JP2007044686A - 基板のスピン処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】第１の処理液と第２の処理液とを分離回収することができ、しかも基板から飛散した各処理液が基板に再び付着しないようにしたスピン処理装置を提供することにある。
【解決手段】外カップ体１内に設けられ上面に基板を保持した状態で制御モータ１７によって回転駆動される回転テーブル１１と、外カップ体内に設けられ上端が回転テーブルの上面よりも低い下降位置と上端が回転テーブルに保持された上記基板よりも高い上昇位置との間で上下駆動機構２７によって上下駆動可能に設けられた内カップ体２１と、外カップ体の内周部に設けられ内カップ体が下降位置の状態で基板を回転させて第２の処理液で処理するときに基板の周辺部から飛散する第２の処理液を下方へ反射させる第１の反射板６と、内カップ体の内周部に設けられ内カップ体が上昇位置の状態で基板を回転させて第１の処理液で処理するときに基板の周辺部から飛散する第１の処理液を下方へ反射させる第２の反射板２５を具備する。
【選択図】 図１

Description

この発明は回転テーブルに保持された基板を第１の処理液と第２の処理液とで処理する基板のスピン処理装置に関する。

たとえば、液晶表示装置の製造過程においては、矩形状のガラス製の基板に回路パターンを形成するということが行われている。回路パターンを形成する場合、上記基板に対して現像処理、エッチング処理あるいはレジストの剥離処理などが行われる。これらの処理を行う場合、まず、基板に第１の処理液として現像液、エッチング液あるいは剥離液などを供給して所定の処理を行い、ついで第２の処理液として純水などの洗浄液を供給して洗浄処理するということが行われる。

現像液、エッチング液あるいは剥離液などの第１の処理液は高価であるため、循環使用するということが行われている。第１の処理液を循環使用する場合、第１の処理液と第２の処理液とを混合させずに回収するようにしている。

一方、基板を回転させながら処理液で処理するスピン処理装置はカップ体を有する。このカップ体内には回転テーブルが設けられている。回転テーブルには上記基板の四隅部の下面と側面とを支持する支持ピンが設けられている。上記回転テーブルを回転させて基板に処理液を供給しながら処理すると、この基板に供給された処理液は遠心力によって周辺部に飛散する。

基板から飛散した処理液が上記カップ体の内周面で反射して基板の方向に戻ると、基板に付着して汚染の原因となる。そこで、特許文献１にはカップ体の内周面に斜めに傾斜した整流リングを設けるということが示されている。整流リングを設けることで、基板から飛散した処理液を下方へ反射させ、基板へ戻るのを防止することが可能となる。
特開２００２−２６１０７３号公報

ところで、特許文献１に示されたスピン処理装置は基板を第１の処理液と第２の処理液とによって順次処理し、これらの処理液を分離回収するということが示されていない。第１の処理液と第２の処理液を分離回収する場合、第１の処理液によって基板を処理するときと、第２の処理液によって処理するときのいずれにおいても、基板から飛散する処理液が基板へ戻るのを防止できなければならない。

しかしながら、特許文献１に示されたスピン処理装置では、２種類の処理液を分離回収するということが示されていないから、２種類の処理液を分離回収する場合に、基板から飛散した処理液がそれぞれ基板へ戻るのを防止するということが示されていない。

この発明は、基板を第１の処理液と第２の処理液とで順次処理する場合、各処理液を分離回収するとともに、基板から飛散するそれぞれの処理液が基板へ戻って付着するということがないようにしたスピン処理装置を提供することにある。

この発明は、基板を回転させながら第１の処理液と第２の処理液で処理するスピン処理装置であって、
外カップ体と、
この外カップ体内に設けられ上面に上記基板を保持した状態で回転駆動手段によって回転駆動される回転テーブルと、
上記外カップ体内に設けられ上端が上記回転テーブルの上面よりも低い下降位置と上端が上記回転テーブルに保持された上記基板よりも高い上昇位置との間で上下駆動手段によって上下駆動可能に設けられた内カップ体と、
上記外カップ体の内周部に設けられ上記内カップ体が下降位置の状態で上記基板を回転させて上記第２の処理液で処理するときに上記基板の周辺部から飛散する上記第２の処理液を下方へ反射させる第１の反射手段と、
上記内カップ体の内周部に設けられこの内カップ体が上昇位置の状態で上記基板を回転させて上記第１の処理液で処理するときに上記基板の周辺部から飛散する上記第１の処理液を下方へ反射させる第２の反射手段と
を具備したことを特徴とする基板のスピン処理装置にある。

上記第１の反射手段と第２の反射手段は、回転する基板から水平方向に飛散する第１、第２の処理液を下方へ向けて反射する第１の反射部と、回転する基板から斜め上方に向かって飛散する第１、第２の処理液を下方へ向けて反射する第２の反射部を備えていることが好ましい。

上記内カップ体が下降位置で上記基板を上記第２の処理液によって処理したときにその第２の処理液を上記外カップ体から排出する第１の排出部と、上記内カップ体が上昇位置で上記基板を上記第１の処理液によって処理したときにその第１の処理液を上記第２の処理液と別の経路で上記外カップ体から排出する第２の排出部とを備えていることが好ましい。

上記内カップ体が下降位置で上記基板を上記第２の処理液によって処理するときに上記外カップ体内の第２の処理液及び雰囲気を上記第１の排出部を通じて吸引排出する排出手段と、
上記内カップ体が上昇位置で上記基板を上記第１の処理液によって処理するときに上記内カップ体内の雰囲気が上記排出手段の吸引力によって上記第１の排出部を通じて排出されるようガイドするガイド手段とを具備することが好ましい。

上記排出手段は、上記第１の排出部に接続された気液分離装置と、この気液分離装置に接続され上記外カップ体内の第１の処理液と雰囲気を上記気液分離装置内に吸引する排気管とによって構成されていることが好ましい。

上記排出手段の吸引力によって上記内カップ体内の雰囲気を上記ガイド手段にガイドさせて上記第１の排出部から排出させる際、上記第２の排出部から排出される上記第２の処理液が上記第１の排出部に流れるのを阻止する遮蔽手段が設けられていることが好ましい。

この発明によれば、外カップ体と内カップ体の内周部に、それぞれ基板の周辺部から飛散する処理液を下方へ反射させる反射手段を設けたので、内カップ体を上昇させて基板を第１の処理液で処理する場合や内カップ体を下降させて基板を第２の処理液で処理する場合のいずれであっても、基板から飛散した処理液が基板へ戻る方向に反射するのを防止できる。

以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。

図１乃至図３に示すスピン処理装置は外カップ体１を備えている。この外カップ体１は上面が開口した有底角筒状の周壁１ａを有し、この周壁１ａの上端には径方向内方に向かって約３０度の角度で傾斜した上部傾斜壁２が設けられている。この上部傾斜壁２の上端である、内周縁には円筒状の垂直壁３が設けられている。

上記外カップ体１の内周面の高さ方向中途部には周方向に所定間隔で支柱４ａが設けられ、各支柱４ａには断面形状がＬ字状のブラケット４ｂが一辺を固定して設けられている。このブラケット４の他辺には第１の反射手段としてのリング状の複数の第１の反射板、この実施の形態では４枚の第１の反射板６がスペーサ７を介して上下方向に所定間隔で積層されている。

積層された第１の反射板６とスペーサ７とにはねじ軸８が挿通されている。このねじ軸８は上記ブラケット４に固定されている。上記第１の反射板６は、先端部がたとえば３０度の角度で外カップ体１の径方向内方に向かって高く傾斜し、基端部には図示しない通孔が形成されている。この通孔は各第１の反射板の６の上面側に後述するように滴下した第２の処理液を下方へ流す。なお、外カップ体１は架台９の上面に載置固定されている。

上記外カップ体１内には回転テーブル１１が設けられている。この回転テーブル１１は円盤状の基部１２を有し、この基部１２には周方向に９０度間隔で４本のアーム１３が基端を連結固定して設けられている。なお、隣り合う一対のアーム１３間にはアーム１３よりも短い補助アーム１３ａが設けられている。

上記基部１２、アーム１３及び補助アーム１３ａには液晶表示装置に用いられる矩形状のガラス製の基板Ｗの下面を支持する支持ピン１４が設けられている。さらに、各アーム１３の先端部には基板Ｗの各角部の一対の側面に係合する係合ピン１５が設けられている。

回転テーブル１１の支持ピン１４に支持された基板Ｗの高さは、外カップ体１の内周面に設けられた４枚の第１の反射板６のうち、最下段の反射板６の上端よりも高く、上から３枚目の反射板６の上端よりも低い位置になるよう設定されている。

したがって、上から３枚目の第１の反射板６は後述するごとく基板Ｗから水平方向に飛散した第２の処理液を下方に向けて反射する第１の反射部となり、上の２枚の第１の反射板６は基板Ｗから斜め上方に向かって飛散した第２の処理液を下方に向けて反射する第２の反射部となっている。

図１に示すように、上記回転テーブル１１の基部１２は連結筒体１６を介して制御モータ１７に連結されている。この制御モータ１７は固定子１８内に回転子１９が設けられていて、この回転子１９に上記連結筒体１６の下端が連結されている。したがって、上記制御モータ１７が作動すれば、上記回転テーブル１１が図３に矢印で示す反時計方向に回転駆動されるようになっている。なお、制御モータ17は上記架台９の上面に取付け固定されている。

上記外カップ体１内には内カップ体２１が設けられている。この内カップ体２１は外形寸法が上記外カップ体１の内径寸法よりも小さく、内径寸法が上記回転テーブル１１の外形寸法よりも大きいリング部２２を有し、このリング部２２の外周には円筒状の周壁２３の下端が連結固定されている。

上記周壁２３の上端には径方向内方に向かってたとえば３０度の角度で高く傾斜した第２の反射部としての上部傾斜壁２４が設けられ、内周面には上記上部傾斜壁２４と同じ角度で傾斜したリング状の第１の反射部としての第２の反射板２５が設けられている。第２の反射板２５の基端部には図示しない通孔が形成されていて、この通孔は上部傾斜板２４の下面で後述するように下方に向かって反射した第１の処理液を下方へ滴下させる。

上記内カップ体２１の上記リング部２２の内周面には、周方向に１８０度離れた位置に一対の連結片２６が径方向内方に向かって延出されている。各連結片２６の中途部には上下駆動機構２７を構成するスライド軸２８の上端がそれぞれ連結固定されている。なお、スライド軸２８の上記外カップ体１内に突出した部分はベローズ３０によって被覆されている。

一対のスライド軸２８は上記架台９に設けられた軸受２９にスライド可能に支持されている。スライド軸２８の上記軸受２９から突出した下端はスライダ３１に連結されている。一対のスライダ３１は上記架台９に上下方向に沿って設けられたリニアガイド３２にスライド可能に支持されている。

一対のスライダ３１は連結部材３３によって連結されている。連結部材３３の中途部には軸線を垂直にして上記架台９に設けられたシリンダ３４のロッド３５が連結されている。したがって、シリンダ３４のロッド３５が図１に示すように突出方向に付勢されると、内カップ体２１はその上端である、上部傾斜壁２４の上端が回転テーブル１１に保持された基板Ｗよりも高い上昇位置に保持される。

上記シリンダ３４のロッド３４が図２に示すように没入方向に付勢されると、上記内カップ体２１は上部傾斜壁２４の上端が回転テーブル１１に保持された基板Ｗよりも低い下降位置に保持される。下降位置は上部傾斜壁２４の上端が基板Ｗよりも低い位置であればよいが、上部傾斜壁２４の上端が回転テーブル１１の上面よりも低い位置であればさらに好ましい。

上記外カップ体１の内底部には上記内カップ体２１の外周面を覆う円筒状のガイド手段を構成するガイドリング３７が設けられている。ガイドリング３７の上端の高さは、図２に示すように内カップ体２１が下降したときに、この内カップ体２１の上部傾斜壁２４の下端、つまり周壁２３の上端とほぼ同じになるよう設定されている。さらに、ガイドリング３７の下端部は外カップ体１の周壁１ａの下端部に向かって傾斜した傾斜部３７ａに形成されている。

図１と図３に示すように、上記外カップ体１の底壁には、上記内カップ体２１の周壁２３の径方向内側に対応する位置に複数、たとえば周方向に１８０度間隔で第２の排出部を構成する２本の第１の排出管３８が接続されている。さらに、上記外カップ体１の底壁には、上記内カップ体２１の周壁２３の外側である、上記ガイドリング３７の傾斜部３７ａに対向する位置に第１の搬出部を構成する、同じく複数である８本の第２の排出管３９が接続されている。

上記外カップ体１の底壁の第１の排出管３８と第２の排出管３９との間には、後述するように上記第１の排出管３８を通じて排出される第２の処理液が上記第２の排出管３９に流れたり、上記第２の排出管３９を通じて排出される第１の処理液が上記第１の排出管３８に流れるのを防止する遮蔽手段としての遮蔽壁４０が周方向全長にわたって設けられている。

上記外カップ体１の内底部には円錐台状の傾斜壁４１が設けられている。この傾斜壁４１の上端には上記制御モータ１７が挿通されるリング状の蓋部材４２が周辺部を液密に接合させて設けられている。この蓋部材４２の制御モータ１７が通された開口部部分はシール部材４３によって液密に遮蔽されている。

さらに、上記外カップ体１の上方には第１のエッチング液や剥離液などの第１の処理液を供給する第１のノズル体４４と、洗浄液である純水などの第２の処理液を供給する第２のノズル体４５とが配置されている。

なお、上記回転テーブル１１の各アーム１３の上面には、外径寸法が上記内カップ体２１に設けられた上部傾斜壁２４及び第２の反射板２５の内径寸法よりもわずかに小さな円盤状の遮蔽板４７が設けられている。

図３に示すように、上記外カップ体１の底壁の四隅部には上記第２の排出管３９よりも大径な第３の排出管５１が接続されている。上記外カップ体１の径方向に沿う中心線を対称にして左側と右側に位置する複数の第２、第３の排出管３９，５１は一対の気液分離装置５２にそれぞれ接続されている。各気液分離装置５２には排気管５３及び排液管５４が接続されている。

上記排気管５３は図示しない排気ブロアに接続されている。排気ブロアが作動すると、その吸引力が気液分離装置５２を介して第２、第３の排出管３９，５１に作用する。それによって、外カップ体１及び内カップ体２１の内部に吸引力が作用するから、その吸引力によって各カップ体１，２１内の雰囲気が排出されるようになっている。

上記外カップ体１内には、図３に示すように矢印方向に回転する回転テーブル１１から飛散する処理液が上記外カップ体１の四隅部に設けられた第３の排出管５１の方向にガイドする円弧状のガイド板５５が設けられている。

上記回転テーブル１１から飛散して上記ガイド板５５の外面側に流れた処理液の一部は上記第３の排出管から排出される。上記ガイド板５５の内面に沿って流れる処理液は上記ガイドリング３７の傾斜部３７ａの上面に落下し、その傾斜方向下端に沿って流れる。傾斜部３７ａの下端には周方向に所定間隔で複数の切り欠き部３７ｂが形成されている。それによって、傾斜部３７ａの下端に流れた処理液は上記切り欠き部３７ｂを通過して上記第２の排出部３９から排出されるようになっている。

つぎに、上記構成のスピン処理装置によって基板Ｗを処理する場合の作用について説明する。
基板Ｗは第１の処理液で処理されてから、第２の処理液によって洗浄処理される。まず、図２に示すように内カップ体２１を下降させた状態で、回転テーブル１１に基板Ｗを供給し、この基板Ｗの下面を支持ピン１４で支持し、四隅部を係合ピン１５で保持する。

ついで、上下駆動機構２７のシリンダ３４を作動させ、そのロッド３５を突出方向に付勢する。それによって、図１に示すように内カップ体２１を上昇させ、その上部傾斜壁２４の上端が回転テーブル１１に保持された基板Ｗよりも高い、上昇位置に位置決めされる。

内カップ体２１を上昇させたならば、制御モータ１７を作動させて回転テーブル１１を低速回転させるとともに、第１のノズル体４４から基板Ｗの上面のほぼ中心部分に第１の処理液を供給する。

基板Ｗの上面に供給された第１の処理液は、基板Ｗの回転によって生じる遠心力で基板Ｗの周縁部から外方に向かって飛散する。基板Ｗから飛散した第１の処理液は内カップ体２１の上部傾斜壁２４や内周面に設けられた第２の反射板２５の下面に衝突する。上部傾斜壁２４や第２の反射板２５は径方向内方に向かって高く傾斜している。

そのため、上部傾斜壁２４と第２の反射板２５の下面に衝突した第１の処理液は下方に向かって反射し、回転テーブル１１に保持された基板Ｗに向かって反射するということがないから、基板Ｗから飛散した第１の処理液が基板Ｗの再び付着して汚染の原因となることがない。

基板Ｗに供給された第１の処理液は、基板Ｗの回転によって生じる遠心力で、一部は図４に矢印Ａで示すように基板Ｗの上面から水平方向に飛散したり、一部は基板Ｗの角部を保持した係合ピン１５に当たって矢印Ｂで示すように斜め上方に向かって飛散する。

矢印Ａで示す水平方向に飛散した第１の処理液は内カップ体２１の第２の反射板２５の下面に衝突して下方に向かって反射する。係合ピン１５に衝突するなどして矢印Ｂで示すように斜め上方に向かって飛散した第１の処理液は上部傾斜壁２４の下面に衝突して下方に向かって反射し、第２の反射板２５に形成された図示しない通孔を通って下方へ滴下する。

したがって、基板Ｗから飛散する第１の処理液の飛散方向が矢印Ａと矢印Ｂのいずれの方向であっても、上昇位置に位置決めされた内カップ体２１の上部傾斜壁２４と第２の反射板２５との下面に衝突して下方に反射するから、第１の処理液が基板Ｗ側に戻ることが防止される。

内カップ体２１の上部傾斜壁２４や第１の反射板２５で下方に向かって反射した第１の処理液は外カップ体１の底壁に向かって滴下する。外カップ体１の底壁には内カップ体２１の周壁２３とほぼ同径のリング状をなした遮蔽壁４０が設けられている。

そのため、内カップ体２１から外カップ体１の底壁に滴下した第１の処理液は、上記遮蔽壁３７の内側に設けられた第１の排液管３８を通って排出され、外側に設けられた第２の排出管３９に流れることがない。そして、第１の排液管３８に排出された第１の処理液は、回収されて再使用されることになる。

第１の処理液で基板Ｗを処理する際、内カップ体２１内には第２の排出管３９、この第２の排出管３９が接続された気液分離装置５２、この気液分離装置５２に接続された排気管５３を介してこの排気管５３に接続された図示しない排気ブロアの吸引力が作用する。

それによって、内カップ体２１内に供給された第１の処理液が上記第１の排出管３８から排出されると同時に、内カップ体２１内の雰囲気が第２の排出管３９の開口面に対向するガイドリング３７の傾斜部３７ａにガイドされて上記第２の排出管３９から排出される。内カップ体２１内の雰囲気にはミスト状となった第１の処理液が含まれるから、その雰囲気が内カップ体２１内に残留すると、第１の処理液が内カップ体２１内に付着し、基板Ｗを第２の処理液で洗浄処理するときに基板Ｗに転移して汚れの原因になることがある。

しかしながら、この実施の形態では内カップ体２１内の雰囲気は第２の排出管３９を通じて気液分離装置５２に吸引される。そのため、ミスト状の第１の処理液を含む内カップ体２１内の雰囲気が確実に排出されるから、第１の処理液が内カップ体２１に付着残留するのを防止することができる。

このようにして、第１の処理液による基板Ｗの処理が終了したならば、第１の処理液の供給を停止し、内カップ体２１を図２と図５に示す下降位置に下降させる。ついで、回転テーブル１１の回転速度を上昇させる。つまり、基板Ｗを第１の処理液で処理する場合に比べて上記回転テーブル１１の回転速度を高くする。

回転テーブル１１の回転速度を上昇させたならば、第２のノズル体４５から基板Ｗの中央部分に純水からなる第２の処理液を供給する。基板Ｗに供給された第２の処理液は、基板Ｗの上面を洗浄してその周辺部から外方に向かって飛散する。

基板Ｗから飛散した第２の処理液は内カップ体２１が回転テーブル１１よりも低い下降位置まで下降しているので、内カップ体２１に衝突することなく、外カップ体１の内周面に向かって飛散する。

なお、外カップ体１の内周面まで飛散せずに落下する第２の処理液は遮蔽板４７上に落下し、この遮蔽板４７の周辺部から外カップ体１の内周面へ飛散する。つまり、第２の処理液は内カップ体２１内に落下することはない。

外カップ体１の内周面には上下方向に所定間隔で積層された４枚の第１の反射板６が設けられている。回転テーブル１１に保持された基板Ｗの高さは、最下段の第１の反射板６の上端よりも高く、上から３枚目の第１の反射板６よりも低い位置にある。

そのため、基板Ｗから飛散する第２の処理液のうち、図５に矢印Ａで示す水平方向に向かって飛散した第２の処理液は上から３枚目の第１の反射板６の下面に衝突し、下方に向かって反射する。なお、遮蔽板４７から飛散する第２の処理液は最下段の第１の反射板６の下面に衝突して下方に反射する。

基板Ｗから飛散した第２の処理液が基板Ｗを保持した係合ピン１５に衝突した場合などには飛散方向が同図に矢印Ｂで示すように上方に向かうことがある。その場合、第２の処理液は４枚の第１の反射板６のうちの、最上段及び上から２枚目の第１の反射板６などの下面に衝突して下方に向かって反射する。さらに、最上段の第１の反射板６よりも高い方向に向かって飛散した第２の処理液は外カップ体１の周壁１ａの上端に設けられた上部傾斜壁２の下面に衝突し、下方に向かって反射する。

したがって、基板Ｗを第２の処理液で洗浄処理する場合、第１の処理液で処理する場合に比べて基板Ｗの回転速度が速くなるため、第２の処理液が上方に向かって飛散することが多くなるが、そのような場合であっても、第２の処理液は第１の反射板６や上部傾斜壁２４によって下方に向かって反射し、基板Ｗに向かって反射するということがない。そのため、基板Ｗから飛散した第２の処理液が再び基板Ｗに付着して汚染の原因になるということがない。

第２の処理液が最上段の第１の反射板６の下面に衝突せずに、その第１の反射板６の先端に衝突した場合などには下方に向かって反射せず、図４に矢印Ｃで示すように上方に向かって反射し、上部傾斜壁２の下面に衝突するということがある。そのような場合、第２の処理液は上部傾斜壁２の下面で反射し、垂直壁３の内面に衝突して下方に滴下する。したがって、そのような場合であっても、第２の処理液が基板Ｗへ戻るのを防止することができる。

第１の反射板６で下方に向かって反射した第２の処理液は、回転テーブル１１の回転によって付与された遠心力で第１の反射板６の上面に沿って周方向に流れながら、ガイド板５５の内面にガイドされて外カップ体１の四隅部に設けられた第３の排出管５１に向かって飛散する。それによって、第２の処理液は上記外カップ体１内の雰囲気とともに上記第３の排出管５１に吸引排出される。

最下段の第１の反射板６で下方に向かって反射したり、各第１の反射板６の径方向外方からリング３７の傾斜部３７ａの上面に落下した第２の処理液は、上記傾斜部３７ａの傾斜方向下端に向かって流れる。

上記傾斜部３７ａの下端には切り欠き部３７ｂが形成されている。そのため、傾斜部３７ａに沿って流れた第２の処理液は上記切り欠き部３７ｂを通って第２の排出管３９に吸引排出される。その際、第２の排出管３９と第１の排出管３８との間には遮蔽壁４０が設けられているから、第２の処理液が第１の排出管３８へ流れるのが阻止される。

つまり、第２の処理液は、第１の処理液と異なる経路を通って排出されるため、第１の処理液に混合するということがない。そのため、第１の処理液を第２の処理液から確実に分離して回収できるから、第１の処理液を繰り返して使用することが可能となる。

このように、上記構成のスピン処理装置によれば、内カップ体２１を上昇させて基板Ｗを第１の処理液で処理するときと、内カップ２１を下降させて基板Ｗを第２の処理液で処理するときのいずれの場合であっても、基板Ｗから第１、第２の処理液が水平方向或いは水平よりも上方に向かって飛散しても、その飛散方向に係らず、第１、第２の処理液を下方に向かって反射させて回収することができる。

そのため、基板Ｗから飛散した第１、第２の処理液が内カップ体２１や外カップ体１の内周面で反射して回転テーブル１１に保持された基板Ｗに戻ってくるのを防止できるから、基板Ｗから飛散した第１、第２の処理液が基板Ｗに付着して汚染の原因になるということがない。

しかも、第１の処理液と第２の処理液とを、第１の排液管３８と第２の排液管３９とによって確実に分離回収することができるから、高価な第１の処理液を繰り返して使用することが可能となる。

さらに、第２の排出管３９によって内カップ体２１内の雰囲気を排出することができるから、基板Ｗを第１の処理液で処理したときに、ミスト状となって内カップ体２１内に浮遊する第１の処理液が内カップ体２１に付着残留することがない。そのため、基板Ｗを第１の処理液で処理した後、第２の処理液によって洗浄処理するとき、基板Ｗが第１の処理液によって汚染されることがないから、第２の処理液による基板の洗浄処理を確実に行なうことができる。

上記一実施の形態では基板として液晶表示装置に用いられる矩形状のガラス基板を例に挙げて説明したが、基板がガラス基板でなく、半導体ウエハの場合であってもこの発明のスピン処理装置を適用することが可能である。

この発明の一実施の形態を示す内カップ体が上昇位置にあるときのスピン処理装置の縦断面図。 内カップ体が下降位置にあるときのスピン処理装置の縦断面図。 外カップ体の周壁を断面して一部省略したスピン処理装置の横断面図。 内カップ体が上昇位置にあるときの回転テーブルと内カップ体との一部を示す拡大断面図。 内カップ体が下降位置にあるときの回転テーブルと外カップ体との一部を示す拡大断面図。

符号の説明

１…外カップ体、２…上部傾斜壁（第１の反射手段）、６…第１の反射板（第１の反射手段）、１１…回転テーブル、１７…制御モータ、２７…上下駆動手段、２１…内カップ体、２５…第２の反射板（第２の反射手段）、３８…第１の排液管（第１の排出部）、３９…第２の排液管（第１の排出部）。

Claims (6)

1. 基板を回転させながら第１の処理液と第２の処理液で処理するスピン処理装置であって、
   外カップ体と、
   この外カップ体内に設けられ上面に上記基板を保持した状態で回転駆動手段によって回転駆動される回転テーブルと、
   上記外カップ体内に設けられ上端が上記回転テーブルの上面よりも低い下降位置と上端が上記回転テーブルに保持された上記基板よりも高い上昇位置との間で上下駆動手段によって上下駆動可能に設けられた内カップ体と、
   上記外カップ体の内周部に設けられ上記内カップ体が下降位置の状態で上記基板を回転させて上記第２の処理液で処理するときに上記基板の周辺部から飛散する上記第２の処理液を下方へ反射させる第１の反射手段と、
   上記内カップ体の内周部に設けられこの内カップ体が上昇位置の状態で上記基板を回転させて上記第１の処理液で処理するときに上記基板の周辺部から飛散する上記第１の処理液を下方へ反射させる第２の反射手段と
   を具備したことを特徴とする基板のスピン処理装置。
2. 上記第１の反射手段と第２の反射手段は、回転する基板から水平方向に飛散する第１、第２の処理液を下方へ向けて反射する第１の反射部と、回転する基板から斜め上方に向かって飛散する第１、第２の処理液を下方へ向けて反射する第２の反射部を備えていることを特徴とする請求項１記載の基板のスピン処理装置。
3. 上記内カップ体が下降位置で上記基板を上記第２の処理液によって処理するときにその第２の処理液を上記外カップ体から排出する第１の排出部と、上記内カップ体が上昇位置の状態で上記基板を上記第１の処理液によって処理するときにその第１の処理液を上記第２の処理液と別の経路で上記外カップ体から排出する第２の排出部とを備えていることを特徴とする請求項１記載の基板のスピン処理装置。
4. 上記内カップ体が下降位置で上記基板を上記第２の処理液によって処理するときに上記外カップ体内の第２の処理液及び雰囲気を上記第１の排出部を通じて吸引排出する排出手段と、
   上記内カップ体が上昇位置で上記基板を上記第１の処理液によって処理するときに上記内カップ体内の雰囲気が上記排出手段の吸引力によって上記第１の排出部を通じて排出されるようガイドするガイド手段と
   を具備したことを特徴とする請求項３記載の基板のスピン処理装置。
5. 上記排出手段は、上記第１の排出部に接続された気液分離装置と、この気液分離装置に接続され上記外カップ体内の第１の処理液と雰囲気を上記気液分離装置内に吸引する排気管とによって構成されていることを特徴とする請求項４記載の基板のスピン処理装置。
6. 上記排出手段の吸引力によって上記内カップ体内の雰囲気を上記ガイド手段にガイドさせて上記第１の排出部から排出させる際、上記第２の排出部から排出される上記第２の処理液が上記第１の排出部に流れるのを阻止する遮蔽手段が設けられていることを特徴とする請求項４記載の基板のスピン処理装置。

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