JPH02215118A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は投影、露光装置に関し、特に該装置に組み込ま
れたレティクルパターン欠陥検査装置に関する。

〔従来の技術〕

従来、この種のレティクルパターン欠陥検査装置の一例
としてレーザー光の散乱を利用したものを、第３図を用
いて説明する。この種のレティクルパターン欠陥検査装
置では、欠陥検査装置内のレティクルステージ３２にレ
ティクル３１を乗せ、レーザー光源３３からのレーザー
光をレティクル表面に照射し、レティクル表面で散乱さ
れたレーザー光を検知機３４により検知する。レティク
ルの規則的なパターンでは、散乱される角度と強度は規
則的である。ところが、レティクル上に異物が付着して
いる場合は、レーザー光は異物特有の角度と強度で散乱
される。この散乱光の角度と強度の差を利用し、レティ
クル上の異物を検出する。検査の結果が合格であれば、
レティクル３１を投影機構のステージ３５上に移し、レ
ンズ３６を介して投影露光を行う。

また、他の例として、画像比較を利用したウェハーパタ
ーン欠陥検査装置がある。この例を第４図を用いて説明
する。リソグラフィー技術により、ウェハー上のレジス
トに、レティクルパターンを縮小投影したパターンを形
成する。このウェハー４１をウェハーステージ４２上に
載せる。光源４３の光をビームスプリッタ４４と対物レ
ンズ４５を介してつエバー４１の表面に照射する。ウェ
ハー４１の表面で反射された光は対物レンズ４５で拡大
され、ビームスプリッタ４４を通ってカメラ４６に入射
する。カメラ４６のレンズにより拡大した像をカメラ４
６により画像信号に変換し、この信号を画像処理ユニッ
ト４７によりディジタルデータ化する０通常、ウェハー
上には、同型パターンが多数存在するため、ステージ制
御ユニット４９の制御により、ウェハステージ４２を移
動してウェハー上の他の同型パターンが対物レンズ下に
位置するようにし、この位置のパターンを画像データと
して取り込む、この様にして得られた２点の画像データ
を画像処理ユニット４７で比較し、２点のデータが異な
る点を欠陥として認識する０画像処理ユニット４７とス
テージ制御ユニット４９は、装置制御ユニット４８によ
り制御され、欠陥データとステージ座標が対応づけられ
る。

このようにして、レティクルパターンを露光装置により
縮小投影したパターンをウェハー上のレジストに形成し
、このレジストパターンを検査することによりレティク
ルパターンの欠陥を検査する。また、この方式でウェハ
ーの替りにレティクルを載せレティクルを直接検査する
例もある。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来のレティクルパターン欠陥検査装置で、レ
ーザーの散乱を利用した方法等によりレティクルを直接
検査するものでは、レティクルを検査した後、レティク
ルを投影ｍ槽上のステージに搬送する。この搬送中にレ
ティクル上に異物が付着することもあり、これは検査で
きないという欠点がある。

また、実際にレティクルパターンを縮小投影したパター
ンをウェハー上のレジストに形成し、このパターンを検
査する方法では、レジストの塗布。

露光、現像というプロセスが必要になるという欠点を有
する。

本発明の目的は前記課題を解決した露光装置を提供する
ことにある。

〔発明の従来技術に対する相違点〕

上述した従来のレティクルパターン欠陥検査装置に対し
、本発明は投影露光装置内でウェハーに投影露光する際
と同じ位置にレティクルを置き、露光光源の光でレティ
クルを照明し、透過した光を検知機により検知して画像
信号に変換し、画像処理により、レティクルパターン欠
陥検査を行うという相違点を有する。

〔課題を解決するための手段〕

前記目的を達成するため、本発明に係る露光装置はレテ
ィクルを透過した照明光を検知する検知機と、検知機で
検知した画像信号を処理し、欠陥を検知する画像処理ユ
ニットと、検知機を移動させるステージと、ステージの
動作を制御するステージ制御ユニットと、画像処理ユニ
ット及びステージ制御ユニットを制御する装置制御ユニ
ットとを有するものである。

〔実施例〕

次に、本発明について図面を参照して説明する。

（実施例１） 第１図は本発明の実施例１を示す模式図である。

図において、ステップ・アンド・リピート縮小投影露光
装置では、照明系１１からの光はレティクルステージ１
３上に置かれたレティクル１２を照明し、レティクルを
透過した光はレンズ１４により縮小され、ウェハーステ
ージ１５上のウェハー表面に結像する。このウェハース
テージ１５上に、カメラ１６を設置する。カメラ１６は
ウェハーステージ上に結像したレティクルパターン像の
一部を２０倍に拡大し、ウェハー上にして０．５μｌの
分解能で画像信号に変換する。この画像信号を高速の画
像処理ユニット１９によりディジタル信号に変換し、記
憶する。

このデータをＡとする。

次に、あらかじめ指定されたレティクル内にある別座標
の同型パターンと比較するため、ステージ制御ユニット
１７の制御により、ウェハーステージ１５を動かし、カ
メラ１６が比較するパターン像の下に来るようにする。

ここで、再度投影されたレティクルパターン像をカメラ
１６により画像信号に変換し、この画像信号を画像処理
ユニット１９によりディジタルデータに変換する。この
データをＢとする。

データＡとデータＢを比較し、異なる部分が欠陥として
検知される。このようにして、ウェハー上にして０．５
μｍ以上の大きさのレティクルパターン欠陥を検査する
。

（実施例２） 第２図は本発明の実施例２を示す模式図である。

実施例１と同様に照明系２１の光でレティクルステージ
２３上のレティクル２２を照明する。レティクル２２と
レンズ２４の間に、カメラステージ２６に取り付けられ
たカメラ２５を入れる。レティクルを透過した光は、カ
メラ２５のレンズにより４倍に拡大され、カメラにより
レティクル上にして２．５μｌの分解能で画ｍ信号に変
換される。以下、実施例１と同様にして、画像信号を画
像処理ユニット２７によりディジタル化する。また、カ
メラのステージ制御ユニット２９の制御によりカメラス
テージ２６を動かし、カメラ２５を比較パターン下に位
置させて、再度この画像をディジタル化し、前データと
比較して、欠陥を検出する。ウェハーへ露光を行う場合
は、カメラステージ２６を動かし、カメラ２５をレティ
クルの下から退避させる。

この実施例では、カメラステージ２６が必要となるが、
実施例１のようにウェハーステージと共用でないため、
カメラステージを小型１軽量化でき、高速動作に有利で
ある。また、実施例１では、５：１縮小投影露光装置の
場合、レティクルパターンが１１５に縮小されたものを
カメラで拡大し、検出することになる。このため、レテ
ィクル上の欠陥を同じ分解能で検出するのに、実施例２
ではカメラでの拡大倍率が実施例１の１１５でよく、光
学的な性能が有利となるという利点がある。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は投影露光装置において、ウ
ェハーに露光を行う時と同じ位置にレティクルを置いた
状態でレティクルを透過した照明光を検知して、レティ
クルパターン欠陥を検査することにより、実際にウェハ
ーの露光時と同じ状態でレティクルのパターン欠陥を検
査することができ、検査後、搬送等によりレティクルに
異物が付く恐れがない、また、ウェハー上のレジストで
露光パターンを形成したものを検査する方法で必要とな
るウェハーへのレジスト塗布、露光、現像というプロセ
スが不要となる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例１を示す模式図、第２図は本発
明の実施例２を示す模式図、第３図は従来のレーザー光
の散乱を用いてレティクルパターン欠陥検査装置を示す
模式図、第４図は従来の画像処理を用いたレティクルパ
ターン欠陥検査装置を示す模式図である。 １１、２１・・・照明系 １２、２２．３１．４１・・・レティクル１３、２３．
３２．３５・・・レティクルステージ１４、２４．３６
・・・レンズ １５・・・ウェハーステージ １６、２５．４６・・・カメラ １７、２９．４９・・・ステージ制御ユニット１８、２
８．４８・・・装置制御ユニット１９、２７．４７・・
・画像制御ユニット２６・・・カメラステージ　　３３
・・・レーザー光源３４・・・検知機 ４４・・・ビームスプリッタ ４３・・・光源 ４５・・・対物レンズ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）レティクルを透過した照明光を検知する検知機と
   、検知機で検知した画像信号を処理し、欠陥を検知する
   画像処理ユニットと、検知機を移動させるステージと、
   ステージの動作を制御するステージ制御ユニットと、画
   像処理ユニット及びステージ制御ユニットを制御する装
   置制御ユニットとを有することを特徴とする露光装置。