JP2007171812A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2007171812A5
JP2007171812A5 JP2005372439A JP2005372439A JP2007171812A5 JP 2007171812 A5 JP2007171812 A5 JP 2007171812A5 JP 2005372439 A JP2005372439 A JP 2005372439A JP 2005372439 A JP2005372439 A JP 2005372439A JP 2007171812 A5 JP2007171812 A5 JP 2007171812A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carboxyl group
ink composition
group
resist ink
polymerizable compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005372439A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007171812A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2005372439A priority Critical patent/JP2007171812A/ja
Priority claimed from JP2005372439A external-priority patent/JP2007171812A/ja
Publication of JP2007171812A publication Critical patent/JP2007171812A/ja
Publication of JP2007171812A5 publication Critical patent/JP2007171812A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Claims (17)

  1. カルボキシル基含有ラジカル重合性化合物、脂環構造を有しかつエポキシ基を2個以上有する40℃で固体である化合物及び有機溶媒を必須成分とすることを特徴とするソルダーレジストインキ組成物。
  2. さらにカルボキシル基を有さないラジカル重合性化合物を必須成分として含有する請求項1に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  3. さらにエポキシ基とカルボキシル基との付加反応を触媒する化合物を必須成分として含有する請求項1または2に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  4. 脂環構造を有しかつエポキシ基を2個以上有する40℃で固体である化合物の数平均分子量が1000以下である請求項1〜のいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  5. 脂環構造を有しかつエポキシ基を2個以上有する40℃で固体である化合物が、下記一般式(1)
    Figure 2007171812
    (式中、nは0あるいは1以上の整数を表す。)
    及び下記一般式(2)
    Figure 2007171812
    (式中、mは0あるいは1以上の整数を表す。)
    の中から選ばれる少なくとも1種以上である請求項1〜のいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  6. カルボキシル基含有ラジカル重合性化合物として、ウレタン結合を有するカルボキシル基含有ラジカル重合性化合物を含有する請求項1〜のいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  7. カルボキシル基含有ラジカル重合性化合物として、分子内に(メタ)アクリル酸とエポキシ基の反応によって生成するエステル結合を有しかつウレタン結合を含有しないカルボキシル基含有ラジカル重合性化合物を含有する請求項1〜のいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  8. カルボキシル基含有ラジカル重合性化合物として、ウレタン結合を有するカルボキシル基含有ラジカル重合性化合物、及び分子内に(メタ)アクリル酸とエポキシ基の反応によって生成するエステル結合を有しかつウレタン結合を含有しないカルボキシル基含有ラジカル重合性化合物を含有する請求項1〜のいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  9. ウレタン結合を有するカルボキシル基含有ラジカル重合性化合物と、分子内に(メタ)アクリル酸とエポキシ基の反応によって生成するエステル結合を有しかつウレタン結合を含有しないカルボキシル基含有ラジカル重合性化合物の含有比率が、重量比で、2:8〜8:2である請求項に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  10. ウレタン結合を有するカルボキシル基含有ラジカル重合性化合物が、ジメチロールアルカン酸由来のカルボキシル基及び多塩基酸無水物由来のカルボキシル基を含有している、ウレタン結合を有するカルボキシル基含有光重合性化合物である請求項及びのいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  11. ウレタン結合を有するカルボキシル基含有ラジカル重合性化合物が70〜130mgKOH/gの酸価を有する請求項10のいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  12. 分子内に(メタ)アクリル酸とエポキシ基の反応によって生成するエステル結合を有しかつウレタン結合を含有しないカルボキシル基含有光重合性化合物が、下記一般式(3)
    Figure 2007171812
    (式中、X1及びX2はそれぞれ独立に脂環構造または芳香環構造を有する2価の有機残基を表し、jは1以上の整数を表し、Mは水素原子またはグリシジル基を表す。ただし、jが1の場合、Mはグリシジル基であり、jが2以上の整数の場合、Mの少なくとも1個はグリシジル基である。)、
    一般式(4)
    Figure 2007171812
    (式中、Y1及びY2はそれぞれ独立に脂環構造または芳香環構造を有する2価の有機残基を表し、kは1以上の整数を表し、Mは水素原子またはグリシジル基を表す。ただし、kが1の場合、Mはグリシジル基であり、kが2以上の整数の場合、Mの少なくとも1個はグリシジル基である。)、
    一般式(5)
    Figure 2007171812
    (式中、Z1及びZ2はそれぞれ独立に脂環構造または芳香環構造を有する2価の有機残基を表し、lは1以上の整数を表し、Mは水素原子またはグリシジル基を表す。ただし、lが1の場合、Mはグリシジル基であり、lが2以上の整数の場合、Mの少なくとも1個はグリシジル基である。)
    で示される少なくとも一種以上のエポキシ基含有化合物と(メタ)アクリル酸の反応により生成する生成物と、多塩基酸無水物との反応によって生成するカルボキシル基含有光重合性化合物である請求項11のいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  13. 分子内に(メタ)アクリル酸とエポキシ基の反応によって生成するエステル結合を有しかつウレタン結合を含有しないカルボキシル基含有ラジカル重合性化合物70〜130mgKOH/gの酸価を有する請求項12のいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  14. カルボキシル基を有さないラジカル重合性化合物として、(メタ)アクリル酸とエポキシ基の反応によって生成するエステル結合を有しかつカルボキシル基を有さないラジカル重合性化合物及びウレタン結合を有しかつカルボキシル基を有さないラジカル重合性化合物の群の中から選ばれる少なくとも1種以上を含有する請求項13のいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  15. ソルダーレジストインキ組成物中に含まれるエポキシ基の総数とカルボキシル基の総数の比率が0.5〜2.0の範囲である請求項1〜14のいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物。
  16. 請求項1〜15のいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物を硬化してなるソルダーレジスト。
  17. 以下の工程(イ)〜(ロ):
    (イ)請求項1〜15のいずれか1項に記載のソルダーレジストインキ組成物を印刷して塗膜を得る工程、
    (ロ)(イ)で得られた塗膜を50〜100℃の雰囲気下で有機溶媒を蒸発させ、一部あるいは全量の有機溶媒が除去された塗膜を得る工程、
    (ハ)(ロ)で得られた塗膜に、ネガマスク越しに活性エネルギー線を照射して、部分的に活性エネルギー線によって硬化された塗膜を得る工程、
    (ニ)(ハ)で得られた塗膜を、希アルカリ水溶液で現像し、部分的に現像された塗膜を得る工程、
    (ホ)(ニ)で得られた塗膜を、120〜170℃の雰囲気下で熱硬化を行い、熱硬化された塗膜を得る工程、
    を含むことを特徴とするソルダーレジストの製造方法。
JP2005372439A 2005-12-26 2005-12-26 ソルダーレジストインキ組成物、その組成物を硬化してなるソルダーレジスト及びソルダーレジストの製造方法 Pending JP2007171812A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005372439A JP2007171812A (ja) 2005-12-26 2005-12-26 ソルダーレジストインキ組成物、その組成物を硬化してなるソルダーレジスト及びソルダーレジストの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005372439A JP2007171812A (ja) 2005-12-26 2005-12-26 ソルダーレジストインキ組成物、その組成物を硬化してなるソルダーレジスト及びソルダーレジストの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007171812A JP2007171812A (ja) 2007-07-05
JP2007171812A5 true JP2007171812A5 (ja) 2008-11-20

Family

ID=38298420

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005372439A Pending JP2007171812A (ja) 2005-12-26 2005-12-26 ソルダーレジストインキ組成物、その組成物を硬化してなるソルダーレジスト及びソルダーレジストの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007171812A (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4900510B2 (ja) * 2008-09-04 2012-03-21 日立化成工業株式会社 半導体パッケージ用プリント配線板の保護膜用感光性樹脂組成物
WO2010026977A1 (ja) * 2008-09-05 2010-03-11 コニカミノルタホールディングス株式会社 画像入出力装置
JP5564788B2 (ja) * 2008-12-26 2014-08-06 東洋インキScホールディングス株式会社 Uv−led用活性エネルギー線硬化型スクリーンインキおよび印刷物
CN102471460B (zh) * 2009-07-06 2015-10-21 昭和电工株式会社 布线板的保护膜用热固性组合物
CN103140800B (zh) * 2010-09-29 2015-11-25 株式会社钟化 新颖感光性树脂组合物制作套组及其利用
JP2012098470A (ja) * 2010-11-01 2012-05-24 Kaneka Corp 新規な感光性樹脂組成物及びその利用
MY173225A (en) * 2012-03-23 2020-01-07 Taiyo Ink Suzhou Co Ltd Photosensitive resin composition and its cured product, and printed circuit board
JP2019056867A (ja) * 2017-09-22 2019-04-11 株式会社タムラ製作所 感光性樹脂組成物

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02160243A (ja) * 1988-12-14 1990-06-20 Dainippon Ink & Chem Inc レジスト組成物
CA2107337A1 (en) * 1992-01-31 1993-08-01 Toshio Fujibayashi Resin composition for aqueous coating
JP3589304B2 (ja) * 1994-01-20 2004-11-17 大日本インキ化学工業株式会社 ソルダーレジストインキ用樹脂組成物
JP3391896B2 (ja) * 1994-06-15 2003-03-31 東京応化工業株式会社 耐熱性感光性樹脂組成物
JPH09124954A (ja) * 1995-11-06 1997-05-13 Nippon Oil Co Ltd 硬化性組成物
JPH09194803A (ja) * 1996-01-17 1997-07-29 Bando Chem Ind Ltd 半導体用接着テープ
JP4623890B2 (ja) * 2000-09-11 2011-02-02 昭和電工株式会社 感光性組成物及びその硬化物並びにそれを用いたプリント配線基板
JP2002107919A (ja) * 2000-10-03 2002-04-10 Nippon Kayaku Co Ltd 感光性樹脂組成物及びその硬化物
JP2002258476A (ja) * 2001-03-01 2002-09-11 Toppan Printing Co Ltd 絶縁感光性樹脂組成物及びプリント配線板
JP4545989B2 (ja) * 2001-05-31 2010-09-15 三菱瓦斯化学株式会社 感光性樹脂組成物
JP2002357900A (ja) * 2001-05-31 2002-12-13 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 感光性樹脂組成物
JP2003128957A (ja) * 2001-10-25 2003-05-08 Jsr Corp 保護膜形成用硬化性組成物、保護膜の形成方法、および保護膜
JP3523857B2 (ja) * 2001-12-25 2004-04-26 昭和高分子株式会社 感光性樹脂および感光性レジストインキ組成物
JP2004204186A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Nagase Chemtex Corp エポキシ樹脂組成物
JP2004286818A (ja) * 2003-03-19 2004-10-14 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 耐熱性に優れた難燃レジスト組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007171812A5 (ja)
JPS5989304A (ja) 硬化性混合物の接触硬化方法
JP2005514514A5 (ja)
JP2000159758A5 (ja)
CN112334833A (zh) 负型感光性树脂组合物、以及使用其的聚酰亚胺及固化浮雕图案的制造方法
KR101488138B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 드라이 필름, 경화물 및 프린트 배선판
JP4193359B2 (ja) ポリへミアセタールエステル樹脂を含有する熱硬化性組成物及び粉体型熱硬化性組成物
JPWO2006025236A1 (ja) 活性光線硬化型ハイパーブランチポリマーおよびそれを用いた活性光線硬化型樹脂組成物
JP2005060520A5 (ja) 硬化組成物とそれを用いたインクジェット用インク、硬化物形成方法、硬化物形成装置及びインクジェット記録装置
WO2016067605A1 (ja) 塗料組成物
JP6634714B2 (ja) 有機ケイ素化合物及び該有機ケイ素化合物を含む樹脂組成物と硬化被膜
JP2012520277A5 (ja)
JP2011071135A (ja) 接続構造体の製造方法
EP0434099A2 (en) A process for obtaining textured coatings from photo-curable urea-containing compositions
JP5504225B2 (ja) 異方性導電材料及び接続構造体
JP2005307123A5 (ja)
JP4316093B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JPH0940750A (ja) 硬化性組成物
JP4526715B2 (ja) シロキサン変性アクリル樹脂、感光性樹脂組成物及び硬化物
JP5764436B2 (ja) 硬化性組成物及び接続構造体
JPS59213780A (ja) 紫外線硬化型ソルダレジストインキ
JP4202171B2 (ja) 低誘電性光硬化性樹脂組成物
JP2008015060A (ja) 感光性ポリアミド酸エステル組成物
CN1724251A (zh) 聚酰亚胺金属层积板及其制造方法
TW201443125A (zh) 感光性樹脂組成物、乾薄膜、硬化物及印刷電路板