JP2007173215A - アルミ撚線用圧着端子および前記圧着端子が接続されたアルミ撚線の端末構造 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】圧着部1内面1bにセレーション5を設けたアルミ撚線用圧着端子において、前記セレーション5を構成する溝4の深さdと前記アルミ撚線6を構成するアルミ素線7の径eの比(d/e)が0.33以上であり、前記溝4の数が3以上であるアルミ撚線用圧着端子、およびアルミ撚線6の圧着後の断面積pと圧着前の断面積qの比(p/q)が0.7〜0.95であるアルミ撚線の端末構造。
【選択図】図1
Description
その圧着端子は、図5に示すように、断面U字状の圧着部10とボルト締結部13からなり、圧着部10の内面にはアルミ撚線の抜けを防止するための複数の凹溝11からなるセレーション12が設けられており、締結部13にはボルトなどを通すための穴14が設けられている。
例えば、圧着部内面にアルミ撚線より軟質の金属粉末を分散させて圧着部内面とアルミ撚線とを凝着させたもの(特許文献1)、アルミ撚線より硬質の粉末を分散させてアルミ素線表面の酸化皮膜を破壊したもの(特許文献2、4)、硬質と軟質の粉末を分散させたもの(特許文献3)、セレーション(溝)の食い込み深さを異ならせたもの(特許文献5)、セレーション(溝)をらせん状に形成したもの(特許文献6)、圧着部の内面に突起を設けたもの(特許文献7)などがある。
本発明は、コストや手間を要さずに、電気接続性の経年劣化を防止できるアルミ撚線用圧着端子および前記圧着端子を圧着した電気接続性および機械的接続性に優れるアルミ撚線の端末構造の提供を目的とする。
すなわち、本発明は
(1)圧着部内面にセレーションを設けたアルミ撚線用圧着端子において、前記セレーションを構成する溝の深さdと前記アルミ撚線を構成するアルミ素線の径eの比(d/e)が0.33以上であり、前記溝数が3以上であることを特徴とするアルミ撚線用圧着端子、
(2)前記圧着部が銅または銅合金からなり、前記圧着部の応力緩和率が70%以下であることを特徴とする(1)記載のアルミ撚線用圧着端子、
(3)前記アルミ撚線用圧着端子が、結晶粒50μm以下の黄銅であることを特徴とする(1)または(2)記載のアルミ撚線用圧着端子、
(4)前記アルミ撚線用圧着端子の導電率が25%IACS以上であることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか1項記載のアルミ撚線用圧着端子、
(5)前記アルミ撚線用圧着端子の引張り強度が400MPa以上、ビッカース硬度が90以上であることを特徴とする(1)〜(4)のいずれか1項記載のアルミ撚線用圧着端子、
(6)前記アルミ撚線用圧着端子の引張り強度がアルミ撚線を構成する素線の引張り強度の2倍以上およびビッカース硬度がアルミ撚線を構成する素線の硬度の2倍以上であることを特徴とする(1)〜(5)のいずれか1項記載のアルミ撚線用圧着端子、
(7)前記アルミ撚線用圧着端子の表面にSnめっき又ははんだめっきが1μm以上20μm以下の厚さで施されていることを特徴とする(1)〜(6)のいずれか1項記載のアルミ撚線用圧着端子、
(8)前記Snめっきが、純Sn層の厚さを0.2μm以上有することを特徴とする(7)記載のアルミ撚線圧着用端子、
(9)前記アルミ撚線用圧着端子のSnめっき又ははんだめっきの下地めっきとして、Cuめっき又はNiめっきが施されていることを特徴とする(7)又は(8)記載のアルミ撚線圧着用端子、
(10)前記アルミ撚線用圧着端子のSnめっきの下地めっきとしてCuめっきが施され、さらにその下地めっきとしてNiめっきが施されていることを特徴とする(7)又は(8)記載のアルミ撚線圧着用端子、
(11)前記(1)〜(10)のいずれか1記載のアルミ撚線用圧着端子が圧着されたアルミ撚線の端末構造であって、前記アルミ撚線の圧着後の断面積pと圧着前の断面積qの比(p/q)が0.7〜0.95であることを特徴とするアルミ撚線の端末構造、および、
(12)前記アルミ撚線を構成するアルミ素線の酸化膜の厚さが20nm以下であることを特徴とする(11)記載のアルミ撚線の端末構造、
を提供するものである。
本発明のアルミ撚線の端末構造は、アルミ撚線の圧着後の断面積pと圧着前の断面積qの比(p/q)を0.7〜0.95の適正な範囲に規定するので、良好な電気接続性が得られる。またアルミ撚線の損傷も少なく、十分な接続強度が取れる。
本発明の圧着端子は、図1(イ)に示すように、断面U字状(オープンバレルタイプ)の圧着部1とボルト穴2を設けた締結部3を備え、圧着部1の内面には3本の並列溝4からなるセレーション5が設けられたものである。そして、図1(ロ)に示すように、例えばアルミケーブル9の端末部の外皮8を除去し、露出したアルミ撚線6を圧着部1に挿入して圧着部1の側壁1aを外側から押圧してアルミ撚線の端末構造とする。
なお、図1(イ)でCはボルト穴2の中心から圧着部1後端までの距離、Fはボルト穴の中心から圧着部1前端までの距離であり、C−Fは圧着部1の長さを示す。
本発明において、セレーション5の溝4の深さdとアルミ撚線6を構成するアルミ素線7の径eの比(d/e)を0.33以上に規定し、かつ溝4の数を3以上に規定する理由は、比(d/e)が0.33未満でも、セレーション5の溝4数が3未満でも良好な電気接続性が安定して得られないためである。
セレーション5の溝4の数は5以上が好ましく、比(d/e)は0.5以上が好ましい。セレーション5の溝4の深さとは圧着部1の内面1bから溝4の底面4aまでの長さdをいう(図1(ハ)参照)。
図2に示す圧着端子は、バッテリー端子に締結する圧着端子であり、締結部3の穴2の径がバッテリー端子の径より若干大きい。この圧着端子は圧着部1の開口方向と締結部3の穴2の向く方向とが直交している。図1に示した圧着端子は前記両方向が平行である。
中でも、圧着端子の材質として結晶粒が50μm以下の黄銅を用いると、圧着端子とアルミ素線の接続強度が高まるため好ましく、より好ましくは結晶粒が30μm以下、さらに好ましくは20μm以下である。
圧着端子は、前記の導電性金属板を一体成型して作製できるが、また導電性金属ブロックを切削加工しても作製できる。
また、圧着端子の引張り強度が400MPa以上、ビッカース硬度が90以上であると、圧着端子とアルミ素線の接続強度が高まるため好ましい。前記圧着部の引張り強度がアルミ撚線の素線の引張り強度の2倍以上、および硬度がアルミ撚線の素線の硬度の2倍以上であると、圧着の際に新生面が出やすく端子とアルミ素線間の電気抵抗が低く安定するため好ましい。
その端末構造は、図1(イ)に示す圧着端子の圧着部1に、図1(ロ)に示すアルミケーブル9の端末の外皮8を除去して露出したアルミ撚線6を挿入し、圧着部1の側壁1aを外側から押圧してアルミ撚線6を圧着部1に圧着したものである。その端末構造の断面を図3に示すが、図3(イ)はアルミ撚線6の圧着前後の断面積比(p/q)が0.7の場合であり、図3(ロ)は0.95のものである。ここでpはアルミ撚線の圧着後の断面積、qは圧着前の断面積である。
図4に示す端末構造は、圧着部1の側壁先端部1cをアルミ撚線6に埋没させてアルミ撚線6と圧着部1の接触面積を増大させ、さらに側壁先端部1cでアルミ撚線6(アルミ素線7)の酸化皮膜を破壊して電気接続性を向上させたものであり、図4(イ)は断面積比0.7を、図4(ロ)は断面積比0.95を示すものである。
さらに、アルミ撚線を構成するアルミ素線7の表面の酸化膜の厚さは20nm以下としたほうが、圧縮率が0.7〜0.95の範囲内で、圧着端子と撚線の接続強度を高く取ることができ望ましい。
本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で実施できる。
図1(イ)に示した形状の圧着端子を、厚み2.0mmのCu−30質量%Zn合金条(O材)をプレス加工して作製した。その圧着部1に図1(ロ)に示したアルミケーブル9端末の外皮8を除去して露出したアルミ撚線6を挿入し、次いで圧着部1の両側壁1aを外側から押圧してアルミ撚線6を圧着しアルミ撚線の端末構造とした。圧着部1の長さ(図1(イ)の(C−F))は13mmである。
アルミ撚線6には、350℃で2時間焼鈍した直径0.32mmのAl−0.1質量%Mg−0.2質量%Cu合金線をロープ撚り(19本/17本)した25SQ(mm2)のものを用いた。圧着部1内面1bの溝4の数、溝4の深さdとアルミ素線7の径eの比(d/e)、アルミ撚線6の圧着前後の断面積比(p/q)は、表1に示すように各試料で種々に変化させた。
前記圧着端子の接続強度は、締結部とアルミケーブルを把持して引張試験を行い、アルミ撚線が圧着部から抜け出るときの荷重を求め、前記荷重が1.7kN以上のものを機械的接続性が良好と判定した。
前記冷熱衝撃試験は、圧着部に−40℃の低温環境と+120℃の高温環境を交互に1000回繰り返して行った。
電気抵抗は4探針法により測定した。通電電流は0.1mA以上を流した。電源装置には電圧0.1V以下、電流0.01A以下の精度を有するものを用いた。電圧計には0.01mV以下の精度を有するものを用いた。
この圧着端子の圧着部の応力緩和率は50%であった。
これらの試験および測定の結果を下記の表1に示した。
圧着端子を、厚み2.3mmのCu−30質量%Zn合金条(H材)を用いて作製した他は、実施例1と同じ方法によりアルミ撚線の端末構造部を形成し、実施例1と同じ試験および測定を行った。その結果を下記の表1に示した。
圧着端子を、厚み1.7mmのC5210合金条(H材)を用いて作製した他は、実施例1と同じ方法によりアルミ撚線の端末構造部を形成し、実施例1と同じ試験および測定を行った。その結果を下記の表1に示した。
圧着端子を厚み2.0mmのC1020銅合金条(H材)を用いて作製し、圧着部の応力緩和率を請求項2の規定値外とした他は、実施例1と同じ方法によりアルミ撚線の端末構造部を形成し、実施例1と同じ試験および測定を行った。その結果を下記の表1に示した。
アルミ撚線の圧着前後の断面積比(p/q)を、請求項11の規定値外とした他は、実施例1と同じ方法によりアルミ撚線の端末構造部を形成し、実施例1と同じ試験および測定を行った。その結果を下記の表1に示した。
セレーションの溝数、または溝深さdとアルミ素線径eの比(d/e)を請求項1の規定値外とした他は、実施例1と同じ方法によりアルミ撚線の端末構造部を形成し、実施例1と同じ試験および測定を行った。その結果を下記の表1に示した。
これに対し、比較例1の試料No.13は溝数が少ないため、試料No.14は溝深さとアルミ素線径の比(d/e)が小さかったためいずれも機械的接続性および電気的接続性が劣った。
厚み0.5μm、1.2μm、18μm、24μmのSnめっきを施した合金条を使用した他は、実施例1と同じ材料、方法によりアルミ圧着端子を作製し、実施例1と同様にアルミ撚線の端末構造部を形成し、実施例1と同じ試験および測定を行った。
なお、セレーションの溝数は3、溝深さは0.11mm、溝幅は1mmで、圧着前後の断面積比は0.95とした。なお、Snめっき厚は、コリメータ径0.1mmの蛍光X線の強度を5点測定し、その平均から求めた。
得られた結果を下記の表2に示した。なお、圧着前後の断面積比が0.95である実施例1の試料No.5を参考として表2に記載した。
圧着端子の引張り強度(TS)およびビッカース硬度(Hv)を種々に変化させた他は、実施例1と同じ方法によりアルミ撚線の端末構造部を形成し、実施例1と同じ試験および調査を行った。セレーションの溝数は3、溝深さは0.11mm、溝幅は1mmで、圧着前後の断面積比は0.95とした。
なお、圧着端子の引張り強度は、プレス加工する前の条材からJIS Z2201に規定された試験片を作成し、JIS Z2241に規定された試験方法に従った。またビッカース硬さ試験はJIS Z2244に従った。
得られた結果を下記の表3に示した。
圧着するアルミ撚線を構成するアルミ素線の酸化膜の厚さを、厚み5nm、20nm、25nmとした他は、実施例1と同じ方法によりアルミ撚線の端末構造部を形成し、実施例1と同じ試験および調査を行った。セレーションの溝数は3、溝深さは0.11mm、溝幅は1mmで、圧着前後の断面積比は0.95とした。酸化膜の厚さはアルミ撚線の大気中での加熱処理により制御した。
なお、アルミ素線の表面の酸化膜は、10μm四方の領域をオージェ電子分光法で測定した。厚さ100nmのSiO2を10分でスパッタする能力のアルゴンイオンガンで、アルミ線の表面から掘り進め、都度分光分析を行い、酸素の質量%が最表面の半分になるまでにかかったスパッタ時間から、Al2O3のスパッタレート4nm/分を用いて酸化膜の厚さを計算により求めた。
得られた結果を下記の表4に示した。
1a圧着部側壁
1b圧着部の内面
1c圧着部の先端部
2 ボルト穴
3 圧着端子の締結部
4 圧着部内面の溝
4a溝の底面
5 セレーション
6 アルミ撚線
7 アルミ素線
8 アルミケーブルの外皮
9 アルミケーブル
10従来の圧着端子の圧着部
11圧着部内面の溝
12セレーション
13従来の圧着端子の締結部
14ボルトなどを通すための穴
15圧着部側壁
Claims (12)
- 圧着部内面にセレーションを設けたアルミ撚線用圧着端子において、前記セレーションを構成する溝の深さdと前記アルミ撚線を構成するアルミ素線の径eの比(d/e)が0.33以上であり、前記溝数が3以上であることを特徴とするアルミ撚線用圧着端子。
- 前記圧着部が銅または銅合金からなり、前記圧着部の応力緩和率が70%以下であることを特徴とする請求項1記載のアルミ撚線用圧着端子。
- 前記アルミ撚線用圧着端子が、結晶粒50μm以下の黄銅であることを特徴とする請求項1または2記載のアルミ撚線用圧着端子。
- 前記アルミ撚線用圧着端子の導電率が25%IACS以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のアルミ撚線用圧着端子。
- 前記アルミ撚線用圧着端子の引張り強度が400MPa以上、ビッカース硬度が90以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のアルミ撚線用圧着端子。
- 前記アルミ撚線用圧着端子の引張り強度がアルミ撚線を構成する素線の引張り強度の2倍以上およびビッカース硬度がアルミ撚線を構成する素線の硬度の2倍以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載のアルミ撚線用圧着端子。
- 前記アルミ撚線用圧着端子の表面にSnめっき又ははんだめっきが1μm以上20μm以下の厚さで施されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項記載のアルミ撚線用圧着端子。
- 前記Snめっきが、純Sn層の厚さを0.2μm以上有することを特徴とする請求項7記載のアルミ撚線圧着用端子。
- 前記アルミ撚線用圧着端子のSnめっき又ははんだめっきの下地めっきとして、Cuめっき又はNiめっきが施されていることを特徴とする請求項7又は8記載のアルミ撚線圧着用端子。
- 前記アルミ撚線用圧着端子のSnめっきの下地めっきとしてCuめっきが施され、さらにその下地めっきとしてNiめっきが施されていることを特徴とする請求項7又は8記載のアルミ撚線圧着用端子。
- 請求項1〜10のいずれか1記載のアルミ撚線用圧着端子が圧着されたアルミ撚線の端末構造であって、前記アルミ撚線の圧着後の断面積pと圧着前の断面積qの比(p/q)が0.7〜0.95であることを特徴とするアルミ撚線の端末構造。
- 前記アルミ撚線を構成するアルミ素線の酸化膜の厚さが20nm以下であることを特徴とする請求項11記載のアルミ撚線の端末構造。
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