CN114859551B - 一种反射式色散系统主动像差校正系统及校正方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种反射式色散系统主动像差校正系统，包括：光学元件，变形模式分析装置，光栅参数确定装置，面形变化参数确定装置以及校正反馈装置。其中所述光学元件包括：主动执行元件，设置在主动执行元件上的反射镜，以及贴合在所述反射镜上的光栅；所述主动执行元件可对所述反射镜施加执行力使所述反射镜以及贴合在所述反射镜上的光栅产生形变；本发明还公开了一种反射式色散系统主动像差校正校正方法。

Description

一种反射式色散系统主动像差校正系统及校正方法

技术领域

本发明涉及光学技术领域，特别涉及一种反射式色散系统主动像差校正系统及校正方法。

背景技术

非球面具有简化系统结构、改善成像质量等优点，已经在天文望远镜、空间相机等现代光学系统中得到广泛地应用。在这些应用中，成像的清晰度依赖于高质量的非球面镜，而非球面镜的制造精度需要依靠先进的加工技术和测量方法。

现阶段对非球面反射镜的应用已越来越广，例如利用在大口径的望远镜中，同时对该反射式色散系统的成像质量也要求越来越高。随着对光栅分辨率以及总损伤阈值的提高，下一代光栅无论是面向大口径地基望远镜，还是高能激光武器以及核聚变约束装置，其面积与刻划精度则越来越高。在现有的做法中，一般是通过光路设计的方式来进行色散系统的像差校正，使得整体反射式色散系统的系统复杂且稳定性不好。

发明内容

本发明旨在克服现有技术存在的缺陷，本发明采用以下技术方案：

一方面，本发明提供了一种反射式色散系统主动像差校正系统。该反射式色散系统主动像差校正系统包括：光学元件，变形模式分析装置，光栅参数确定装置，面形变化参数确定装置以及校正反馈装置。

所述光学元件包括：主动执行元件，设置在主动执行元件上的反射镜，以及贴合在所述反射镜上的光栅；所述主动执行元件可对所述反射镜施加执行力使所述反射镜以及贴合在所述反射镜上的光栅产生形变；

所述变形模式分析装置通过所述光学元件的变形量进行分析，建立输入力与所述光栅反射模式之间的关系；

所述光栅参数确定装置，包括高斯光束出射装置，以及将所述高斯光束出射后透射所述光栅上后的接收装置，所述光栅参数确定装置通过所述高斯光束出射装置以及接收装置的反射角度的反馈确定光栅参数与所述光学元件的形状参数；

所述面形变化参数确定装置，包括发射激光，所述发射激光将光点投射到所述光栅上，获得面形变化参数；

所述校正反馈装置，通过所述面形变化参数确定装置确定的面形变化参数，将所述面形变化参数反馈至所述变形模式分析装置，通过所述变形模式分析装置反馈至所述光学元件的主动执行元件进行所述面形变化参数的校正。

在一些实施例中，所述主动执行元件为气动元件，其设置在反射镜下，并可对所述反射镜施加压力。

在一些实施例中，所述反射镜为超薄玻璃，其下设置有金属基底，所述金属基底与所述反射镜之间形成了密封气室，并通过气动元件进行压力控制。

在一些实施例中，所述反射镜背面设置为若干气室，并与所述金属基底结合形成多个密封气室，并可通过所述气动元件分别进行压力控制。

在一些实施例中，所述反射镜为微晶玻璃，所述微晶玻璃边缘为切薄设计，所述主动执行元件为力矩施加元件，并可对所述反射镜施加力矩。

在一些实施例中，所述变形模式分析装置为切向压电陶瓷所构置的阵列。

在一些实施例中，所述面形变化参数确定装置的发射激光采用极窄波宽的激光。

在一些实施例中，所述变形模式分析装置通过所述光学元件的变形量进行分析，是针对所述光学元件进行谐振分析，以获得所述光学元件最容易产生的变形模式。

在一些实施例中，所述光栅参数确定装置和面形变化参数确定装置通过哈特曼法获得所述获得面形变化参数。

另一方面，本发明还提供了一种反射式色散系统主动像差校正方法，所述校正方法包括步骤：

S1，对光学元件进行谐振分析，获得所述光学元件最容易产生的变形模式，之后针对所述变形模式进行定标，建立输入力与光栅反射模式之间的关系；

S2，将理想高斯光束透射到所述光栅面之上，根据所述光栅面的反射角度同时推演确定光栅参数与所述光学元件的形状参数；

S3，在所述光学元件的焦点处布置发射激光，所述发射激光将光点投射到所述光栅之上，获得面形变化参数；

S4，通过所述面形变化参数建立主动执行元件与面形变化参数之间的关系，建立相应的映射关系，并通过所述光学元件的主动执行元件进行所述面形变化参数的校正。

本发明的技术效果：本发明公开的反射式色散系统主动像差校正系统和校正方法，通过在所述光学元件上将反射镜与光栅设置为一体，并通过对所述光学元件进行变形模式分析，建立输入力与光栅反射模式之间的关系，通过光栅参数确定装置获得光栅参数确定和光学元件形状参数的确定，通过面形变化参数确定装置获得面形变化参数，并通过校正反馈装置对光学元件的面形变化参数进行校正，从而使得光学元件的面形可以进行面形改变，进行像差校正，最终实现更高精度的光谱分辨。通过将光栅集成于光学元件上，则不需要后续的光路对光学质量进行矫正，可大幅降低系统的复杂程度以及系统的稳定性。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为根据本发明一个实施例的一种反射式色散系统主动像差校正系统示意图；

图2为根据本发明一个实施例的一种反射式色散系统主动像差校正方法流程示例图；

图3为根据本发明一个实施例的光学元件的结构示意图；

图4为根据本发明一个实施例的对光学元件施加力矩时曲率变化的示意图；

图5为根据本发明一个实施例的面形变化参数确定装置检测示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，而不构成对本发明的限制。

以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了诸如特定系统结构、技术之类的具体细节，以便透彻理解本申请实施例。然而，本领域的技术人员应当清楚，在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本申请。在其它情况中，省略对众所周知的系统、装置、电路以及方法的详细说明，以免不必要的细节妨碍本申请的描述。

应当理解，当在本申请说明书和所附权利要求书中使用时，术语“包括”指示所描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在，但并不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或其集合的存在或添加。

还应当理解，在本申请说明书和所附权利要求书中使用的术语“和/或”是指相关联列出的项中的一个或多个的任何组合以及所有可能组合，并且包括这些组合。

如在本申请说明书和所附权利要求书中所使用的那样，术语“如果”可以依据上下文被解释为“当...时”或“一旦”或“响应于确定”或“响应于检测到”。类似地，短语“如果确定”或“如果检测到[所描述条件或事件]”可以依据上下文被解释为意指“一旦确定”或“响应于确定”或“一旦检测到[所描述条件或事件]”或“响应于检测到[所描述条件或事件]”。

另外，在本申请说明书和所附权利要求书的描述中，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本申请说明书中描述的参考“一个实施例”或“一些实施例”等意味着在本申请的一个或多个实施例中包括结合该实施例描述的特定特征、结构或特点。由此，在本说明书中的不同之处出现的语句“在一个实施例中”、“在一些实施例中”、“在其他一些实施例中”、“在另外一些实施例中”等不是必然都参考相同的实施例，而是意味着“一个或多个但不是所有的实施例”，除非是以其他方式另外特别强调。术语“包括”、“包含”、“具有”及它们的变形都意味着“包括但不限于”，除非是以其他方式另外特别强调。

随着科技的发展对成像质量的要求也越来越高，因此对光栅分辨率以及总损伤阈值的要求也提高了，未来光栅的具体应用上，无论是面向大口径地基望远镜，还是高能激光武器以及核聚变约束装置，其面积与刻划精度会要求越来越高。同时，针对空间、望远镜等空间体积受限的系统及变形的矫正能力也需要同时进行提升和改进。

参考图1和图3所示，本发明实施例提供了一种反射式色散系统主动像差校正系统100。该反射式色散系统主动像差校正系统包括：光学元件10，变形模式分析装置20，光栅参数确定装置30，面形变化参数确定装置40以及校正反馈装置50。

所述光学元件10包括：主动执行元件，设置在主动执行元件上的反射镜12，以及贴合在所述反射镜12上的光栅；所述主动执行元件可对所述反射镜12施加执行力使所述反射镜12以及贴合在所述反射镜12上的光栅产生形变；

所述变形模式分析装置20通过所述光学元件10的变形量进行分析，建立输入力与所述光栅反射模式之间的关系；

所述光栅参数确定装置30，包括高斯光束出射装置，以及将所述高斯光束出射后透射所述光栅上后的接收装置，所述光栅参数确定装置30通过所述高斯光束出射装置以及接收装置的反射角度的反馈确定光栅参数与所述光学元件10的形状参数；

所述面形变化参数确定装置40，包括发射激光，所述发射激光将光点投射到所述光栅上，获得面形变化参数；

所述校正反馈装置50，通过所述面形变化参数确定装置40确定的面形变化参数，将所述面形变化参数反馈至所述变形模式分析装置20，通过所述变形模式分析装置20反馈至所述光学元件10的主动执行元件进行所述面形变化参数的校正。

对所述变形模式分析主要是通过对所述光学元件的曲率变化进行分析，参考图4所示，为根据本发明一个实施例的对光学元件施加力矩时曲率变化的示意图，参考图所示意，通过对所述光学元件10施加力，在本实施例中为施加力矩，因此光学元件10在施加力矩的作用下，产生形变，相应的光学元件10的光栅也产生形变，因此对应的光栅的顶点曲率中心也随之产生变化，通过变形模式分析装置20通过所述光学元件10的顶点曲率中心的变化进行几何光学的检测和分析可以分享判断光栅面形的变化，并由此可以建立输入力与所述光栅反射模式之间的关系。

参考图5所示，为根据本发明一个实施例的面形变化参数确定装置40检测示意图。所述面形变化参数确定装置40，包括发射激光，所述发射激光将光点投射到所述光栅上，获得面形变化参数。具体参考图5所示，对于面形调控反馈，可采用极窄波宽的发射激光进行确定角度入射，所述发射激光由激光器产生，并通过闪耀角以及衍射角度结合几何光学进行表面面形拟合分析。本发明实施例结合衍射光学以及衍射几何光学进行可变面形分析，即通过理想高斯光束入射分析其由于反射与衍射综合形成。在交班位置使用PSD(PositionSensitive Device,位置灵敏探测器)等位置敏感元件实现精度溯源，以保证光栅的精密特性，通过CCD相机进行光栅图案的获取。PSD位置传感器是一种能测量光点在探测器表面上连续位置的光学探测器。是一种新型的光电器件，或称为坐标光电池。它是一种非分割型器件，可将光敏面上的光点位置转化为电信号，其具有位置分辨率高，响应速度快和处理电路简单等优点。

目前反射光栅以条形结构居多，在一些情况下，针对方形光栅可将本项目的方式进行90度旋转对称，最终，在整个面形区域内均提供均一完整的调控能力。

所述面形变化参数确定装置40，包括发射激光，所述发射激光将光点投射到所述光栅上，获得面形变化参数。在具体操作中，通过在焦点处布置发射激光，将光点投射到光栅之上，由于激光具有极强的单波长性，因此，不会存在色散效应，但是，其出射角会与几何光学相比会发生相应偏离，但是可采用标校的方法去除。

在一些实施例中，所述主动执行元件为气动元件，其设置在反射镜12下，并可对所述反射镜12施加压力。

在一些实施例中，所述反射镜12为超薄玻璃，其下设置有金属基底13，所述金属基底13与所述反射镜12之间形成了密封气室，并通过气动元件进行压力控制。

在一些实施例中，所述反射镜12背面设置为若干气室，并与所述金属基底结合形成多个密封气室，并可通过所述气动元件分别进行压力控制。通过将所述反射镜12背面划分为多个气室，可以对多个区域进行精确控制。

可以理解的是，也可以通过在反射镜背面划分为多个控制区域，对多个控制区域分布进行主动控制元件的控制，也一样能达到上述气动元件进行精确控制的效果。例如主动控制元件可以为气缸，电机等可以进行施加压力或力矩的元件。压力控制与力矩控制的区别在于施加的连续性，但是可实现等效。

在一些实施例中，所述反射镜12为微晶玻璃，所述微晶玻璃边缘为切薄设计，所述主动执行元件为力矩施加元件，并可对所述反射镜12施加力矩。

在一些实施例中，所述变形模式分析装置20为切向压电陶瓷所构置的阵列。

在一些实施例中，所述面形变化参数确定装置40的发射激光采用极窄波宽的激光。

在一些实施例中，所述变形模式分析装置20通过所述光学元件10的变形量进行分析，是针对所述光学元件10进行谐振分析，以获得所述光学元件10最容易产生的变形模式。

在一些实施例中，所述光栅参数确定装置30和面形变化参数确定装置40通过哈特曼法获得所述获得面形变化参数。

参考图2所示，本发明还提供了一种反射式色散系统主动像差校正方法，所述校正方法包括步骤：

S1，对光学元件进行谐振分析，获得所述光学元件最容易产生的变形模式，之后针对所述变形模式进行定标，建立输入力与光栅反射模式之间的关系；

S2，将理想高斯光束透射到所述光栅面之上，根据所述光栅面的反射角度同时推演确定光栅参数与所述光学元件的形状参数；

S3，在所述光学元件的焦点处布置发射激光，所述发射激光将光点投射到所述光栅之上，获得面形变化参数；

S4，通过所述面形变化参数建立主动执行元件与面形变化参数之间的关系，建立相应的映射关系，并通过所述光学元件的主动执行元件进行所述面形变化参数的校正。

在步骤S2中，该过程中需要采用几何光学结合衍射光学进行反馈，即将理想高斯光束透射到反射光栅面之上，根据其反射角度同时推演光栅参数与形状参数。

在步骤S3中，该过程通过在焦点处布置发射激光，将光点投射到光栅之上，由于激光具有极强的单波长性，因此，不会存在色散效应，但是，其出射角会与几何光学相比会发生相应偏离，但是可采用标校的方法去除。

本发明实施例的面形变化参数是通过哈特曼法获得。哈特曼法基本思想是把一个待测区域内完整波前划分为很多小区域叠加的形式，通过使用密布的微透镜阵列对波前来实现划分，入射波前经过微透镜阵列后在微透镜阵列的焦平面上汇聚于一系列焦点上，位于焦平面上的CCD能够捕获光波前通过每一个微透镜后汇聚点所在的位置，畸变的波前经过微透镜阵列后，其汇聚点相对于理想平面波垂直入射微透镜阵列所形成的汇聚点(微透镜的焦点)之间会产生一个偏移量。通过计算每个光波汇聚点的质心相对于微透镜焦点在焦平面上的偏移量，可以计算各子波面的平均法线斜率。入射波前到达微透镜阵列后进行光线分束，在微透镜焦平面上形成光斑阵列，若入射波面含有波前畸变，则焦面CCD上得到的光斑将偏离理想位置，形成不规则的光斑阵列，这些散乱光斑与理想位置的偏离量包含了波面的畸变信息，通过计算这些散乱光斑的质心位置偏离理想位置的大小并运用波前重构算法可将入射波前重构出来。

如下为原理说明：

在近轴位置哈特曼法可以近似的使用如下式(1)表达。

其中

为出瞳处像点的坐标，/>

为出瞳与光学元件顶点的距离。/>

为相位，/>

为梯度算子，得到的结果为斜率，得到的结果为曲率。/>

为光瞳内坐标，δ为狄拉克算子。

对于式(1)进行方程的求解即可，之后，通过傅里叶变换的方法可以求解公式(2)。

其中u，v为空间频率。

具体来说，与使用Zernike多项式来表达波前类似，波前可以被离散指数基底表示为：Φ(m,n)＝∑a_uvW_uv(m,n) (3)

其中a_uv为基底拟合系数，W_vu(m,n)为离散指数基底。对于N×N的采样孔径N为波前的采样数，m、n为整数。

W_uv(m,n)具体的表达式为：

可得斜率信号

将斜率基底重新表达为波前斜率

δΦ(m,n)＝∑a_uvδW_uv(m,n)

可得，通过获得a_uv为基底拟合系数，可得到波前信息，也是作为校正量的反馈。基于光束口径较窄位置平面镜的误差空间频率映射，结合联合仿真模型，对子孔径测量所引入的各项系统误差进行定标。基于标量衍射理论，结合标准平面镜已知面形以及分离后的像差，在数字域对焦面光强进行重建并与实际分布进行差分迭代。最终，在系统误差校验的基础上，根据面形理想拟合面为平面的特殊边界，建立离散子孔径探测误差抑制方法，并对测量精度进行保障。

设元件i，j之间的长度将由下式表示L_ij(t)。由于小的自由度变化,L_ij(t)可以分解为

L_ij(t)＝L_ij+δL_ij(t) (5)

光学桁架通过建立桁架长度变化量与子镜六维广义位移量δQ(不局限于笛卡尔坐标表达)的关系，因此平台雅克比矩阵可逆，故有：

δQ＝J^-1δq (6)

其中，δq＝[δL_i2,...,δL_ij,...,δL_M6]，空间多维雅可比为：

针对光干涉架构，结合单模波导空间滤波特性，可得每个元件所引入光程差为：

本发明的技术效果：本发明实施例公开的反射式色散系统主动像差校正系统和校正方法，通过在所述光学元件上将反射镜与光栅设置为一体，并通过对所述光学元件进行变形模式分析，建立输入力与光栅反射模式之间的关系，通过光栅参数确定装置获得光栅参数确定和光学元件形状参数的确定，通过面形变化参数确定装置获得面形变化参数，并通过校正反馈装置对光学元件的面形变化参数进行校正，从而使得光学元件的面型可以进行面形改变，进行像差校正，最终实现更高精度的光谱分辨。通过将光栅集成于光学元件上，则不需要后续的光路对光学质量进行矫正，可大幅降低系统的复杂程度以及系统的稳定性。

以下将结合附图所示的各实施方式对本发明进行详细描述。但该等实施方式并不限制本发明，本领域的普通技术人员根据该等实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本发明的保护范围内。

结合本文中所公开的实施例描述的方法或算法的步骤可以用硬件、处理器执行的软件模块，或者二者的结合来实施。软件模块可以置于随机存储器(RAM)、内存、只读存储器(ROM)、电可编程ROM、电可擦除可编程ROM、寄存器、硬盘、可移动磁盘、CD-ROM、或技术领域内所公知的任意其它形式的存储介质中。

在本发明的描述中，需要理解的是，本发明实施例中中提及的参数、变量以及程序名等符号均可替代成不至混淆的任何其他代号。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

以上所述本发明的具体实施方式，并不构成对本发明保护范围的限定。任何根据本发明的技术构思所作出的各种其他相应的改变与变形，均应包含在本发明权利要求的保护范围内。

Claims (8)

1.一种反射式色散系统主动像差校正系统，其特征在于，包括：

光学元件，所述光学元件包括：主动执行元件，设置在主动执行元件上的反射镜，以及贴合在所述反射镜上的光栅；所述主动执行元件可对所述反射镜施加执行力使所述反射镜以及贴合在所述反射镜上的光栅产生形变；变形模式分析装置，所述变形模式分析装置通过所述光学元件的变形量进行分析，建立输入力与所述光栅反射模式之间的关系；

光栅参数确定装置，包括高斯光束出射装置，以及将所述高斯光束出射后透射所述光栅上后的接收装置，所述光栅参数确定装置通过所述高斯光束出射装置以及接收装置的反射角度的反馈确定光栅参数与所述光学元件的形状参数；

面形变化参数确定装置，包括发射激光，所述发射激光将光点投射到所述光栅上，获得面形变化参数；

校正反馈装置，通过所述面形变化参数确定装置确定的面形变化参数，将所述面形变化参数反馈至所述变形模式分析装置，通过所述变形模式分析装置反馈至所述光学元件的主动执行元件进行所述面形变化参数的校正；所述反射镜为超薄玻璃，其下设置有金属基底，所述金属基底与所述反射镜之间形成了密封气室，并通过气动元件进行压力控制。

2.根据权利要求1所述的一种反射式色散系统主动像差校正系统，其特征在于，所述反射镜背面设置为若干气室，并与所述金属基底结合形成多个密封气室，并可通过所述气动元件分别进行压力控制。

3.根据权利要求1或2所述的一种反射式色散系统主动像差校正系统，其特征在于，所述反射镜为微晶玻璃，所述微晶玻璃边缘为切薄设计，所述主动执行元件为力矩施加元件，并可对所述反射镜施加力矩。

4.根据权利要求1所述的一种反射式色散系统主动像差校正系统，其特征在于，所述变形模式分析装置为切向压电陶瓷所构置的阵列。

5.根据权利要求1所述的一种反射式色散系统主动像差校正系统，其特征在于，所述面形变化参数确定装置的发射激光采用极窄波宽的激光。

6.根据权利要求1所述的一种反射式色散系统主动像差校正系统，其特征在于，所述变形模式分析装置通过所述光学元件的变形量进行分析，是针对所述光学元件进行谐振分析，以获得所述光学元件最容易产生的变形模式。

7.根据权利要求1所述的一种反射式色散系统主动像差校正系统，其特征在于，所述光栅参数确定装置和面形变化参数确定装置通过哈特曼法获得所述获得面形变化参数。

8.一种反射式色散系统主动像差校正方法，其用于对权利要求1所述的光学元件进行校正，其特征在于，所述校正方法包括步骤：

S1，对光学元件进行谐振分析，获得所述光学元件最容易产生的变形模式，之后针对所述变形模式进行定标，建立输入力与光栅反射模式之间的关系；

S2，将理想高斯光束透射到所述光栅面之上，根据所述光栅面的反射角度同时推演确定光栅参数与所述光学元件的形状参数；

S3，在所述光学元件的焦点处布置发射激光，所述发射激光将光点投射到所述光栅之上，获得面形变化参数；

S4，通过所述面形变化参数建立主动执行元件与面形变化参数之间的关系，建立相应的映射关系，并通过所述光学元件的主动执行元件进行所述面形变化参数的校正。

Images