JP2006295023A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2006295023A5
JP2006295023A5 JP2005116586A JP2005116586A JP2006295023A5 JP 2006295023 A5 JP2006295023 A5 JP 2006295023A5 JP 2005116586 A JP2005116586 A JP 2005116586A JP 2005116586 A JP2005116586 A JP 2005116586A JP 2006295023 A5 JP2006295023 A5 JP 2006295023A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical element
optical
deformation
substrate
optical device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005116586A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4817702B2 (ja
JP2006295023A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2005116586A priority Critical patent/JP4817702B2/ja
Priority claimed from JP2005116586A external-priority patent/JP4817702B2/ja
Priority to EP06007718A priority patent/EP1712955B1/en
Priority to US11/402,059 priority patent/US7771065B2/en
Priority to KR1020060033401A priority patent/KR100791161B1/ko
Publication of JP2006295023A publication Critical patent/JP2006295023A/ja
Publication of JP2006295023A5 publication Critical patent/JP2006295023A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4817702B2 publication Critical patent/JP4817702B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2005116586A 2005-04-14 2005-04-14 光学装置及びそれを備えた露光装置 Expired - Fee Related JP4817702B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005116586A JP4817702B2 (ja) 2005-04-14 2005-04-14 光学装置及びそれを備えた露光装置
EP06007718A EP1712955B1 (en) 2005-04-14 2006-04-12 Optical unit and exposure apparatus having the same
US11/402,059 US7771065B2 (en) 2005-04-14 2006-04-12 Optical unit and exposure apparatus having the same
KR1020060033401A KR100791161B1 (ko) 2005-04-14 2006-04-13 광학장치 및 그것을 구비한 노광장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005116586A JP4817702B2 (ja) 2005-04-14 2005-04-14 光学装置及びそれを備えた露光装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006295023A JP2006295023A (ja) 2006-10-26
JP2006295023A5 true JP2006295023A5 (enExample) 2008-05-15
JP4817702B2 JP4817702B2 (ja) 2011-11-16

Family

ID=36744159

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005116586A Expired - Fee Related JP4817702B2 (ja) 2005-04-14 2005-04-14 光学装置及びそれを備えた露光装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7771065B2 (enExample)
EP (1) EP1712955B1 (enExample)
JP (1) JP4817702B2 (enExample)
KR (1) KR100791161B1 (enExample)

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002277736A (ja) * 2001-03-21 2002-09-25 Olympus Optical Co Ltd 撮像装置
JP4817702B2 (ja) 2005-04-14 2011-11-16 キヤノン株式会社 光学装置及びそれを備えた露光装置
US7633630B2 (en) * 2006-08-09 2009-12-15 Northrop Grumman Corporation Image amplifying, servo-loop controlled, point diffraction interometer
JP2008112756A (ja) * 2006-10-27 2008-05-15 Canon Inc 光学素子駆動装置及びその制御方法、露光装置、並びにデバイス製造方法
US8044373B2 (en) * 2007-06-14 2011-10-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2009004509A (ja) 2007-06-20 2009-01-08 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
US7664159B2 (en) * 2007-07-31 2010-02-16 Coherent, Inc. Thermal distortion compensation for laser mirrors
NL1036305A1 (nl) 2007-12-21 2009-06-23 Asml Netherlands Bv Grating for EUV-radiation, method for manufacturing the grating and wavefront measurement system.
NL1036543A1 (nl) 2008-02-20 2009-08-24 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus comprising a magnet, method for the protection of a magnet in a lithographic apparatus and device manufacturing method.
DE102008049616B4 (de) * 2008-09-30 2012-03-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen
EP2219077A1 (en) 2009-02-12 2010-08-18 Carl Zeiss SMT AG Projection exposure method, projection exposure system and projection objective
DE102009009221A1 (de) 2009-02-17 2010-08-26 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Aktuatorsystem
JP5511199B2 (ja) 2009-02-25 2014-06-04 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
KR20120020135A (ko) * 2009-04-27 2012-03-07 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 장치 및 방법
KR102262448B1 (ko) 2013-01-28 2021-06-09 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 장치를 위한 방사선 소스, 거울 및 투영 시스템
JP2014225639A (ja) * 2013-04-16 2014-12-04 キヤノン株式会社 ミラーユニット及び露光装置
TW201443479A (zh) * 2013-05-09 2014-11-16 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 微機電系統鏡片及微機電系統反射裝置
JP6168957B2 (ja) * 2013-09-30 2017-07-26 キヤノン株式会社 光学装置、投影光学系、露光装置および物品の製造方法
JP6336274B2 (ja) * 2013-12-25 2018-06-06 キヤノン株式会社 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法
JP6293024B2 (ja) * 2014-09-10 2018-03-14 株式会社ニューフレアテクノロジー 試料高さ検出装置およびパターン検査システム
JP6365156B2 (ja) * 2014-09-11 2018-08-01 株式会社デンソー ３次元形状作成装置
DE102015106184B4 (de) * 2015-04-22 2021-09-02 Friedrich-Schiller-Universität Jena Verfahren zur Formgebung und/oder Formkorrektur mindestens eines optischen Elements
CN105093848B (zh) * 2015-08-06 2018-01-16 武汉华星光电技术有限公司 一种曝光设备
JP6742717B2 (ja) * 2015-12-10 2020-08-19 キヤノン株式会社 光学装置、それを備えた露光装置、および物品の製造方法
KR102720372B1 (ko) * 2015-12-15 2024-10-23 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 리소그래피 장치용 광학 디바이스 및 리소그래피 장치
JP2017129685A (ja) 2016-01-19 2017-07-27 キヤノン株式会社 光学装置、投影光学系、露光装置およびデバイス製造方法
JP6866131B2 (ja) * 2016-01-27 2021-04-28 キヤノン株式会社 光学装置、それを備えた露光装置、および物品の製造方法
JP2018013510A (ja) * 2016-07-19 2018-01-25 キヤノン株式会社 光学装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法
DE102016219334A1 (de) * 2016-10-06 2017-08-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Anordnung und lithographieanlage
JP6598827B2 (ja) * 2017-08-01 2019-10-30 キヤノン株式会社 光学装置、これを用いた露光装置、および物品の製造方法
US11143965B2 (en) * 2019-04-30 2021-10-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Optical lithography system for patterning semiconductor devices and method of using the same
DE102020210026A1 (de) 2020-08-07 2022-02-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit Temperiervorrichtung
DE102020210773B4 (de) * 2020-08-26 2024-04-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Baugruppe, Verfahren zur Ansteuerung einer optischen Baugruppe und Projektionsbelichtungsanlage
DE102021205368A1 (de) 2021-05-27 2022-12-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Komponente für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie und Verfahren zur Auslegung der Komponente
US12055788B2 (en) * 2021-06-28 2024-08-06 Coherent, Inc. Thermally actuated adaptive optics
JP7589188B2 (ja) * 2022-02-28 2024-11-25 キヤノン株式会社 計測装置、計測方法、リソグラフィ装置及び物品の製造方法
CN114859551B (zh) * 2022-05-19 2023-07-14 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种反射式色散系统主动像差校正系统及校正方法
DE102023204312A1 (de) * 2023-05-10 2024-11-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Baugruppe

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4744675A (en) 1986-01-21 1988-05-17 Canon Kabushiki Kaisha Moving mechanism
US4844603A (en) * 1987-12-24 1989-07-04 United Technologies Corporation Cooled flexible mirror arrangement
US4993823A (en) * 1989-06-29 1991-02-19 Eastman Kodak Company Method for correction of distortions of an imaging device
JP3266515B2 (ja) 1996-08-02 2002-03-18 キヤノン株式会社 露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置
US6028376A (en) 1997-04-22 2000-02-22 Canon Kabushiki Kaisha Positioning apparatus and exposure apparatus using the same
US7112772B2 (en) 1998-05-29 2006-09-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective with adaptive mirror and projection exposure method
JP4146952B2 (ja) 1999-01-11 2008-09-10 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
US6236490B1 (en) 2000-01-05 2001-05-22 The B. F. Goodrich Company Dual stage deformable mirror
US6398373B1 (en) 2000-08-09 2002-06-04 Asml Us, Inc. Pneumatic control system and method for shaping deformable mirrors in lithographic projection systems
JP4612777B2 (ja) 2001-03-09 2011-01-12 キヤノン株式会社 移動案内装置、それを用いた露光装置及び半導体デバイス製造方法
DE10151919B4 (de) * 2001-10-20 2007-02-01 Carl Zeiss Smt Ag Belichtungsobjektiv in der Halbleiterlithographie
DE10219514A1 (de) * 2002-04-30 2003-11-13 Zeiss Carl Smt Ag Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie
US6989922B2 (en) * 2002-06-21 2006-01-24 Nikon Corporation Deformable mirror actuation system
JP4565261B2 (ja) * 2002-06-24 2010-10-20 株式会社ニコン 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
US6840638B2 (en) * 2002-07-03 2005-01-11 Nikon Corporation Deformable mirror with passive and active actuators
US6842277B2 (en) 2002-07-23 2005-01-11 Nikon Corporation Deformable mirror with high-bandwidth servo for rigid body control
JP4218278B2 (ja) 2002-07-31 2009-02-04 ソニー株式会社 情報処理システム、情報処理装置、情報処理方法、画像処理装置、画像処理方法、およびプログラム
JP2004103740A (ja) * 2002-09-06 2004-04-02 Canon Inc 露光装置
WO2004057407A1 (en) * 2002-12-23 2004-07-08 Bae Systems Plc Deformable mirror
JP4311711B2 (ja) * 2003-02-24 2009-08-12 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
JP2004286823A (ja) * 2003-03-19 2004-10-14 Fuji Xerox Co Ltd 光偏向器及びこの光偏向器を備えた光走査装置
EP1513018A1 (en) * 2003-09-04 2005-03-09 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4817702B2 (ja) 2005-04-14 2011-11-16 キヤノン株式会社 光学装置及びそれを備えた露光装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006295023A5 (enExample)
JP5687251B2 (ja) 位置測定システム、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
JP2008199034A5 (enExample)
JP2005175255A5 (enExample)
TWI284359B (en) Lithographic apparatus, an apparatus comprising an illumination system, an apparatus comprising a projection system, an optical element for a lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2011013681A5 (enExample)
JP2015070214A5 (enExample)
JP2009182253A5 (enExample)
JP2012244015A (ja) 露光装置およびデバイス製造方法
JP2009105097A5 (enExample)
JP2012500484A (ja) 投影システム、リソグラフィ装置、放射ビームをターゲット上に投影する方法およびデバイス製造方法
TW201530265A (zh) 載台定位系統及微影裝置
NL2022818A (en) Stage apparatus, lithographic apparatus, control unit and method
TW200848958A (en) Device manufacturing method, a lithographic apparatus and a computer program medium
JP2007078593A5 (enExample)
JP2013104869A (ja) 樹脂硬化収縮測定器
JP2008078499A5 (enExample)
JP2007316634A5 (enExample)
JP2008021748A5 (enExample)
JP2006261607A5 (enExample)
JP2010107735A5 (enExample)
JP2009038152A5 (enExample)
JP2005302825A5 (enExample)
JP2005268451A5 (enExample)
JP2008069890A5 (enExample)