JP2008078499A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008078499A5 JP2008078499A5 JP2006257737A JP2006257737A JP2008078499A5 JP 2008078499 A5 JP2008078499 A5 JP 2008078499A5 JP 2006257737 A JP2006257737 A JP 2006257737A JP 2006257737 A JP2006257737 A JP 2006257737A JP 2008078499 A5 JP2008078499 A5 JP 2008078499A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- movable body
- support device
- bearing
- sensor
- supported
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006257737A JP2008078499A (ja) | 2006-09-22 | 2006-09-22 | 支持装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
| US11/853,506 US7817251B2 (en) | 2006-09-22 | 2007-09-11 | Supporting apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006257737A JP2008078499A (ja) | 2006-09-22 | 2006-09-22 | 支持装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008078499A JP2008078499A (ja) | 2008-04-03 |
| JP2008078499A5 true JP2008078499A5 (enExample) | 2009-11-05 |
Family
ID=39224574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006257737A Pending JP2008078499A (ja) | 2006-09-22 | 2006-09-22 | 支持装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7817251B2 (enExample) |
| JP (1) | JP2008078499A (enExample) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5151989B2 (ja) * | 2006-11-09 | 2013-02-27 | 株式会社ニコン | 保持装置、位置検出装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
| JP5180555B2 (ja) * | 2007-10-04 | 2013-04-10 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP5122416B2 (ja) * | 2008-10-15 | 2013-01-16 | 東芝機械株式会社 | エアテーブル装置および軸受間隔修正方法 |
| CN101771995B (zh) | 2008-12-31 | 2013-02-27 | 华为技术有限公司 | 一种实现业务漫游的方法、装置和系统 |
| US8829740B2 (en) * | 2010-05-27 | 2014-09-09 | Rockwell Automation Technologies, Inc. | Sealed linear motor system |
| US10140320B2 (en) | 2011-02-28 | 2018-11-27 | Sdl Inc. | Systems, methods, and media for generating analytical data |
| US9984054B2 (en) | 2011-08-24 | 2018-05-29 | Sdl Inc. | Web interface including the review and manipulation of a web document and utilizing permission based control |
| US9916306B2 (en) * | 2012-10-19 | 2018-03-13 | Sdl Inc. | Statistical linguistic analysis of source content |
| WO2014080957A1 (ja) * | 2012-11-20 | 2014-05-30 | 株式会社ニコン | 露光装置、移動体装置、及びデバイス製造方法 |
| JP7465243B2 (ja) * | 2021-06-28 | 2024-04-10 | 日本電子株式会社 | ステージ装置および電子ビーム描画装置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3913150B2 (ja) * | 1994-05-19 | 2007-05-09 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| US6603531B1 (en) * | 2000-11-16 | 2003-08-05 | Nikon Corporation | Stage assembly including a reaction assembly that is connected by actuators |
| WO2004105105A1 (ja) | 2003-05-21 | 2004-12-02 | Nikon Corporation | ステージ装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
| JP4763228B2 (ja) * | 2003-05-23 | 2011-08-31 | キヤノン株式会社 | 電子ビーム露光装置用ステージ装置、位置決め方法、電子ビーム露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2005063167A (ja) * | 2003-08-13 | 2005-03-10 | Canon Inc | 位置決め装置及びその制御方法、並びに露光装置 |
| JP4455004B2 (ja) * | 2003-10-16 | 2010-04-21 | キヤノン株式会社 | 流体軸受装置およびそれを用いたステージ装置 |
| JP4307288B2 (ja) * | 2004-02-25 | 2009-08-05 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置 |
| JP2005294468A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2005303196A (ja) * | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置、半導体デバイスの製造方法 |
| US7321418B2 (en) * | 2004-10-14 | 2008-01-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
2006
- 2006-09-22 JP JP2006257737A patent/JP2008078499A/ja active Pending
-
2007
- 2007-09-11 US US11/853,506 patent/US7817251B2/en not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2006295023A5 (enExample) | ||
| JP2008078499A5 (enExample) | ||
| TW200732860A (en) | Lithographic apparatus and stage apparatus | |
| DE602008005847D1 (de) | Auslösungsvorrichtung für formgedächtnislegierung | |
| WO2009011356A1 (ja) | 計測方法、ステージ装置、及び露光装置 | |
| JP4990864B2 (ja) | 電磁モータにより対象物を位置決めするための方法、ステージ装置およびリソグラフィ装置 | |
| SG131056A1 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
| JP5127985B2 (ja) | アクチュエータおよび投影露光システム | |
| JP2009016820A (ja) | 制御システム、リソグラフィ投影装置、支持構造体を制御する方法、およびコンピュータプログラム製品 | |
| EP2669931B1 (en) | Driving system and driving method, light exposure device and light exposure method, and driving system designing method | |
| JP2012507173A5 (enExample) | ||
| JP6449875B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
| JP2009016385A5 (enExample) | ||
| NL2000045A1 (nl) | Geïntegreerde optische metrologie en lithografische proceslijn voor dynamische kritieke dimensieregeling. | |
| JP2008270491A5 (enExample) | ||
| TW200721258A (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
| WO2011039036A3 (en) | Optical system, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus | |
| JP6228878B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
| KR102151930B1 (ko) | 노광 장치, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및 디바이스 제조 방법 | |
| JP2008069890A5 (enExample) | ||
| JP2011124292A5 (enExample) | ||
| JP2006246570A5 (enExample) | ||
| JP2009021340A5 (enExample) | ||
| JP2008098311A5 (enExample) | ||
| TWI727733B (zh) | 曝光裝置、曝光方法、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法 |