JP5576423B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
[0021]−放射ビームB(例えばUV放射、DUV放射、またはEUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0022]−パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続されたサポート構造(例えばマスクテーブル)MTと、
[0023]−基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
[0024]−パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば屈折型投影レンズシステム)PSと、を含む。
1.パターンを含むマスクを支持し、かつ、マスクを放射ビーム内に位置決めしてパターンを放射ビームに付与するように構成されたマスクサポートと、
マスクによってパターン付けされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、
マスクの特性を、制御可能にかつ局所的に変更するように構成されたマスク補正システムと、を含む、
リソグラフィ装置。
2.マスク補正システムは、放射ビームに対する透過率、放射ビームの偏光状態に対する透過率、複屈折性、および形状からなる群から選択される、マスクの1つ以上の特性を局所的に変更するように構成される、
節1に記載のリソグラフィ装置。
3.マスク補正システムは、第2の放射ビームをマスク上のスポットに誘導してマスクの特性が局所的に変更されるように構成されたフォーカシング光学システムを含む、
節1または節2に記載のリソグラフィ装置。
4.マスク補正システムは、第2の放射をマスク上の複数のスポットに実質的に同時に誘導するように構成される、
節3に記載のリソグラフィ装置。
5.マスクサポートは、第1の方向において、マスク補正システムに対してマスクをスキャンするように構成されたポジショナを含む、
節4に記載のリソグラフィ装置。
6.ポジショナは、マスクが放射ビーム内に位置決めされている場合に、第1の方向においてマスクをスキャンするようにさらに構成される、
節5に記載のリソグラフィ装置。
7.複数のスポットは、2次元アレイに構成され、スポットの2次元アレイの少なくとも行または列が、第1の方向に対して鋭角を形成する、
節4から6のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
8.フォーカシング光学システムは、
第2の放射ビームを、対応する離間されたスポットにおいてマスクに入射される複数のサブビームに分割するビームデバイダと、
サブビームの各々を、マスク上の対応するスポットに選択的に誘導するビームディレクタと、
を含む、
節4から7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
9.ビームデバイダは、マイクロレンズアレイを含み、ビームディレクタは、可動ミラーのアレイを含み、マイクロレンズアレイの各マイクロレンズは、サブビームを、可動ミラーのうち対応する1つに合焦させるように構成される、
節8に記載のリソグラフィ装置。
10.各可動ミラーは、サブビームのうち対応する1つが、マスク上の対応するスポットに入射するように誘導される第1の位置と、サブビームのうち対応する1つマスクに入射しないように誘導される第2の位置との間で可動である、
節9に記載のリソグラフィ装置。
11.各可動ミラーは、複数の位置間で可動であり、複数の位置の各々において、サブビームのうち対応する1つが、マスク上の対応するスポットに入射するように誘導される、
節9に記載のリソグラフィ装置。
12.フォーカシング光学システムは、第2の放射ビームを提供するように構成された放射源を含む、
節3から11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
13.マスク補正デバイスは、第2の放射ビームに所望の偏光状態を選択的に付与するように構成された制御可能なポラライザをさらに含む、
節3から11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
14.制御可能なポラライザは、ポラライザと、ポラライザを第2の放射ビーム内および外へと選択的に移動させるように構成された切替えデバイスを含む、
節13に記載のリソグラフィ装置。
15.マスク検査デバイスをさらに含み、マスク補正デバイスは、マスクがマスク検査デバイスによって検査される位置にある場合にマスクを取り替えるように構成される、
節1から14のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
16.リソグラフィデバイス製造方法における使用のためのマスクを補正する方法であって、
リソグラフィ装置内で、マスクの特性を、マスク上のスポットに選択的に入射するように放射ビームを誘導することによって、局所的に変更することを含む、
方法。
17.放射ビームにより局所的に変更されるマスクのプロパティは、リソグラフィデバイス製造方法に使用される第2の放射ビームに対する透過率、第2の放射ビームの偏光状態に対する透過率、複屈折性、および形状からなる群から選択される、1つ以上の特性である、
節16に記載の方法。
18.誘導することは、放射ビームを複数のスポットに実質的に同時に誘導することを含む、
節16または節17に記載の方法。
19.誘導することを行っている際に、第1の方向において、放射ビームに対してマスクをスキャンすることをさらに含む、
節18に記載の方法。
20.複数のスポットが、2次元アレイに構成され、スポットの2次元アレイの少なくとも行または列が、第1の方向に対して鋭角を形成する、
節18または節19に記載の方法。
21.所望の偏光状態を放射ビームに選択的に付与することをさらに含む、
節16から20のいずれかに記載の方法。
22.放射ビームを誘導する前でかつリソグラフィ装置内で、マスクのイメージを投影して、イメージの特性の値を測定することをさらに含み、変更することは、測定された値に応じる、
節16から21のいずれかに記載の方法。
23.イメージの特性の値を測定することは、イメージ内のマーカーの位置を測定することを含む、
節22に記載の方法。
24.マーカーの位置を測定することは、リソグラフィ装置と一体にされたイメージセンサを使用して行われる、
節23に記載の方法。
25.マーカーの位置を測定することは、
基板の放射感応性層をマスクのイメージに露光させることと、
放射感応性層におけるマーカーの位置を測定することと、を含む、
節23に記載の方法。
26.マーカーは、アライメントマーカーおよびオーバーレイマーカーからなる群から選択される1つ以上のマーカーである、
節23から25のいずれかに記載の方法。
27.変更することの後に、投影することと測定することとを繰り返すことをさらに含む、
節22から26のいずれかに記載の方法。
28.リソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法であって、
リソグラフィ装置において、マスクの特性を、マスク上のスポットに選択的に入射するように第1の放射ビームを誘導することによって局所的に変更することと、
第2の放射ビームをマスク上に誘導することと、
マスクによってパターン付けされた第2の放射ビームを基板上に投影することと、を含む、
方法。
Claims (14)
- パターンを放射ビームに付与するように、前記パターンを有するマスクを支持しかつ前記マスクを前記放射ビーム内に位置決めするマスクサポートと、
前記マスクによってパターン付けされた前記放射ビームを基板上に投影する投影システムと、
前記マスクの特性を、制御可能にかつ局所的に変更するマスク補正システムと、を備え、
前記マスク補正システムは、第2の放射ビームを前記マスク上のスポットに誘導して前記マスクの前記特性を局所的に変更させるフォーカシング光学システムを有し、前記第2の放射ビームを前記マスク上の複数のスポットに実質的に同時に誘導する、
リソグラフィ装置。 - 前記マスク補正システムは、前記放射ビームに対する透過率、前記放射ビームの偏光状態に対する透過率、複屈折性、およびジオメトリからなる群から選択される、前記マスクの1つ以上の特性を局所的に変更する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記マスクサポートは、第1の方向において、前記マスク補正システムに対して前記マスクをスキャンするポジショナを有する、請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記マスクサポートは、前記マスクが前記放射ビーム内に位置決めされている場合に前記マスクをスキャンするポジショナを有する、請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数のスポットは、2次元アレイに配置され、前記スポットの2次元アレイの少なくとも行または列が、前記第1の方向に対して鋭角を形成する、請求項1から4の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フォーカシング光学システムは、前記第2の放射ビームを対応する離間されたスポットにおいて前記マスクに入射される複数のサブビームに分割するビームデバイダと、前記サブビームの各々を前記マスク上の対応するスポットに選択的に誘導するビームディレクタと、を有する、請求項1から5の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ビームデバイダは、マイクロレンズアレイを有し、
前記ビームディレクタは、可動ミラーのアレイを有し、
前記マイクロレンズアレイの各マイクロレンズは、サブビームを前記可動ミラーのうち対応する1つに合焦させる、請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - 各可動ミラーは、前記サブビームのうち対応する1つが、前記マスク上の対応するスポットに入射するように誘導される第1の位置と、前記サブビームのうち前記対応する1つが前記マスクに入射しないように誘導される第2の位置と、の間で可動である、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 各可動ミラーは、複数の位置間で可動であり、前記複数の位置の各々において、前記サブビームのうち対応する1つが、前記マスク上の対応するスポットに入射するように誘導される、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フォーカシング光学システムは、前記第2の放射ビームを提供する放射源を有する、請求項1から9の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記マスク補正システムは、前記第2の放射ビームに所望の偏光状態を選択的に付与する制御可能なポラライザをさらに有する、請求項1から10の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御可能なポラライザは、ポラライザと、前記ポラライザを前記第2の放射ビーム内および外へと選択的に移動させる切替えデバイスと、を有する、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- マスク検査デバイスをさらに有し、前記マスク補正システムは、前記マスクが前記マスク検査デバイスによって検査される位置にある場合に前記マスクを取り替える、請求項1から12の何れか一項に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法であって、
放射ビームをマスク上に誘導するステップと、
前記マスクによってパターン付けされた前記放射ビームを基板上に投影するステップと、
前記リソグラフィ装置において、マスクの特性を、前記マスク上のスポットに選択的に入射するように第2の放射ビームを誘導することによって局所的に変更するステップと、を含み、
前記変更ステップは、前記第2の放射ビームを前記マスク上の複数のスポットに実質的に同時に誘導することを含む、方法。
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