっくり加え、５時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの溶液を除去した。この操作を３回繰り返した。
そして得られた溶液の中の水を減圧除去し、ポリアリルスルホン酸ドープポリ（エチレンジオキシチオフェン）固形物を得た。該固形物を後述の溶液に混合し、透明導電性材料Ｃ−１とした。

＜Ｃ−２＞ポリ（エチレンジオキシチオフェン）とポリアリルスルホン酸／ポリアリルアミン共重合体の複合体（透明導電性材料Ｃ−２）の調製
１４．２ｇ（０．１ｍｏｌ）のエチレンジオキシチオフェンと０．１５ｍｏｌのポリアリルスルホン酸／ポリアリルアミン共重合体（共重合モル比８０／２０）を２０００ｍｌのイオン交換水に溶解した溶液とを混合させた。
この混合液を２０℃に保ち、掻き混ぜながら２００ｍｌのイオン交換水に溶解した２９．６４ｇ（０．１３ｍｏｌ）の過硫酸アンモニウムを８．０ｇ（０．０２ｍｏｌ）の硫酸第二鉄の酸化触媒溶液をゆっくり加え、５時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの溶液を除去した。この操作を３回繰り返した。
そして得られた溶液の中の水を減圧除去し、ポリアリルスルホン酸／ポリアリルアミン共重合体ドープポリ（エチレンジオキシチオフェン）固形物を得た。該固形物を後述の溶液に混合し、透明導電性材料Ｃ−２とした。

＜Ｃ−３＞ポリ（エチレンジオキシチオフェン）とポリアリルスルホン酸／ポリ（２−ビニルエタノール）共重合体の複合体（透明導電性材料Ｃ−３）の調製
１４．２ｇ（０．１ｍｏｌ）のエチレンジオキシチオフェンと０．１５ｍｏｌのポリアリルスルホン酸／ポリ（２−ビニルエタノール）共重合体（共重合モル比８０／２０）を２０００ｍｌのイオン交換水に溶解した溶液とを混合させた。
この混合液を２０℃に保ち、掻き混ぜながら２００ｍｌのイオン交換水に溶解した２９．６４ｇ（０．１３ｍｏｌ）の過硫酸アンモニウムを８．０ｇ（０．０２ｍｏｌ）の硫酸第二鉄の酸化触媒溶液をゆっくり加え、５時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの溶液を除去した。この操作を３回繰り返した。
そして得られた溶液の中の水を減圧除去し、ポリアリルスルホン酸／ポリ（２−ビニルエタノール）共重合体ドープポリ（エチレンジオキシチオフェン）固形物を得た。該固形物を後述の溶液に混合し、透明導電性材料Ｃ−３とした。

（架橋点形成化合物オリゴマーのゾル液ａ−１の調製）
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた１，０００ｍｌの反応容器に、Ｙ−１：１１８．２ｇ（０．５０ｍｏｌ）、Ｚ−１：１１７．２ｇ（０．５０ｍｏｌ）、メタノール３２０ｇ（１０ｍｏｌ）とＫＦ０．０６ｇ（０．００１ｍｏｌ）を仕込み、攪拌下室温で水１５．１ｇ（０．８６ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で３時間攪拌した後、メタノール還溜下２時間加熱攪拌した。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液ａ−１を１２０ｇ得た。このようにして得た物質をＧＰＣ測定した結果、質量平均分子量は２０００であり、オリゴマーであることを確認した。

（架橋点形成化合物オリゴマーのゾル液ａ−２の調製）
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた１，０００ｍｌの反応容器に、Ｚ−１：２３４．４ｇ（１．００ｍｏｌ）、メタノール３２０ｇ（１０ｍｏｌ）とＫＦ０．０６ｇ（０．００１ｍｏｌ）を仕込み、攪拌下室温で水１５．１ｇ（０．８６ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後室温で３時間攪拌した後、メタノール還溜下２時間加熱攪拌した。この後、低沸分を減圧留去し、更にろ過することによりゾル液ａ−２を１２０ｇ得た。このようにして得た物質をＧＰＣ測定した結果、質量平均分子量は１８００であり、オリゴマーであることを確認した。

───────────────────────────────────
導電性層用塗布液の組成
───────────────────────────────────
透明導電性材料 ３２．５ｇ
架橋点形成化合物 ２３．５ｇ
ＰＥＴ−３０ （架橋点形成化合物と合計して２６．５ｇとなるよう調節）
イルガキュア１８４ １．０ｇ
ＳＰ−１３ ０．０５ｇ
ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ４０．０ｇ
イソプロパノール ２０．０ｇ
───────────────────────────────────

＜低屈折率用塗布液の調製＞

（ゾル液ｂの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。

（分散液Ａの調製）
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００ｇに、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０ｇ、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５ｇ加え混合した後に、イオン交換水を９ｇ加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８ｇを添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａのイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。

（低屈折率層用塗布液Ｌ−１の調整）
ポリシロキサンおよび水酸基を含有する屈折率１．４４の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＴＡ１１３、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、コロイダルシリカ分散液ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（商品名、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３ｇ、前記ゾル液ｂ０．６５ｇ、およびメチルエチルケトン４．４ｇ、シクロヘキサノン１．２ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Ｌ−１を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４５であった。

（低屈折率層用塗布液Ｌ−２の調整）
熱架橋性含フッ素ポリマー（特開平１１−１８９６２１公報実施例１に記載の含フッ素含シリコーン熱硬化ポリマー）３７．６ｇ、硬化剤（サイメル３０３；商品名、日本サイテックインダストリーズ（株）製）９．４０ｇ、硬化触媒（キャタリスト４０５０；商品名、日本サイテックインダストリーズ（株）製）０．９２ｇをメチルエチルケトン５００ｇに溶解し、更に、分散液Ａを１９５質量部（シリカ＋表面処理剤固形分として３９．０質量部）、コロイダルシリカ分散物（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子径違い品、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）３０．０質量部（固形分として９．０質量部）、ゾル液ｂ１７．０質量部（固形分として５．０質量部）、ＰＭ９８０Ｍ（光重合開始剤、和光純薬製）０．３質量部を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が８対９２になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率用塗布液Ｌ−２を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．３８であった。

（低屈折率層用塗布液Ｌ−３の調製）
エチレン性不飽和基含有含フッ素ポリマー（特開２００５−８９５３６公報製造例３に記載のフッ素ポリマー（Ａ−１））固形分として４５．０ｇをメチルイソブチルケトン５００ｇに溶解し、更に、分散液Ａを１９５質量部（シリカ＋表面処理剤固形分として３９．０質量部）、コロイダルシリカ分散物（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子径違い品、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）３０．０質量部（固形分として９．０質量部）、ゾル液ｂ１７．０質量部（固形分として５．０質量部）、ＰＭ９８０Ｍ（光重合開始剤、和光純薬製）２．０質量部を添加した。塗布液全体の固形分濃度が６質量％になるようにメチルエチルケトンで希釈して低屈折率用塗布液Ｌ−３を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．３８であった。

（低屈折率層用塗布液Ｌ−４の調製）
フルオロアルキル基およびポリシロキサン構造を有するフッ素化合物としてオプスターＪＴＡ１０５（ＪＳＲ株式会社製、固形分：５重量％）１００重量部、オプスターＪＴＡ１０５Ａ（ＪＳＲ株式会社製、固形分：５重量％）１重量部、酢酸ブチル１５１．５重量部、及びシロキサンオリゴマーとしてコルコートＮ１０３Ｘ（コルコート株式会社製、エチレングリコール換算による数平均分子量９５０、固形分：２重量％）１６４．０重量部を混合した。更に、中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じサイズを変更して作成）４２．５ｇを加えて、低屈折率層用塗布液Ｌ−４を調整した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．３６であった。

＜反射防止フィルムの塗設方法＞
トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、スロットルダイを有するコーターを用いて、ハードコート層用塗布液を直接押し出して塗布した。搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ５．０μｍの防眩性を有するハードコート層を形成し、巻き取った。

さらに上記のハードコート層上に前述の導電性層塗布液をスロットルダイを有するコーターを用いて塗布した。搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。このとき導電性層塗布液の硬化後の膜厚は０．８μｍであった。

上記の様にして得られた塗布フィルムの導電性層の上に、スロットルダイを有するコーターを用いて、低屈折率層用塗布液をバックアップロール上のハードコート層を塗布してある面上に直接押し出して塗布し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し巻き取り反射防止フィルムを作製した。乾燥・硬化条件を以下に示す。乾燥：９０℃６０秒で乾燥した。硬化：１１０℃１０分加熱の後、窒素パージにより酸素濃度０．１％の雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量４００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射した。

＜評価方法＞
〔積分反射率〕
フィルムの裏面をサンドペーパーで祖面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの積分反射率の算術平均値を用いた。積分反射率は２．７％以下であれば充分な反射防止性能が得られ、値が小さいほど好ましい。

〔スチールウール耐擦傷性〕
スチールウールに２００ｇ／ｃｍ²の加重をかけ、１０往復したときの傷の状態を観察して、以下の５段階で評価した。
◎：傷が全くつかなかったもの。
○：ほとんど見えない傷が少しついたもの。
△：明確に見える傷がついたもの。
×：明確に見える傷が顕著についたもの。
××：膜の剥離が生じたもの。

〔密着性〕
反射防止フィルムの低屈折率層を有する側の表面にカッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（ＮＯ．３１Ｂ）を圧着して密着試験を同じ場所で繰り返し３回行った。
◎：１００個の升目中に剥がれが全く認められなかったもの。
○：１００個の升目中に剥がれが認められたものが２升以内のもの。
△：１００個の升目中に剥がれが認められたものが３〜１０升のもの。
×：１００個の升目中に剥がれが認められたものが１０升を越えたもの。

〔表面抵抗の評価〕
反射防止フィルムの低屈折率層（最外層）を有する側の表面の表面抵抗を、超絶縁抵抗／微小電流計“ＴＲ８６０１”｛（株）アドバンテスト製｝を用いて、２５℃、湿度６０％ＲＨの条件下で測定した。単位をΩ／□とする値をＳＲ値とするとｌｏｇＳＲ（対数）で表面抵抗値を表した。ｌｏｇＳＲは１１．０以下であれば十分な帯電防止性能が得られる。

＜実施例１＞
表１に示す構成で反射防止フィルムの試料１０１〜１０７を作製し前述の評価方法にて評価を行った。

本発明の反射防止フィルムは、透明導電性材料の効果により十分な表面抵抗値を有し、架橋点形成化合物の効果により優れた密着性とスチールウール耐擦傷性を示した。比較例は、表面抵抗値は本発明と同等であるが、密着性とスチールウール耐擦傷性が明らかに劣っている。

＜実施例２＞
表２に示すような構成で反射防止フィルムの試料２０１〜２０５を作製し、前述の評価方法にて評価を行った。

本発明の反射防止フィルムは、透明導電性材料の効果により十分な表面抵抗値を有し、架橋点形成化合物の効果により優れた密着性とスチールウール耐擦傷性を示した。特に非アニオン性官能基を有する高分子ドーパントを用いた試料２０２〜２０４は、密着性とスチールウール耐擦傷性がさらに性能向上している。これは導電性層内、及び隣接層との界面密着の架橋点密度が高まったためではないかと考えられる。

＜実施例３＞
表３に示すような構成で反射防止フィルムの試料３０１〜３０３を作製し、前述の評価方法にて評価を行った。ただし、本実施例の低屈折率層の硬化条件において、１１０℃１０分加熱を実施しなかった。

架橋点形成化合物に本発明の一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物から形成されるオリゴマーのゾルを用いた試料３０１〜３０２は、透明導電性材料の効果により十分な表面抵抗値を有し、密着性とスチールウール耐擦傷性で最高評価を示した。これは導電性層内、及び隣接層との界面密着の架橋点密度が高く、さらにオリゴマーを介した橋かけ構造が導電性層の硬度を高めたのではないかと考えられる。

＜実施例４＞
表４に示すような構成で反射防止フィルムの試料４０１〜４０６を作製し、前述の評価方法にて評価を行った。ただし、本実施例の低屈折率層の硬化条件において、１１０℃１０分加熱を１２０℃３分に変更した。

本発明の試料４０１〜４０６は、透明導電性材料の効果により十分な表面抵抗値を有し、架橋点形成化合物の効果により優れた密着性とスチールウール耐擦傷性を示した。

＜実施例５＞

（二酸化チタン微粒子分散液の調製）
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９Ｃ、石原産業（株）製、ＴｉＯ_２：Ｃｏ_３Ｏ_４：Ａｌ_２Ｏ_３：ＺｒＯ_２＝９０．５：３．０：４．０：０．５重量比）を使用した。
この粒子２５７．１質量部に、下記分散剤Ａ ４１．１質量部、およびシクロヘキサノン７０１．８質量部を添加してダイノミルにより分散し、重量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液を調製した。

（中屈折率層用塗布液Ｍ−１の調製）
上記の二酸化チタン分散液９９．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）６８．０質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７）３．６質量部、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．２質量部、メチルエチルケトン２７９．６質量部およびシクロヘキサノン１０４９．０質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液Ｍ−１を調製した。

（高屈折率層用塗布液Ｈ−１の調製）
上記の二酸化チタン分散液Ａ ４６９．８質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）４０．０質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）３．３質量部、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．１質量部、メチルエチルケトン５２６．２質量部、およびシクロヘキサノン４５９．６質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液Ｈ−１を調製した。

（低屈折率層用塗布液Ｌ−５の調製）
以下の、本発明に係る共重合体Ｂをメチルイソブチルケトンに７質量％の濃度になるように溶解し、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）を固形分に対して３％、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）を固形分に対して５質量％添加し、低屈折率層用塗布液Ｌ−５を調製した。

（反射防止フィルムの作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）上に、表５に示すようにハードコート層用塗布液、及び導電性層塗布液を、この順に実施例１〜４と同様な方法でスロットルダイを有するコーターを用いて塗布した。
さらにその上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。

中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量４００ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。 硬化後の中屈折率層は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍであった。

高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ²、照射量４００ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。硬化後の高屈折率層は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍであった。

低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ²、照射量６００ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。硬化後の低屈折率層は屈折率１．４４０、膜厚８５ｎｍであった。このようにして、反射防止フィルムを作製した。

＜実施例６＞

[反射防止フィルムの鹸化処理]
実施例１、２、３、４、５の各反射防止フィルム試料の裏面を以下に示す条件で鹸化処理を行った。
アルカリ浴：１．５ｍｏｌ／ｄｍ^３水酸化ナトリウム水溶液、５５℃−１２０秒
第１水洗浴：水道水、６０秒
中和浴：０．０５ｍｏｌ／ｄｍ^３硫酸、３０℃−２０秒。
第２水洗浴：水道水、６０秒
乾燥：１２０℃、６０秒

[反射防止フィルム付き偏光板の作製]
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。鹸化処理済みの反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、該反射防止フィルムの支持体（トリアセチルセルロース）側が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。光学補償層を有する視野角拡大フィルム「ワイドビューフィルムＳＡ１２Ｂ」｛富士フイルム（株）製｝を鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜のもう一方の側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。
作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢのモードの透過型液晶表示装置を評価した結果、視認性、防塵性、耐擦傷性に優れた表示装置が作製できることが確認された。

＜液晶表示装置＞（ＴＮモード液晶表示装置）
ＴＮモードで２０インチの液晶表示装置：ＴＨ−２０ＴＡ３型（松下電器（株）製）に設けられている視認側の偏光板の代わりに本発明の偏光板（実施例１０４の試料から作製）の光学異方性層が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、観察者側に一枚貼り付けた。

（ＯＣＢモード液晶表示装置）
特開２０００−１５４２６１号公報の実施例１０、１５、１８，１９に記載されたＯＣＢ型液晶表示装置の視認側の最表面に、本発明の実施例３０１の試料をポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。

（ＶＡモード液晶表示装置）
ＶＡモードで２２インチの液晶表示装置：ＴＨ２２−ＬＨ１０型（松下電器（株）製）に設けられている視認側の表面保護フィルムの代わりに、本発明の実施例２０４の試料を貼り付けた。

（ＩＰＳモード液晶表示装置）
ＩＰＳモードで２０インチの液晶表示装置：Ｗ２０−ＬＣ３０００型（日立製作所（株）製）に設けられている視認側の表面保護フィルムの代わりに本発明の実施例４０２の試料を貼り付けた。

（有機ＥＬ）
本発明の実施例４０５の試料を、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせた。

＜実施例７＞

（薄手ＴＡＣ）
実施例４０１において、支持体の厚みを４０μに変更した試料を作成した。同様の評価を行った結果、カールの発生が少なく、耐擦傷性、防汚性に優れる反射防止フィルムが得られることが確認された。

＜実施例８＞

（ＰＥＴ上に塗布）
市販されている光学用易接着層付きＰＥＴフィルムである東洋紡績社製コスモシャインＡ４１００、Ａ４３００を用いて評価した結果同様の結果であった。

（ＰＤＰ画像表示装置）
実施例５０１において、透明支持体として易接着層付きＰＥＴ（東洋紡製コスモシャインＡ４１００、膜厚１８８μｍ）を用いた以外は同様にして反射防止フィルムを作製した。前面板なしの４２インチプラズマディスプレイ（パイオニア製ダイレクトカラーフィルター方式ＰＤＵ−４２Ｈ６Ａ１）の表面フィルムを剥がし、本発明の反射防止フィルムを粘着剤で貼り付けた。作製した本発明の反射防止フィルムを装着したプラズマディスプレイを評価した結果、視認性、防塵性、耐擦傷性に優れた表示装置が作製できることが確認された。

Claims (7)

1. 透明支持体上に
   高分子からなる透明導電性材料、及び複数の架橋反応基を有し、少なくとも１つの架橋反応基は透明導電性材料と架橋する架橋点形成化合物を含有する組成物から形成される少なくとも1層の導電性層と、
   前記透明支持体と前記導電性層との間に少なくとも１層のハードコート層又は防眩層と、
   少なくとも1層の低屈折率層とを有する反射防止フィルムの製造方法であって、
   前記透明導電性材料が、π共役系導電性高分子と高分子ドーパントからなる複合体であり、
   前記架橋点形成化合物として、前記高分子ドーパントと架橋する基と、エチレン性不飽和二重結合を有する基を有するオリゴマーを含み、下記一般式（１）及び下記一般式（２）で表される化合物からそれぞれ選ばれる混合物の加水分解物及びその縮合物を用いる反射防止フィルムの製造方法。
   一般式（１） （Ｒ^１）m−Ｍ^１−（ＯＲ^３）n
   （Ｒ¹は前記高分子ドーパントと架橋する基を部分構造として有する基、Ｒ³はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、nは１以上であり、mは１以上である。Ｍ^１は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。）
   一般式（２） （Ｒ^２）p−Ｍ^２−（ＯＲ^４）q
   （Ｒ²はエチレン性不飽和二重結合を有する基を部分構造として有する基、Ｒ^４はそれぞれ同じかまたは異なり、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、pは１以上であり、qは１以上である。Ｍ^２は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、またはアンチモンである。）
2. 前記加水分解物及びその縮合物の質量平均分子量が５００〜５０００である請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
3. 前記質量平均分子量が、分子量３００未満の成分を除いた質量平均分子量である請求項２に記載の反射防止フィルムの製造方法。
4. 前記オリゴマーが１価アルコールまたは２価アルコールの少なくとも１種及び水の存在下で形成される請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
5. 前記架橋点形成化合物の塗布量が１平米あたり、０．０１ｇ〜３．０ｇである請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
6. 前記高分子ドーパントが、少なくとも２種の基を有し、少なくとも1種はアニオン性基、少なくとも他の1種はアニオン性基でない基である請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。
7. 前記導電性層上に、前記透明支持体から近い側に屈折率が１．５〜１．７の中屈折率層、屈折率１．７〜２．１の高屈折率層を形成する工程と、さらに屈折率１．３〜１．５の低屈折率層を形成する工程と、を有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止フィルムの製造方法。