JP2006178368A - アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法 - Google Patents
アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006178368A JP2006178368A JP2004374329A JP2004374329A JP2006178368A JP 2006178368 A JP2006178368 A JP 2006178368A JP 2004374329 A JP2004374329 A JP 2004374329A JP 2004374329 A JP2004374329 A JP 2004374329A JP 2006178368 A JP2006178368 A JP 2006178368A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- substrate
- insulating film
- wiring
- active matrix
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1345—Conductors connecting electrodes to cell terminals
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1341—Filling or closing of cells
Abstract
【解決手段】少なくとも、薄膜トランジスタのゲート電極を覆う無機系材料からなる第1層間絶縁膜6と、第1層間絶縁膜上の配線及びドライバと接続するための接続配線8aを覆う第2層間絶縁膜9と、アクリル、エポキシ系などの有機系材料からなる平坦化膜10と、スルーホールを介して上記配線に接続される画素電極とを少なくとも備えるTFT基板において、上記スルーホールの形成と同時に、シール領域の接続配線8aを除く領域の一部の平坦化膜10及び第2層間絶縁膜9を除去して凹部14を形成して、該凹部14の底部において無機系材料からなる第1層間絶縁膜9とシール材30とを接触させて接続強度を向上させる。
【選択図】図3
Description
2、102 下地絶縁膜
3 多結晶シリコン膜
4、104 ゲート絶縁膜
5 ゲート電極
6、106 第1層間絶縁膜
7 コンタクトホール
8、108 配線
8a、108a 接続配線
8b ダミーパターン
9、109 第2層間絶縁膜
10、110 平坦化膜
11 コンタクトホール
12 画素電極
13 配向膜
14 凹部
21、121 ガラス基板
22、122 対向電極
23 配向膜
30、130 シール材
31 液晶材
42、142 表示領域
43、143 水平ドライバ
44、144 垂直ドライバ
45 接続領域
51、151 TFT基板
52、152 対向基板
145 接続端子
Claims (10)
- 画素がマトリクス状に配列された表示領域と、該表示領域周囲のシール材が配設されるシール領域と、該シール領域外側に形成され、前記シール領域を横切る接続配線によって前記表示領域に接続される回路部とを備える第1の基板と、前記第1の基板に対向する第2の基板とが、前記シール材によって接続されてなるアクティブマトリクス型表示装置において、
前記第1の基板の前記シール領域には、前記接続配線を挟んで、下層側に無機系絶縁膜、上層側に有機系絶縁膜を少なくとも備え、
前記シール領域の前記接続配線を除く領域の一部で前記有機系絶縁膜が除去されて凹部が形成され、該凹部の底部において前記無機系絶縁膜と前記シール材とが接触していることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。 - 前記凹部は、少なくとも、隣り合う前記接続配線に挟まれる領域に形成されていることを特徴とする請求項1記載のアクティブマトリクス型表示装置。
- 画素がマトリクス状に配列された表示領域と、該表示領域周囲のシール材が配設されるシール領域と、該シール領域外側に形成され、前記シール領域を横切る接続配線によって前記表示領域に接続される回路部とを備える第1の基板と、前記第1の基板に対向する第2の基板とが、前記シール材によって接続されてなるアクティブマトリクス型表示装置において、
前記第1の基板の前記シール領域には、前記接続配線と同層にダミーパターンが形成され、前記接続配線及び前記ダミーパターンを挟んで、下層側に無機系絶縁膜、上層側に有機系絶縁膜を少なくとも備え、
前記シール領域の前記ダミーパターン上の一部で前記有機系絶縁膜が除去されて凹部が形成され、該凹部の底部において前記ダミーパターンと前記シール材とが接触していることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置。 - 前記ダミーパターンは、少なくとも、隣り合う前記接続配線に挟まれる領域に形成されていることを特徴とする請求項3記載のアクティブマトリクス型表示装置。
- 前記有機系絶縁膜は、前記第1の基板の表層を平坦化するための平坦化膜であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一に記載のアクティブマトリクス型表示装置。
- 画素がマトリクス状に配列された表示領域と、該表示領域周囲のシール材が配設されるシール領域と、該シール領域外側に形成され、前記シール領域を横切る接続配線によって前記表示領域に接続される回路部とを備える第1の基板と、前記第1の基板に対向する第2の基板とを、前記シール材によって接続するアクティブマトリクス型表示装置の製造方法であって、
前記第1の基板の製造において、
透明絶縁性の基板の前記表示領域に薄膜トランジスタを形成する工程と、
前記薄膜トランジスタの上層に無機系絶縁膜を形成する工程と、
前記薄膜トランジスタの電極上の前記無機系絶縁膜を除去して第1のスルーホールを形成する工程と、
前記第1のスルーホールを介して前記薄膜トランジスタの電極と接続される配線と、前記接続配線とを形成する工程と、
前記配線及び前記接続配線の上層に少なくとも有機系絶縁膜を形成する工程と、
前記表示領域の前記配線上の一部の前記有機系絶縁膜を除去して第2のスルーホールを形成すると共に、前記シール領域の前記接続配線を除く領域の一部の前記有機系絶縁膜を除去して凹部を形成する工程と、
前記表示領域に、前記第2のスルーホールを介して前記配線と接続される画素電極を形成する工程と、を少なくとも備え、
前記シール領域に前記シール材を配設して前記第1の基板と前記第2の基板とを接続する際に、該凹部の底部において前記無機系絶縁膜と前記シール材とを接触させることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置の製造方法。 - 前記凹部を、少なくとも、隣り合う前記接続配線に挟まれる領域に形成することを特徴とする請求項6記載のアクティブマトリクス型表示装置の製造方法。
- 画素がマトリクス状に配列された表示領域と、該表示領域周囲のシール材が配設されるシール領域と、該シール領域外側に形成され、前記シール領域を横切る接続配線によって前記表示領域に接続される回路部とを備える第1の基板と、前記第1の基板に対向する第2の基板とを、前記シール材によって接続するアクティブマトリクス型表示装置の製造方法であって、
前記第1の基板の製造において、
透明絶縁性の基板の前記表示領域に薄膜トランジスタを形成する工程と、
前記薄膜トランジスタの上層に無機系絶縁膜を形成する工程と、
前記薄膜トランジスタの電極上の前記無機系絶縁膜を除去して第1のスルーホールを形成する工程と、
前記第1のスルーホールを介して前記前記薄膜トランジスタの電極と接続される配線と、前記接続配線とを形成すると共に、少なくとも前記シール領域に孤立したダミーパターンを形成する工程と、
前記配線及び前記接続配線並びに前記ダミーパターンの上層に少なくとも有機系絶縁膜を形成する工程と、
前記表示領域の前記配線上の一部の前記有機系絶縁膜を除去して第2のスルーホールを形成すると共に、前記シール領域の前記ダミーパターン上の少なくとも一部の前記有機系絶縁膜を除去して凹部を形成する工程と、
前記表示領域に、前記第2のスルーホールを介して前記配線と接続される画素電極を形成する工程と、を少なくとも備え、
前記シール領域に前記シール材を配設して前記第1の基板と前記第2の基板とを接続する際に、該凹部の底部において前記ダミーパターンと前記シール材とを接触させることを特徴とするアクティブマトリクス型表示装置の製造方法。 - 前記ダミーパターンを、少なくとも、隣り合う前記接続配線に挟まれる領域に形成することを特徴とする請求項8記載のアクティブマトリクス型表示装置の製造方法。
- 前記有機系絶縁膜は、前記第1の基板の表層を平坦化するための平坦化膜であることを特徴とする請求項6乃至9のいずれか一に記載のアクティブマトリクス型表示装置の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004374329A JP4947510B2 (ja) | 2004-12-24 | 2004-12-24 | アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法 |
TW094143817A TW200627038A (en) | 2004-12-24 | 2005-12-12 | Active matrix display device and manufacturing method of the same |
US11/299,736 US20060139505A1 (en) | 2004-12-24 | 2005-12-13 | Active matrix display device and manufacturing method of the same |
CNB2005101358217A CN100424576C (zh) | 2004-12-24 | 2005-12-23 | 有源矩阵显示装置及其制造方法 |
KR1020050129102A KR100808039B1 (ko) | 2004-12-24 | 2005-12-23 | 액티브 매트릭스 디스플레이 장치 및 그 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004374329A JP4947510B2 (ja) | 2004-12-24 | 2004-12-24 | アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006178368A true JP2006178368A (ja) | 2006-07-06 |
JP4947510B2 JP4947510B2 (ja) | 2012-06-06 |
Family
ID=36610987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004374329A Expired - Fee Related JP4947510B2 (ja) | 2004-12-24 | 2004-12-24 | アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060139505A1 (ja) |
JP (1) | JP4947510B2 (ja) |
KR (1) | KR100808039B1 (ja) |
CN (1) | CN100424576C (ja) |
TW (1) | TW200627038A (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006201312A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Nec Corp | 液晶表示パネル及び液晶表示装置 |
JP2009278072A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-26 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及び半導体装置の作製方法 |
WO2010058739A1 (ja) * | 2008-11-21 | 2010-05-27 | シャープ株式会社 | 表示パネル用の基板、表示パネル |
JP2010145897A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示装置 |
US7808176B2 (en) | 2005-12-08 | 2010-10-05 | Sony Corporation | Display unit |
JP2010282175A (ja) * | 2009-05-01 | 2010-12-16 | Ricoh Co Ltd | 画像表示パネル及び画像表示装置 |
JP2012054615A (ja) * | 2007-01-04 | 2012-03-15 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co Ltd | Tftアレイ構造及びその製造方法 |
US8144140B2 (en) | 2007-06-13 | 2012-03-27 | Sony Corporation | Display apparatus and method of manufacturing the same |
WO2012144450A1 (ja) * | 2011-04-22 | 2012-10-26 | 京セラ株式会社 | 表示装置 |
KR101495155B1 (ko) * | 2007-06-13 | 2015-02-24 | 소니 주식회사 | 표시 장치 및 그 제조 방법 |
JP2015148795A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-08-20 | パナソニック株式会社 | 表示装置 |
US9577215B2 (en) | 2014-07-09 | 2017-02-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device with glass frit sealing portion |
JP2018120232A (ja) * | 2018-03-06 | 2018-08-02 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示パネル |
KR20210117232A (ko) * | 2014-10-17 | 2021-09-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007024963A (ja) * | 2005-07-12 | 2007-02-01 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 液晶表示装置 |
US8138549B2 (en) * | 2007-01-12 | 2012-03-20 | Chimei Innolux Corporation | System for displaying images |
JP5162952B2 (ja) * | 2007-04-26 | 2013-03-13 | 日本電気株式会社 | 液晶表示装置用反射板の製造方法、液晶表示装置及び液晶表示装置用アレイ基板 |
JP5240718B2 (ja) * | 2009-02-20 | 2013-07-17 | パナソニック株式会社 | 有機elモジュール |
KR101233348B1 (ko) | 2010-06-09 | 2013-02-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR102419179B1 (ko) * | 2015-09-11 | 2022-07-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
KR102574483B1 (ko) * | 2016-04-11 | 2023-09-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
CN105932030B (zh) * | 2016-06-08 | 2019-07-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板及其制作方法、显示装置 |
WO2019058485A1 (ja) * | 2017-09-21 | 2019-03-28 | シャープ株式会社 | 表示デバイス |
CN109541825A (zh) * | 2018-09-30 | 2019-03-29 | 重庆惠科金渝光电科技有限公司 | 一种显示面板的制作方法和显示面板 |
CN110032007B (zh) * | 2019-04-25 | 2022-05-13 | 厦门天马微电子有限公司 | 一种显示面板及显示装置 |
KR20210099233A (ko) | 2020-02-03 | 2021-08-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
CN114815421B (zh) * | 2022-04-21 | 2024-04-19 | 南京京东方显示技术有限公司 | 阵列基板、显示面板及显示设备 |
JP2024036976A (ja) * | 2022-09-06 | 2024-03-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
JP2024036841A (ja) * | 2022-09-06 | 2024-03-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0487822A (ja) * | 1990-07-31 | 1992-03-19 | Mazda Motor Corp | 車両のサスペンション装置 |
JP2000347173A (ja) * | 1999-05-21 | 2000-12-15 | Lg Philips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置とその製造方法 |
JP2003167258A (ja) * | 2001-12-03 | 2003-06-13 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5557436A (en) * | 1994-05-12 | 1996-09-17 | Magnascreen Corporation | Thin seal liquid crystal display and method of making same |
US6088070A (en) * | 1997-01-17 | 2000-07-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Active matrix liquid crystal with capacitor between light blocking film and pixel connecting electrode |
JPH11148078A (ja) * | 1997-11-18 | 1999-06-02 | Sanyo Electric Co Ltd | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
US6433841B1 (en) * | 1997-12-19 | 2002-08-13 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical apparatus having faces holding electro-optical material in between flattened by using concave recess, manufacturing method thereof, and electronic device using same |
EP0990942A4 (en) * | 1998-03-19 | 2005-07-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Liquid crystal display and method for the production thereof |
JP2000343435A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-12-12 | Asahi Glass Co Ltd | ブラストメディア及びブラスト方法 |
KR100315208B1 (ko) * | 1999-12-17 | 2001-11-26 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시소자 및 그 제조방법 |
GB2396244B (en) * | 2002-12-09 | 2006-03-22 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Array substrate having color filter on thin film transistor s tructure for LCD device and method of fabricating the same |
KR100845408B1 (ko) * | 2002-12-31 | 2008-07-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 |
KR100972148B1 (ko) * | 2002-12-31 | 2010-07-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | 씰패턴 하부의 적층구조에 특징을 가지는 액정표시장치 |
JP2004311791A (ja) * | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Sharp Corp | 照明装置、バックライト装置および表示装置 |
-
2004
- 2004-12-24 JP JP2004374329A patent/JP4947510B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-12-12 TW TW094143817A patent/TW200627038A/zh unknown
- 2005-12-13 US US11/299,736 patent/US20060139505A1/en not_active Abandoned
- 2005-12-23 CN CNB2005101358217A patent/CN100424576C/zh active Active
- 2005-12-23 KR KR1020050129102A patent/KR100808039B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0487822A (ja) * | 1990-07-31 | 1992-03-19 | Mazda Motor Corp | 車両のサスペンション装置 |
JP2000347173A (ja) * | 1999-05-21 | 2000-12-15 | Lg Philips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置とその製造方法 |
JP2003167258A (ja) * | 2001-12-03 | 2003-06-13 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006201312A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Nec Corp | 液晶表示パネル及び液晶表示装置 |
US7808176B2 (en) | 2005-12-08 | 2010-10-05 | Sony Corporation | Display unit |
JP2012054615A (ja) * | 2007-01-04 | 2012-03-15 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co Ltd | Tftアレイ構造及びその製造方法 |
US8816346B2 (en) | 2007-01-04 | 2014-08-26 | Beijing Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | TFT array substrate and manufacturing method thereof |
KR101495155B1 (ko) * | 2007-06-13 | 2015-02-24 | 소니 주식회사 | 표시 장치 및 그 제조 방법 |
US8144140B2 (en) | 2007-06-13 | 2012-03-27 | Sony Corporation | Display apparatus and method of manufacturing the same |
US9246009B2 (en) | 2008-04-18 | 2016-01-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
JP2009278072A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-26 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及び半導体装置の作製方法 |
US9006051B2 (en) | 2008-04-18 | 2015-04-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
WO2010058739A1 (ja) * | 2008-11-21 | 2010-05-27 | シャープ株式会社 | 表示パネル用の基板、表示パネル |
JP2010145897A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶表示装置 |
JP2010282175A (ja) * | 2009-05-01 | 2010-12-16 | Ricoh Co Ltd | 画像表示パネル及び画像表示装置 |
JP5627768B2 (ja) * | 2011-04-22 | 2014-11-19 | 京セラ株式会社 | 表示装置 |
JPWO2012144450A1 (ja) * | 2011-04-22 | 2014-07-28 | 京セラ株式会社 | 表示装置 |
WO2012144450A1 (ja) * | 2011-04-22 | 2012-10-26 | 京セラ株式会社 | 表示装置 |
US9304346B2 (en) | 2011-04-22 | 2016-04-05 | Kyocera Corporation | Display device including seal material with improved adhesion strength for bonding two substrates together |
JP2015148795A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-08-20 | パナソニック株式会社 | 表示装置 |
US9577215B2 (en) | 2014-07-09 | 2017-02-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device with glass frit sealing portion |
KR20210117232A (ko) * | 2014-10-17 | 2021-09-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
KR102420078B1 (ko) * | 2014-10-17 | 2022-07-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 |
JP2018120232A (ja) * | 2018-03-06 | 2018-08-02 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示パネル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1800957A (zh) | 2006-07-12 |
KR20060073531A (ko) | 2006-06-28 |
JP4947510B2 (ja) | 2012-06-06 |
KR100808039B1 (ko) | 2008-02-28 |
CN100424576C (zh) | 2008-10-08 |
US20060139505A1 (en) | 2006-06-29 |
TW200627038A (en) | 2006-08-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4947510B2 (ja) | アクティブマトリクス型表示装置及びその製造方法 | |
US7396695B2 (en) | Wire structure, a thin film transistor substrate of using the wire structure and a method of manufacturing the same | |
US7608494B2 (en) | Thin film transistor array panel and a method for manufacturing the same | |
JP5766395B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
US8558981B2 (en) | Display device and manufacturing method therefor | |
JP6382496B2 (ja) | 薄膜トランジスタアレイ基板及びその製造方法 | |
JP2007173652A (ja) | 薄膜トランジスタ装置およびその製造方法、ならびに、該薄膜トランジスタ装置を備えた表示装置 | |
CN100477171C (zh) | 制造双层导线结构的薄膜晶体管显示器阵列的方法 | |
JP2007148345A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
US9502536B2 (en) | Manufacturing method of thin film transistor display panel | |
US20100187538A1 (en) | Thin film transistor array panel and method for manufacturing the same | |
JP5040222B2 (ja) | 表示装置 | |
WO2017140058A1 (zh) | 阵列基板及其制作方法、显示面板及显示装置 | |
KR20070009329A (ko) | 컨택홀 형성 방법 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 기판의제조 방법 | |
WO2015143818A1 (zh) | 阵列基板及其制造方法、显示装置 | |
US8420458B2 (en) | Semiconductor device and method of producing same | |
US8625040B2 (en) | Array substrate for use in displays, and method of manufacturing the same | |
KR102356827B1 (ko) | 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 | |
JP2002176179A (ja) | 電気光学装置および電気光学装置の製造方法、並びに半導体装置 | |
KR20020089625A (ko) | 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 | |
JPH11326941A (ja) | アクティブマトリクス表示装置 | |
JP3989662B2 (ja) | 液晶装置及びその製造方法 | |
KR20060102172A (ko) | 박막 트랜지스터 표시판 | |
JP2010114160A (ja) | 半導体素子およびその製造方法並びに表示装置 | |
KR100569265B1 (ko) | 박막트랜지스터-액정표시장치의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071119 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110128 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110318 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111104 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120221 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120227 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150316 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |