JP2006276005A - 流体濾過方法、それによって濾過された流体、リソグラフィ装置、及び素子製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】流体を濾過システムによって濾過し、濾過システムの最終濾過段の上流でその流体の純度を測定する。濾過システムによって濾過された流体の純度は、測定純度を最終濾過段の濾過特性を用いて修正することにより、求められる。流体は、有利には、リソグラフィ装置に浸漬液として使用するための超純水を含む。
【選択図】図1
Description
a)濾過システムで流体を濾過するステップと、
b)測定純度を得るために、その濾過システムの最終濾過段の上流の流体の純度を測定するステップと、
c)その測定純度を、最終濾過段の濾過特性を用いて修正することにより、濾過システムによって濾過された流体の純度を求めるステップと
を含む、流体を濾過し、濾過された流体の純度を求める方法が提供される。
照射光線B(例えば、紫外線(UV)、又は遠紫外線(DUV))を調整するように構成された照射システム(照射器)ILと、
パターニング・デバイス(例えば、マスク)MAを支持し、特定のパラメータに従ってパターニング・デバイスを正確に位置決めするように構成された第1の位置決め器PMに連結された支持構造(例えば、マスク・テーブル)MTと、
基盤(例えば、レジスト被覆ウェハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め器PWに結合された基板テーブル(例えば、ウェハ・テーブル)WTと、
パターニング・デバイスMAによって照射光線Bに付与したパターンを基板Wの目標部位C(例えば、1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズ・システム)PSと
を備える。
1.ステップ・モードにおいては、照射光線に付与されたパターン全体が目標部位Cに一度で投影される間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に保たれる(即ち、単一静止露光)。次いで、別の目標部位Cを露光できるように、基板テーブルWTは、X及び/又はY方向にシフトされる。ステップ・モードでは、露光範囲の最大寸法によって、単一静止露光で投影される目標部位Cの大きさが制限される。
2.スキャン・モードにおいては、照射光線に付与されたパターンが目標部位C上に照射されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期してスキャンされる(即ち、単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)率及び反転投影特性によって決定され得る。スキャン・モードでは、露光域の最大寸法によって、単一動的露光での目標部位の幅(非スキャン方向の)が制限され、スキャン移動距離によって目標部位の高さ(スキャン方向の)が定まる。
3.別のモードでは、マスク・テーブルMTは、プログラム式パターニング・デバイスを保持して基本的に静止状態に保たれ、照射光線に付与されたパターンが目標部位C上に投影されている間、基板テーブルWTが移動又はスキャンさせられる。このモードでは、一般に、パルス式光源が用いられ、プログラム式パターニング・デバイスは、スキャン中、基板テーブルWTの移動後ごとに、又は、連続する各照射パルスの合間に、必要に応じて更新される。この作動モードは、上記に言及したタイプのプログラム式ミラー・アレイなどのプログラム式パターニング・デバイスを用いる非マスク式リソグラフィに容易に適用することができる。
C 目標部位
CO コンデンサ
IF 位置決めセンサ
IL 照射システム、照射器
IN インテグレータ(図1)
IN 供給口(図2、3)
IN 濾過入口(図6)
M 測定システム
M1 マスク位置合わせマーク
M2 マスク位置合わせマーク
MP 測定プローブ
MA パターニング・デバイス、マスク
MT 支持構造、マスク・テーブル
OUT 排出口(図2、3)
OUT 濾過システム出口(図6)
P1 基盤位置合わせマーク
P2 基盤位置合わせマーク
PL 投影システム
B 照射光線
PM 第1の位置決め器
PS 投影システム
PW 第2の位置決め器
SO 光源
W 基盤
WT 基盤テーブル、ウェハ・テーブル
F1 第1の濾過段
F2 第2の濾過段
F3 第3の濾過段、最終濾過段
10 貯槽
12 シール部材、液体供給システム
14 排出口
15 気体供給口
16 気体シール
Claims (11)
- a)濾過システムで流体を濾過するステップと、
b)測定純度を得るために、前記濾過システムの最終濾過段の上流の前記流体の純度を測定するステップと、
c)前記測定純度を、前記最終濾過段の濾過特性を用いて修正することにより、前記濾過システムによって濾過された前記流体の純度を求めるステップと
を含む、流体を濾過し、濾過された流体の純度を求める方法。 - ステップc)の前に、
c1)前記最終濾過段で或る量の流体を濾過することによって、前記最終濾過段の前記濾過特性を求めるステップと、
c2)濃縮された流体を得るために、前記量の前記流体を濃縮するステップと、
c3)前記濃縮された流体の純度を測定するステップと
を含む、請求項1に記載の方法。 - ステップc)の前に、
c4)理論的モデルから前記最終濾過段の前記濾過特性を求めるステップ
を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記測定純度を、前記最終濾過段の総濾過時間を通じて積分することにより、前記最終濾過段の破過を予測するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記流体が、液体、好ましくは水、より好ましくは超純水を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記濾過器が化学濾過器を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記濾過器が、シリカ合成物、好ましくは珪酸塩を濾過するように構成されている、請求項1に記載の方法。
- 前記流体が、リソグラフィ装置用の浸漬液を含む、請求項1に記載の方法。
- パターン形成された照射光線を、請求項1に記載の方法に従って濾過された浸漬液を介して基板上に投影するステップを含む、素子を製造する方法。
- 既知の純度を有する超純水であって、請求項1に記載の方法に従って濾過された超純水。
- パターニング・デバイスからのパターンを、浸漬液を介して基板上に投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、前記浸漬液が請求項1に記載の方法に従って濾過されている、リソグラフィ投影装置。
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