DE102009009221A1 - Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Aktuatorsystem - Google Patents

Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Aktuatorsystem Download PDF

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Martin Mahlmann
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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310) mit einem Aktuatorsystem (1) zur mechanischen Aktuierung mindestens einer Komponente der Projektionsbelichtungsanlage, wobei das Aktuatorsystem (1) mindestens ein Mittel (2, 4, 6, 60) zur Reduzierung und/oder Dämpfung des Wärmeeintrags aufgrund der bei dem Betrieb des Aktuatorsystems (1) entstehenden Wärme in die mindestens eine Komponente (7) aufweist.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine mit einem Aktuatorsystem ausgestattete Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie. Das Aktuatorsystem kann dabei als Dämpfungssystem zur Reduzierung mechanischer Schwingungen ausgebildet sein. Die angesprochenen mechanischen Schwingungen führen dabei in der Regel zu Verschlechterungen der optischen Abbildungsqualität, die sich beispielsweise als Kontrastverlust manifestieren und die Ausbeute an qualitativ einwandfreien Halbleitererzeugnissen verschlechtern. Beim Betrieb von Aktuatorsystemen ist es praktisch unvermeidlich, dass Wärme freigesetzt wird. Diese Wärme kann beispielsweise von elektronischen Komponenten des Aktuatorsystems wie beispielsweise Verstärkern herrühren oder auch von mechanischen Komponenten der Aktuatorik als unerwünschter Nebeneffekt erzeugt werden. Das Auftreten von Wärme im System und insbesondere das Auftreten von Wärmegradienten wirkt sich nachteilig auf das System aus; so kann es im Fall einer Projektionsbelichtungsanlage ebenfalls eine Verschlechterung der optischen Abbildungsqualität zur Folge haben.
  • Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie anzugeben, die ein verbessertes Wärmemanagement zeigt.
  • Diese Aufgabe wird gelöst durch die Projektionsbelichtungsanlage mit den in Anspruch 1 angegebenen Merkmalen. Die Unteransprüche beziehen sich auf vorteilhafte Ausführungsformen und Varianten der Erfindung.
  • Die erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie weist ein Aktuatorsystem zur mechanischen Aktuierung mindestens einer Komponente der Projektions belichtungsanlage sowie mindestens ein Mittel zur Reduzierung des Wärmeeintrags aufgrund der bei dem Betrieb des Aktuatorsystems entstehenden Wärme in die mindestens eine Komponente auf. Mit anderen Worten dienen die genannten Mittel dazu, die Abwärme des Aktuatorsystems aus der Umgebung der aktuierten Komponente abzuführen oder – als Variante – zu bewirken, dass die beim Betrieb des Aktuatorsystems praktisch unvermeidbar entstehende Wärme nicht in der unmittelbaren Umgebung der Komponente, sondern außerhalb der Umgebung der Komponente freigesetzt wird.
  • In beiden Fällen hat die Erfindung die Wirkung, dass die Umgebung der aktuierten Komponente im Vergleich zum Stand der Technik einer reduzierten Erwärmung ausgesetzt ist. Insbesondere in den Fällen, in denen es sich bei der Komponente um ein im Inneren eines Projektionsobjektives angeordnetes optisches Element handelt, ist diese Maßnahme vorteilhaft, da die Erwärmung eines optischen Elements oder auch von Teilen einer Fassung eines optischen Elements in der Regel zu einer Änderung der optischen Eigenschaften des optischen Elements und damit zu Abbildungsfehlern des zugehörigen Projektionsobjektives führt.
  • Umgekehrt führt die erfindungsgemäße Maßnahme dazu, dass aufgrund der Verminderung des Wärmeeintrags mit vergleichsweise hohen Leistungen aktuiert werden kann. Damit wird erreicht, dass die Aufgaben des Aktuatorsystems, beispielsweise das Anfahren einer bestimmten Position einer Komponente oder das schnelle Dämpfen unerwünschter Schwingungen mit einer gegenüber dem Stand der Technik erhöhten Geschwindigkeit erreicht werden kann. Daneben erlaubt es die erfindungsgemäße Maßnahme, gegenüber dem Stand der Technik höhere Kräfte aufzubringen.
  • Die angesprochene störende Erwärmung des Aktuatorsystems kann beispielsweise durch die Aktuatoren selbst, beispielsweise durch Piezoelemente, oder auch durch integriert mit dem Aktuatorsystem ausgebildete elektronische Komponenten, wie beispielsweise Verstärker, verursacht werden.
  • Dabei können die genannten Mittel zum Vorbeitransport von einem Fluid an erwärmten Bereichen des Aktuatorsystems geeignet sein. So können die Mittel beispielsweise als von dem Fluid durchströmte Leitungen, beispielsweise in einem Körper ausgebildet sein, der mit der Komponente in thermischem Kontakt steht. Bei dem Fluid kann es sich insbesondere um eine Flüssigkeit wie Wasser oder Rizinusöl oder auch um ein Gas, wie beispielsweise Stickstoff oder Luft, handeln. Das vorbeiströmende Fluid nimmt dann die Abwärme des Aktuatorsystems auf und führt diese in einen Bereich ab, wo sie ohne nachteilige Folgen für die Abbildungsqualität des übergeordneten Systems freigesetzt werden kann. So kann beispielsweise im Falle einer Anwendung der Erfindung in einem Projektionsobjektiv für die Halbleiterlithographie ein Flüssigkeits- oder Gasstrom zunächst an dem zu kühlenden Bereich des Aktuatorsystems vorbeigeführt werden, um anschließend durch die Wandung des Objektivgehäuses nach außen geführt zu werden, wo es die Abwärme an die in der Regel ohnehin vorhandene Kühlvorrichtung des Objektivgehäuses – den so genannten „Lens Cooler” – abgibt. Eine Anpassung der Kühlungsleistung der oben beschriebenen Fluidkühlung kann beispielsweise dadurch erfolgen, dass die an dem erwärmten Bereich vorbeiströmende Fluidmenge pro Zeiteinheit und/oder die Vorlauftemperatur des Fluides entsprechend angepasst wird.
  • Die Erfindung ist dabei nicht darauf beschränkt, dass das kühlende Fluid in Leitungen an dem erwarteten Bereich des Aktuatorsystems vorbeiströmt, alternativ oder zusätzlich kann auch ein gerichteter Gasstrom, der mit den erwärmten Bereichen des Aktuatorsystems wechselwirkt, zur Anwendung kommen. Auch ein derartiger Gasstrom lässt sich wie im vorigen Absatz beschrieben zur Modifikation der Kühlungsleistung einstellen.
  • Ebenso kann es sich bei dem Mittel um ein mit erwärmten Bereichen des Aktuatorsystems in thermischem Kontakt stehendes Wärmetransportelement mit hoher Wärmeleitfähigkeit, insbesondere mit einer Wärmeleitfähigkeit von ca. 400 W/(m·K) oder darüber handeln. Ein derartiges Wärmetransportelement kann beispielsweise aus Kupfer oder auch als Wärmerohr gebildet sein und in direktem mechanischen und damit thermischen Kontakt mit dem erwärmten Bereich des Aktuatorsystems stehen und somit die Wärme aus der Umgebung des Aktuatorsystems abführen. Als Wärmesenke auf der dem Aktuatorsystem abgewandten Seite des Wärmetransportelementes kann beispielsweise ein Peltierelement verwendet werden. Ebenso kann – in analoger Weise wie vorstehend beschrieben – die dem Aktuatorsystem abgewandte Seite des Wärmetransportelementes in thermischem Kontakt mit dem oben beschriebenen Lens Cooler stehen. Das Wärmetransportelement selbst kann auch als mehrkomponentiger Körper ausgebildet sein, d. h. es könnte ein Element verwendet werden, das mit einem Medium hoher Wärmleitfähigkeit gefüllt ist. Hier kommen als Medien insbesondere Wasser oder Natrium in Frage.
  • Eine Minimierung des mechanischen Einflusses des Wärmetransportelementes auf das Aktuatorsystem kann dadurch erreicht werden, dass das Wärmetransportelement als Wärmeleitband, beispielsweise als Kupfergeflechtband, ausgebildet ist. Durch die geringe Steifigkeit eines derartigen Wärmeleitbandes werden mechanische Störungen des Aktuatorsystems und damit gegebenenfalls der aktuierten Komponente erheblich verringert. Daneben können auch starre Wärmeleitelemente, die mit mechanischen Entkopplungen wie z. B. Bälgen versehen sind, verwendet werden.
  • Oftmals wird die aktuierte Komponente als optisches Element ausgebildet sein, das in einer Innenfassung in einem Projektionsobjektiv angeordnet ist. Die Innenfassung selbst wird ihrerseits in einer Außenfassung gehalten. Die Außenfassung kann dabei als ringförmiger Körper ausgebildet sein, der zusammen mit anderen, ähnlich gestalteten Außenfassungen, das Objektivgehäuse bildet. Die beschriebenen Außenfassungen sind im Hinblick auf mechanische Störungen weniger kritisch zu sehen als die Innenfassungen, so dass ein mechanischer Kontakt mit einem Wärmetransportelement in diesem Fall weniger Anlass zu mechanischen Störungen gibt. In denjenigen Fällen, in denen also der erwärmte Bereich eines Aktuatorsystems an einer Außenfassung angeordnet ist, kann eine Kühlung dieses Bereiches durch direkten mechanischen Kontakt mit einem vergleichsweise starr ausgebildeten Wärmetransportelement erfolgen. Dabei kann das Wärmetransportelement wie bereits oben angesprochen auf seiner der Außenfassung abgewandten Seite zur Abfuhr der Wärme mit dem genannten Lens Cooler in thermischem Kontakt stehen.
  • Eine mögliche Ausführungsform des Aktuatorsystems besteht darin, dass es als Dämpfungssystem ausgebildet ist. Derartige Dämpfungssysteme werden verwendet, um mechanische Anregungen wie beispielsweise Schwingungen, die zu einer Verringerung der Abbildungsqualität beispielsweise eines Projektionsobjektives führen könnten, zu unterdrücken bzw. die genannten Schwingungen schnell zum Abklingen zu bringen. Dabei sind oftmals die Grenzen zwischen einem Aktuatorsystem zur Positionierung einer Komponente und einer Ausbildung des Aktuatorsystems als Dämpfungssystem fließend; insbesondere kann ein Positionierungssystem mit einer genügend hohen Regelungsbandbreite als Dämpfungssystem zur Dämpfung unerwünschter Schwingungen verändert werden. In einer vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung kann das Dämpfungselement mittels Piezoelementen, insbesondere als Aktuator in der Art des in der deutschen Offenlegungsschrift DE 100 225 266 A1 beschriebenen Piezoaktuators, der als Piezokrabbler bezeichnet wird, realisiert werden. In der genannten Schrift ist ein Aktuator beschrieben, bei dem der Aktuatorläufer (also der bewegte Teil des Aktuators, der in der Regel auf die zu manipulierende bzw. zu positionierende Komponente wirkt) über ein oder mehrere als Piezoelemente realisierte Vorschubelemente (”Füße”) vorangetrieben wird, die senkrecht zum Läufer stehen. Dabei bewegen sich die Vorschubelemente senkrecht zu ihrer eigenen Längsrichtung in Läuferrichtung. Dabei lässt sich der beschriebene Aktuator in einem Modus betreiben, in dem die Vorschubelemente auf dem Aktuatorläufer verbleiben, anstatt den Läufer durch Aufsetzen, Vorschieben und Zurückziehen zu bewegen. Diese Variante eröffnet die Möglichkeit, einen Aktuator, der auch zur Positionsmanipulation eines optischen Elementes verwendet werden kann, in ei nem alternativen oder zusätzlichen Betriebsmodus als Schwingungsdämpfer zu verwenden. Der Vorteil insbesondere der Verwendung von Piezoelementen liegt hierbei darin, dass diese eine vergleichsweise hohe Bandbreite, üblicherweise im Bereich von 0 bis 2000 Hz besitzen.
  • Alternativ kann das Aktuatorsystem auch eine Tauchspule aufweisen. Dabei kann die Tauchspule in der Weise eingesetzt werden, dass das von ihr im Fall einer Schwingung des Systems erzeugte Ausgangssignal invertiert, phasenverschoben und verstärkt der Tauchspule wieder zugeführt wird. Auf diese Weise lässt sich beispielsweise eine effiziente Dämpfungsfunktionalität realisieren. Dadurch, dass die oben angesprochenen Mittel zum Einsatz kommen, ergibt sich eine höhere Designfreiheit hinsichtlich der elektronischen Komponenten, die zur Verstärkung, Inversion und Phasenverschiebung des Ausgangssignals der Tauchspule verwendet werden. Entsprechendes gilt für alternative aktive Aktuatorsysteme. Ein weiterer Vorteil der angesprochenen Lösung liegt dabei darin, dass sich damit die gesamte zum Betrieb des Aktuatorsystems erforderliche Elektronik in der unmittelbaren Nähe des Aktuatorsystems integrieren lässt, so dass sich die Zahl und Komplexität der Schnittstellen gegenüber einem übergeordneten System wie beispielsweise einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie wirksam begrenzen lässt; in ähnlicher Weise ist auch die Verwendung einer Wirbelstrombremse denkbar.
  • Insbesondere in denjenigen Fällen, in denen die optische Komponente in einem Projektionsobjektiv angeordnet ist, kann das Dämpfungssystem als eine außen am Objektivgehäuse angeordnete Gegenschwingmasse mit Dämpfer ausgebildet sein. Im Fall einer mechanischen Anregung der optischen Komponente, also beispielsweise einer Schwingungsanregung, wird aufgrund der mechanischen Ankopplung der Gegenschwingmasse über das Objektivgehäuse auch die Gegenschwingmasse angeregt, also beispielsweise in Schwingungen versetzt. Diese Schwingungen können dann mittels des Dämpfers gedämpft werden, wobei sich im Ergebnis auch eine Dämpfung der Schwingung der optischen Komponenten ergibt. Dadurch, dass die mechanische Schwingungsenergie im geschilderten Fall außerhalb des Objektivgehäuses als Wärmeenergie dissipiert, kann wirkungsvoll vermieden werden, dass sich die im Hinblick auf die Abbildungsqualität des Systems sensible Bereiche in der unmittelbaren Umgebung der optischen Komponente oder die optische Komponente selbst erwärmen bzw. erwärmt. Daneben führt diese Variante der Erfindung dazu, dass im Hinblick auf die konstruktive Auslegung des Dämpfungs- und gegebenenfalls eines Steuerungs-/Regelungssystems geringere Anforderungen an den Bauraum gestellt werden; d. h. die zur Dämpfung verwendeten Komponenten sind im Hinblick auf ihre Größe und auch auf ihre Wärmeentwicklung erheblich geringeren Restriktionen unterworfen, als es bei einem Einbau im Inneren des Objektivgehäuses der Fall wäre. Auch in diesem Fall kann zum Abführen der anfallenden Wärmeenergie der Lens Cooler verwendet werden.
  • Als weitere Variante der Erfindung ist denkbar, dass der erwärmte Bereich des Aktuatorsystems mit einem Körper hoher spezifischer Wärmekapazität z. B. einem Kupferbehälter mit Wasser- oder Glycerinfüllung oder einem Verbundwerkstoff aus Kupfer und Kunststoff, bei dem das Kupfer die Wärme in den wärmespeichernden Kunststoff leitet, in thermischem Kontakt steht. Dabei kann insbesondere der erwärmte Bereich des Aktuatorsystems von dem genannten Körper mindestens teilweise ummantelt sein. Diese Maßnahme hat die Wirkung, dass aufgrund des thermischen Kontaktes des Körpers mit dem erwärmten Bereich des Aktuatorsystems einerseits der Temperaturanstieg des Gesamtsystems aus dem erwärmtem Bereich und dem Körper hoher spezifischer Wärmekapazität langsamer erfolgt, als dies ohne den genannten Körper der Fall wäre. Zusätzlich wird auch die Spitzentemperatur, die das System erreicht, gegenüber dem Fall ohne den genannten Körper verringert. Mit anderen Worten wirkt der genannte Körper als thermischer Kondensator, was einige Vorteile im Hinblick auf die Steuerung-/Regelung der Temperierung mit sich bringt. Insbesondere kann aufgrund der geringeren zeitlichen Gradienten der Temperaturänderung eine Steuerung-/Regelung mit einer geringeren Bandbreite verwendet werden, als es ohne die genannte Maßnahme erforderlich wäre. Die hohe spezifische Wärmekapazität kann dabei dadurch erreicht werden, dass der Körper einen Hohlraum aufweist, der mit Wasser gefüllt ist. Daneben kann – insbesondere für Anwendungen im Vakuum wie z. B. bei einem Einsatz des erfindungsgemäßen Aktuatorsystems in einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage – der Körper als massiver Stahlkörper ausgebildet sein, um die durch den Körper verursachte Kontamination sonstiger Systemkomponenten zu minimieren. Um die Wärmeabgabe des Körpers beispielsweise im Vakuum zu optimieren, kann die Farbgebung des Körpers entsprechend gewählt werden. Dabei können insbesondere diejenigen Bereiche des Körpers, die der zu aktuierenden Komponente abgewandt sind, mit einer Oberflächenstruktur, beispielsweise einer Beschichtung oder Lackierung, versehen werden, die eine maximale Wärmeabgabe des Körpers durch Strahlung ermöglicht.
  • Im Extremfall kann durch die Verwendung des genannten Körpers auf eine aktiv geregelte Temperierung verzichtet werden. Dadurch, dass durch die genannte Kondensatorwirkung große Temperaturgradienten vermieden werden, kann es genügen, lediglich den durch die Freisetzung von Wärme entstandenen Offset in der Justage der Komponenten durch die vorhandenen Aktuatoren auszugleichen.
  • Eine weitere Ausführungsform der Erfindung besteht darin, dass eine Steuerungs-/Regelungseinheit vorhanden ist, durch welche die Mittel zur Reduzierung des Wärmeeintrags angesteuert werden können. Die Steuerungs-/Regelungseinheit kann dabei mit Beschleunigungssensoren verbunden und geeignet sein, anhand der von den Beschleunigungssensoren ermittelten Parameter die Mittel zur Reduzierung des Wärmeeintrags anzusteuern. Derartige Beschleunigungssensoren können beispielsweise an einer optischen Komponente angebracht sein. Im Unterschied zur Messung eines Weges hat die Verwendung von Beschleunigungssensoren den Vorteil, dass bevorstehende Auslenkungen von Systemkomponenten wie beispielsweise Schwingungen mit einem gewissen zeitlichen Vorlauf detektiert werden können, so dass für eine Einstellung der entsprechenden Stellgrößen wie beispielsweise Durchfluss menge oder Temperatur eines Fluids mehr Zeit verbleibt. Hierdurch wird die Reaktionsgeschwindigkeit der Regelung erheblich verbessert.
  • Ferner kann die Steuerungs-/Regelungseinheit mit einer weiteren Steuerungs-/Regelungseinheit der Projektionsbelichtungsanlage verbunden oder als Teil dieser ausgebildet und in der Weise ausgelegt sein, dass die Mittel zur Reduzierung des Wärmeeintrags anhand bevorstehender Systemereignisse angesteuert werden können. So kann beispielsweise die Steuerungs-/Regelungseinheit der Projektionsbelichtungsanlage im Falle eines bevorstehenden Resets der Anlage ein entsprechendes Signal an die Steuerungs-/Regelungseinheit, mit der die Mittel angesteuert werden, übermitteln. Üblicherweise werden im Rahmen eines derartigen Resets praktisch sämtliche Aktuatorsysteme der Projektionsbelichtungsanlage angesteuert und führen Bewegungen aus, die teilweise über den gesamten möglichen Bewegungsbereich der Aktuatorsysteme gehen. Dies führt dazu, dass in erhöhtem Maße Schwingungen in das System induziert werden. Im Vorgriff auf eine derartige Maßnahme kann dann die Temperierung bereits vorab entsprechend angepasst werden, so dass die Effektivität des Temperiersystems weiter erhöht wird. Dabei kommen als Systemereignisse neben dem bereits angesprochenen Reset auch Ereignisse wie beispielsweise eine bevorstehende Bewegung einer Waferstage oder einer Reticlestage in Frage.
  • Eine Ausbildung des Aktuatorsystems als Dämpfungssystem mit einem passiven und einem aktiven Dämpfungselement hat den Vorteil, dass durch das passive Dämpfungselement ein gewisser Sockelbetrag der mechanischen Schwingungsenergie dissipiert wird. Die noch verbleibende Schwingungsenergie kann dann von dem aktiven Dämpfungselement geregelt bzw. gesteuert gedämpft werden. Hierdurch kann die von der Elektronik des aktiven Dämpfungselementes freigesetzte Wärme erheblich reduziert werden.
  • Nachfolgend wird die Erfindung anhand der Zeichnung erläu tert.
  • Es zeigen:
  • 1 eine erste Ausführungsform der Erfindung,
  • 2 ein Diagramm, bei dem die Temperatur an einem Punkt des Aktuatorsystems gegenüber der Zeit t aufgetragen ist,
  • 3 eine weitere Variante der Erfindung, bei welcher anstatt einer Fluidkühlung ein Wärmetransportelement zur Anwendung kommt,
  • 4 eine Ausführungsform der Erfindung, bei welcher die Schwingungsenergie eines optischen Elements nicht im Inneren eines Objektivgehäuses, sondern außerhalb in Wärmeenergie dissipiert wird,
  • 5 eine Variante der Erfindung, bei welcher zusätzlich ein passiver Schwingungstilger als passives Dämpfungselement zur Anwendung kommt; und
  • 6 eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie, in welcher das erfindungsgemäße Aktuatorsystem zur Anwendung kommt.
  • 1 zeigt eine erste Ausführungsform der Erfindung. Das Aktuatorsystem 1 zeigt dabei den Läufer 12, auf den die Piezoanordnung 11 einwirkt. Die Piezoanordnung 11 kann dabei als eine Kombination aus Scher- und Hubpiezos, wie in der deutschen Patentanmeldung DE 100 225 266 A1 beschrieben, ausgebildet sein. Der Läufer 12 ist dabei mit der Innenfassung 9 verbunden, in welcher die im vorliegenden Beispiel als optisches Element 7 ausgebildete Komponente angeordnet ist. Die Piezoanordnung 11 ist mit dem Kühlkörper 6 versehen, welcher seinerseits die Fluidkanäle 2 aufweist. Die Baueinheit aus Piezoanordnung 11, Kühlkörper 6 und Fluidkanälen 2 ist ihrerseits an der Außenfassung 15 angeordnet. Durch die Außenfassung 15 geführt sind die Fluidleitungen 3, durch welche das zur Kühlung des Aktuatorsystems 1 verwendete Fluid mittels der Pumpe 4 gefördert wird. Bei dem Fluid kann es sich beispielsweise um Wasser, Rizinusöl, Stickstoff oder auch Luft handeln. Aus 1 wird erkennbar, dass das Fluid dem Lens Cooler 5 zugeführt wird, wo es die von dem Aktuatorsystem 1 aufgenommene Wärme abgibt. Der Lens Cooler 5 ist dabei eine Temperiereinheit, die zur Kühlung eines Objektivgehäuses von außen dient. Das in 1 nicht dargestellte Objektivgehäuse wird üblicherweise von aufeinander geschraubten Außenfassungen in der Art der in 1 dargestellten Außenfassung 15 gebildet. Die Pumpe 4 ist mittels der Signalleitung 51 mit der Steuerungs-/Regelungseinheit 30 verbunden, welche ihrerseits mit dem auf der Innenfassung 9 angeordneten Beschleunigungssensor 20 durch die Signalleitung 50 in Verbindung steht. Wenn also durch den Beschleunigungssensor 20 bestimmte, erhöhte Beschleunigungswerte ermittelt werden, kann die Steuerungs-/Regelungseinheit die Pumpe 4 in der Weise ansteuern, dass die Durchflussmenge des Fluids durch den Kühlkörper 6 erhöht wird und somit die Kühlungsleistung bereits im Vorgriff auf die zu erwartende verstärkte Erwärmung des Aktuatorsystems 1 erhöht wird. In analoger Weise kann – getriggert durch ein entsprechendes Signal der Steuerungs-/Regelungseinheit des gesamten Systems 40 – im Vorfeld bestimmter Systemereignisse wie beispielsweise eines Resets eine entsprechende Ansteuerung der Pumpe 4 vorgenommen werden. Hierzu sind die beiden Steuerungs-/Regelungseinheiten 30 und 40 über die Signalleitung 52 verbunden. Gut erkennbar in 1 ist, wie das an dem Aktuatorsystem 1 vorbeiströmende Fluid die Abwärme des Aktuatorsystems 1 aufnimmt und diese dann in einen Bereich abführt, wo sie ohne nachteilige Folgen für die Abbildungsqualität des übergeordneten Systems freigesetzt werden kann.
  • Im Bereich der Piezoanordnung 11 ist ferner ein Körper 60 angeordnet, der eine hohe spezifische Wärmekapazität aufweist und in der Art eines thermischen Kondensators wirkt. Dabei kann der genannte Körper 60 beispielsweise als wassergefülltes Element realisiert sein. Ferner kann – alternativ zu der Darstellung in 1 – der Körper 60 in unmittelbarem thermischen Kontakt zu dem Kühlkörper 6 stehen oder selbst als Kühlkörper realisiert sein.
  • Die Wirkung des Körpers 60 ist anhand der 2 verdeutlicht. 2 zeigt ein Diagramm, bei dem die Temperatur T an einem Punkt des Aktuatorsystems 1 gegenüber der Zeit t aufgetragen ist. Dabei repräsentiert die gestrichelte Kurve den Fall ohne Körper 60, die durchgezogene Kurve den Fall, in dem der Körper 60 Verwendung findet. Deutlich erkennbar in 2 ist, dass der Temperaturverlauf im Fall der Verwendung des Körpers 60 erheblich flacher verläuft als es ohne eine Verwendung des Körpers 60 der Fall wäre. Ein flacherer Verlauf der Temperatur über der Zeit ist jedoch regelungstechnisch vorteilhaft, insbesondere weil die Gefahr eines Überschwingens der Regelung hierdurch verringert wird.
  • In 3 ist eine weitere Variante der Erfindung dargestellt, bei welcher anstatt einer Fluidkühlung ein Wärmetransportelement 70 zur Anwendung kommt. Das Wärmetransportelement 70 ist dabei als ein Körper aus einem Material mit hoher Wärmeleitfähigkeit realisiert, welcher an seinem ersten Ende mit dem Aktuatorsystem 1 in thermischem Kontakt steht und durch die Außenfassung 15 hindurch in Richtung des Lens Coolers 5 durchgeführt ist. Dabei steht das Wärmetransportelement 70 an seinem dem Aktuatorsystem 1 abgewandten zweiten Ende mit dem Lens Cooler 5 in thermischem Kontakt und führt so die im Aktuatorsystem 1 erzeugte Wärme über den Lens Cooler 5 ab. Zur Verbesserung der Wärmeleitfähigkeit des Wärmetransportelements 70 kann dieses auch als Verbundstruktur, beispielsweise als metallischer Körper mit Natriumfüllung, ausgebildet sein. Da im vorliegenden Beispiel der thermische Kontakt des Wärmetransportelements 70 mit dem Aktuatorsystem 1 in der Weise realisiert ist, dass das Wärmetransportelement 70 und das Aktuatorsystem 1 mit den erwärmten Bereichen an der Außenfassung angeordnet sind, ist die Wahrscheinlichkeit mechanischer Störungen des optischen Elements 7, die von dem Wärmetransportelement 70 herrühren könnten, verringert, da das optische Element 7 über die Innenfassung 9 mechanisch weitgehend von der Außenfassung 15 entkoppelt ist.
  • 4 zeigt eine Ausführungsform der Erfindung, bei welcher die Schwingungsenergie eines optischen Elements 7 nicht im Inneren eines Objektivgehäuses, sondern außerhalb in Wärmeenergie dissipiert wird. Aus der schematischen Darstellung in 4 geht hervor, dass das optische Element 7 über die Außenfassung 15 an eine Gegenschwingmasse 80 mechanisch angekoppelt ist. Die mechanische Kopplung wird dabei durch die angedeuteten Federn 90 bzw. 91 symbolisiert. Bei einer Schwingung des optischen Elements 7 in Richtung des Doppelpfeils 200 wird über die genannte mechanische Ankopplung in die Gegenschwingmasse 80 ebenfalls eine Schwingung in Richtung des Doppelpfeils 210 induziert. Die Parameter dieser Schwingung werden von dem Schwingungssensor 130 aufgenommen; bei den genannten Parametern kann es sich beispielsweise um Geschwindigkeit, Beschleunigung oder auch Auslenkung handeln. Der Schwingungssensor 130 steht mit der Regelungseinheit 110 über die Signalleitung 122 derart in Verbindung, dass die erfassten Parameter des Schwingungssensors 130 der Regelungseinheit 110 übermittelt werden. Auf Basis der genannten Parameter legt die Regelungseinheit 110 ein Steuersignal fest, das über die Steuerleitung 121 an den Aktuator 100 übertragen wird, der seinerseits mechanisch auf die Gegenschwingmasse 80 einwirkt und die Schwingung der Gegenschwingmasse 80 dämpft. Somit wird über die oben bereits beschriebene mechanische Ankopplung auch die Schwingung des optischen Elements 7 wirksam gedämpft. Ein Aspekt der in 4 dargestellten Lösung besteht darin, dass die in Zusammenhang mit der Dämpfung der Schwingung des optischen Elements 7 entstehende Wärme nicht im Inneren des durch eine Vielzahl von Außenfassungen gebildeten Objektivgehäuses entsteht, sondern außerhalb eines derartigen Objektivgehäuses freigesetzt wird. Hierdurch ergeben sich verbesserte Möglichkeiten, die genannte Wärme abzufüh ren, ohne dass sie nachteilige Auswirkungen auf die Abbildungsqualität oder sonstige Betriebseigenschaften eines übergeordneten optischen Systems haben könnte.
  • 5 zeigt eine weitere Variante der Erfindung, bei welcher zusätzlich zu dem in den 3 gezeigten aktiven Aktuatorsystem 1 ein passiver Schwingungstilger 300 als passives Dämpfungselement zur Anwendung kommt. Im gezeigten Beispiel ist der Schwingungstilger 300 an der Innenfassung 9 angeordnet und trägt zur Dämpfung von Schwingungen der Innenfassung 9 bei. Im Ergebnis verringert sich derjenige Anteil der Dämpfung, welcher durch das aktive Dämpfungssystem in der Art des Aktuatorsystems 1 gedämpft werden muss, so dass insgesamt ein verringerter Steuerungs-/Regelungsaufwand für die aktive Dämpfung ausgelöst wird und sich die von der Elektronik des aktiven Dämpfungssystems freigesetzte Wärme erheblich vermindert. Die Anwendung des passiven Schwingungstilgers ist dabei nicht auf die in 5 gezeigte Ausführungsform der Erfindung beschränkt; sie kann grundsätzlich – neben der in 1 gezeigten Ausführungsform – auch in weiteren, in den Zeichnungen nicht dargestellten Varianten der Erfindung zur Anwendung kommen.
  • In 6 ist eine Projektionsbelichtungsanlage 310 für die Halbleiterlithographie dargestellt, in welcher das erfindungsgemäße Aktuatorsystem zur Anwendung kommt. Die Anlage dient zur Belichtung von Strukturen auf ein mit photosensitiven Materialien beschichtetes Substrat, welches im allgemeinen überwiegend aus Silizium besteht und als Wafer 320 bezeichnet wird, zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, wie z. B. Computerchips.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage 310 besteht dabei im wesentlichen aus einem Beleuchtungssystem 330, einer Einrichtung 340 zur Aufnahme und exakten Positionierung einer mit einer Struktur versehenen Maske, eines sogenannten Reticles 350, durch welches die späteren Strukturen auf dem Wafer 320 bestimmt werden, einer Einrichtung 360 zur Halterung, Bewegung und exakten Positionierung eben dieses Wafers 320 und einer Abbildungseinrichtung, nämlich einem Projektionsobjektiv 370, mit mehreren optischen Elementen 380, die über Fassungen 390 in einem Objektivgehäuse 400 des Projektionsobjektives 370 gelagert sind.
  • Das grundsätzliche Funktionsprinzip sieht dabei vor, dass die in das Reticle 350 eingebrachten Strukturen auf den Wafer 320 abgebildet werden; die Abbildung wird in der Regel verkleinernd ausgeführt.
  • Nach einer erfolgten Belichtung wird der Wafer 320 in Pfeilrichtung weiterbewegt, so dass auf demselben Wafer 320 eine Vielzahl von einzelnen Feldern, jeweils mit der durch das Reticle 350 vorgegebenen Struktur, belichtet wird. Aufgrund der schrittweisen Vorschubbewegung des Wafers 320 in der Projektionsbelichtungsanlage 310 wird diese häufig auch als Stepper bezeichnet.
  • Das Beleuchtungssystem 330 stellt einen für die Abbildung des Reticles 350 auf dem Wafer 320 benötigten Projektionsstrahl 410, beispielsweise Licht oder eine ähnliche elektromagnetische Strahlung, bereit. Als Quelle für diese Strahlung kann ein Laser oder dergleichen Verwendung finden. Die Strahlung wird in dem Beleuchtungssystem 330 über optische Elemente so geformt, dass der Projektionsstrahl 410 beim Auftreffen auf das Reticle 350 die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Durchmesser, Polarisation, Form der Wellenfront und dergleichen aufweist.
  • Über die Strahlen 410 wird ein Bild des Reticles 350 erzeugt und von dem Projektionsobjektiv 370 entsprechend verkleinert auf den Wafer 320 übertragen, wie bereits vorstehend erläutert wurde. Das Projektionsobjektiv 370 weist eine Vielzahl von einzelnen refraktiven, diffraktiven und/oder reflexiven optischen Elementen 380, wie z. B. Linsen, Spiegeln, Prismen, Abschlussplatten und dergleichen auf. Dabei kann eines oder mehrere der optischen Elemente mit einem Aktuatorsystem in der Art des in den 1, 3 oder 5 dargestellten Systems versehen sein.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
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Claims (20)

  1. Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310) mit einem Aktuatorsystem (1) zur mechanischen Aktuierung mindestens einer Komponente der Projektionsbelichtungsanlage, dadurch gekennzeichnet, dass das Aktuatorsystem (1) mindestens ein Mittel (60, 6, 2, 4) zur Reduzierung des Wärmeeintrags aufgrund der bei dem Betrieb des Aktuatorsystems (1) entstehenden Wärme in die mindestens eine Komponente (7) aufweist.
  2. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel (2, 6, 4) zum Vorbeitransport von einem Fluid an erwärmten Bereichen des Aktuatorsystems (1) geeignet sind.
  3. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel als von dem Fluid durchströmte Leitungen (2) ausgebildet sind.
  4. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei dem Fluid um eine Flüssigkeit wie Wasser oder Rizinusöl oder um ein Gas wie Stickstoff oder Luft handelt.
  5. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Fluid als Gasstrom ausgebildet ist, der mit den erwärmten Bereichen des Aktuatorsystems (1) wechselwirkt, insbesondere an den erwärmten Bereichen vorbeiströmt.
  6. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei dem Mittel um ein mit erwärmten Bereichen des Aktuatorsystems (1) in thermischem Kontakt stehendes Wärmetransportelement (70) mit einer Wärmeleitfähigkeit von ca. 400 W/(m·K) oder darüber handelt.
  7. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Wärmetransportelement (70) an seiner den erwärmten Bereichen des Aktuatorsystems (1) abgewandten Seite mit einem Kühlkörper (5) versehen ist.
  8. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach einem der Ansprüche 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Wärmetransportelement (70) als Wärmeleitband ausgebildet ist.
  9. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die erwärmten Bereiche des Aktuatorsystems (1) auf einer Außenfassung (15) eines in einem Projektionsobjektiv angeordneten optischen Elements (7) angeordnet sind und das Wärmetransportelement (70) durch das Objektivgehäuse nach außen hindurchgeführt ist.
  10. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Aktuatorsystem (1) als Dämpfungssystem ausgebildet ist.
  11. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Aktuatorsystem einen Piezokrabbler aufweist.
  12. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Aktuatorsystem (1) eine Tauchspule aufweist.
  13. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Aktuatorsystem (1) eine Wirbelstrombremse aufweist.
  14. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Komponente (7) in einem Projektionsobjektiv angeordnet ist und dass das Dämpfungssystem als eine außen am Objektivgehäuse angeordnete Gegenschwingmasse (80) mit Dämpfer (100) ausgebildet ist.
  15. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass der erwärmte Bereich des Aktuatorsystems (1) mit einem Körper (60) hoher spezifischer Wärmekapazität in thermischem Kontakt steht.
  16. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass eine Steuerungs-/Regelungseinheit (30) vorhanden ist, durch welche die Mittel (4) zur Reduzierung des Wärmeeintrags angesteuert werden können.
  17. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuerungs-/Regelungseinheit (30) mit mindestens einem Beschleunigungssensor (20) verbunden ist und geeignet ist, anhand der von dem Beschleunigungssensor (20) ermittelten Parameter die Mittel (4) zur Reduzierung des Wärmeeintrags anzusteuern.
  18. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach einem der Ansprüche 16 oder 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuerungs-/Regelungseinheit (30) mit einer weiteren Steuerungs-/Regelungseinheit (40) der Projektionsbelichtungsanlage verbunden oder als Teil dieser ausgebildet ist und in der Weise ausgelegt ist, dass die Mittel (4) zur Reduzierung des Wärmeeintrags anhand bevorstehender Systemereignisse angesteuert werden können.
  19. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass das Aktuatorsystem (1) als Dämpfungssystem ausgebildet ist und ein passives sowie ein aktives Dämpfungselement aufweist.
  20. Projektionsbelichtungsanlage (310) nach einem der Ansprüche 1–19, dadurch gekennzeichnet, dass das Aktuatorsystem (1) in einem Projektionsobjektiv (370) der Projektionsbelichtungsanlage (310) angeordnet ist.
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