JP2006156962A - 炭化珪素半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】トレンチ5の両側に位置するP+型ベース領域3を酸化膜8の最下方位置よりも下方に位置させ、トレンチ5の底面においてN−型チャネル層6を2つのP+型ベース領域3で両側から挟みこんだジャンクション構造とする。これにより、オフ時のドレイン電位がジャンクション構造によって遮られ、ドレインの電位に基づく高電位がN−型チャネル層6の上方に入り込み難くなる。よって、トレンチ5の底面と側壁面との角部での電界集中を防止でき、その部分の酸化膜8を破壊から保護できる。このような構成では、トレンチ5がN−型ドリフト層2とP+型ベース領域3の界面のあたりまで掘られていれば済むため、トレンチ5の深さが増大することもない。
【選択図】図1
Description
図1に、本発明の第1実施形態におけるトレンチ型の縦型パワーMOSFETのセル領域の断面構成を示す。以下、この図を本実施形態の縦型パワーMOSFETの構造について説明する。
まず、主表面が[1−100]オフ面となっているN+型基板1の表面に、N−型ドリフト層2、P+型ベース領域3およびN+型ソース領域4がエピタキシャル成長させられた基板を用意する。例えば、N+型基板1のドーパント濃度は1×1019cm−3、N−型ドリフト層2のドーパント濃度は5×1015cm−3、P+型ベース領域3のドーパント濃度は5×1018cm−3、N+型ソース領域4のドーパント濃度は1×1020cm−3となっている。そして、このような基板の表面は、各層がN+型基板1の表面状態を承継するため、[1−100]オフ面となっている。
基板の表面にトレンチ5の形成予定位置が開口したマスクを作成し、このマスクの上から4〜5μmエッチングを行う。これにより、トレンチ5が形成される。このとき、例えば、トレンチ5の側壁面が(1−100)面または(11−20)面と一致するようなレイアウトを採用している。
トレンチ5の形成時に用いたマスクを除去したのち、CVD法により、N−型層31を形成し、そのまま続けてN+型層32を形成する。例えば、1600℃、成長レート1.0μm/h、C/Si原料ガス導入比が1.0以下となる条件下においてN−型層31およびN+型層32を形成している。このとき、N−型層31およびN+型層32にN型不純物としてNが導入されるように、例えば窒素(N2)を雰囲気中に導入する。
このとき、トレンチ5に関しては、トレンチ5の底面上に形成されるものと、側壁面上に形成されるもの、さらには基板の表面上に形成されるものとで、N−型層31およびN+型層32の膜厚やドーパント濃度が変わる。具体的には、不純物層のうちトレンチ5の側壁面上に形成される部分の方が底面上に形成される部分よりも膜厚が薄く、ドーパント濃度が高くなる。また、不純物層のうちトレンチ5の底面上に形成される部分の方が基板の表面上に形成される部分よりも厚くなる。
d2=2×d1
(数2)
d2=3×d3
なお、この膜厚の関係は、成長条件などによって変わるもので、例えば、数式2ではd2がd3の3倍となるものとして示してあるが、およそ1〜5倍の範囲となる。例えば、N−型層31およびN+型層32の成長レートが、トレンチ5の側壁面上では100nm/hrとなるのに対し、トレンチ5の底面上では100〜500nm/hrとなるため、上記範囲となる。
エッチバック処理により、N−型層31およびN+型層32のうち基板の表面上に形成された部分を除去する。これにより、N+型ソース領域4が露出すると共に、トレンチ5内に残されたN−型層31により、N−型チャネル層6が形成される。
必要に応じて犠牲酸化等を行った後、熱酸化によってN+型層32を酸化させることで、N型不純物がドーピングされた酸化膜8を形成する。この酸化膜8にドーピングされたN型不純物の濃度は、基本的には、酸化されるN+型層32に含まれているN型不純物の濃度となる。
酸化膜8の表面に、不純物をドーピングしたポリシリコン層または金属層を配置した後、それをエッチバックすることで、トレンチ5内を埋め込むためのもののみを残すことで、ゲート電極9を形成する。
本発明の第2実施形態について説明する。図11(a)は、本実施形態における炭化珪素半導体装置であるMOSFETの断面構成を示したもので、図11(b)は、図11(a)に示すMOSFETにおけるE−F線上におけるP型不純物のドーパント濃度のプロファイルを示したものである。以下、図11(a)、(b)を参照して、本実施形態のMOSFETについて説明するが、本実施形態のMOSFETの基本構造は、第1実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
(第3実施形態)
本発明の第3実施形態について説明する。図12(a)は、本実施形態における炭化珪素半導体装置であるMOSFETの断面構成を示したもので、図12(b)、(c)は、図12(a)に示すMOSFETにおけるG−H線上におけるP型不純物のドーパント濃度のプロファイルとI−J線上におけるN型不純物のドーパント濃度のプロファイルを示したものである。以下、図12(a)〜(c)を参照して、本実施形態のMOSFETについて説明するが、本実施形態のMOSFETの基本構造は、第1実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第4実施形態について説明する。図13は、本実施形態における炭化珪素半導体装置であるIGBTの断面構成を示したものである。
本発明の第5実施形態について説明する。図14は、本実施形態における炭化珪素半導体装置であるIGBTの断面構成を示したものである。以下、図14を参照して、本実施形態のIGBTについて説明するが、本実施形態のIGBTの基本構造は、第4実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
本発明の第6実施形態について説明する。図15は、本実施形態における炭化珪素半導体装置であるIGBTの断面構成を示したものである。以下、図15を参照して、本実施形態のIGBTについて説明するが、本実施形態のIGBTの基本構造は、第5実施形態と同様であるため、異なる部分についてのみ説明する。
上記各実施形態では、第1導電型をN型、第2導電型をP型とし、N型のチャネルが構成されるNチャネルタイプの縦型パワーMOSFETやIGBTとを例に挙げて説明したが、第1導電型をP型、第2導電型をN型とし、P型のチャネルが構成されるPチャネルタイプの縦型パワーMOSFETやIGBTに対しても本発明を適用することが可能である。
Claims (16)
- 第1導電型または第2導電型の炭化珪素基板(1、61)の上に、該炭化珪素基板(1、61)よりも低濃度な第1導電型の炭化珪素からなる第1半導体層(2)、第2導電型の炭化珪素からなる第2半導体層(3)、第1導電型の炭化珪素からなる第3半導体層(4)が順に形成された半導体基板と、
前記半導体基板のセル領域に形成された、前記第3、第2半導体層(4、3)を貫通して前記第1半導体層(2)まで達するトレンチ(5)と、
前記トレンチ(5)の側壁面および底面上に形成された第1導電型のチャネル層(6)と、
前記トレンチ(5)内において、前記チャネル層(6)の上に形成された、ゲート酸化膜として機能する部分を含む酸化膜(8)と、
前記トレンチ(5)内において、前記酸化膜(8)の表面に形成されたゲート電極(9)と、
前記第3半導体層(4)と電気的に接続される第1電極(14)と、
前記炭化珪素基板(1、61)に電気的に接続される第2電極(19)とを備え、
前記トレンチ(5)内での前記酸化膜(8)における最下方位置よりも前記第1半導体層(2)と前記第2半導体(3)との境界位置の方が下方に位置していることを特徴とする炭化珪素半導体装置。 - 前記第2半導体層(3)における第2導電型の不純物濃度は、前記トレンチ(5)の底面部における前記酸化膜(8)の高さ位置から、前記第1半導体層(2)と前記第2半導体層(3)の界面に至るまでの領域において、徐々に低濃度になっており、
前記チャネル層(6)における第1導電型の不純物濃度は、前記第1半導体層(2)の第1導電型の不純物濃度よりも高いことを特徴とする請求項1に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記トレンチ(5)の底面において、前記酸化膜(8)の下方に形成された第1導電型の低抵抗層(7)を備え、
前記酸化膜(8)の最下方位置から前記トレンチ(5)の底面までの長さが前記低抵抗層(7)の膜厚と前記チャネル層(6)の膜厚との和に相当していることを特徴とする請求項1に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記第2半導体層(3)における第2導電型の不純物濃度は、前記低抵抗層(7)の底部に相当する高さ位置から、前記第1半導体層(2)と前記第2半導体層(3)の界面に至るまでの領域において、徐々に低濃度になっており、
前記チャネル層(6)の第1導電型不純物濃度は、前記低抵抗層(7)の第1導電型不純物濃度よりも低濃度で、且つ前記第1半導体層(2)の第1導電型不純物濃度よりも高濃度になっていることを特徴とする請求項3に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記トレンチ(5)の側壁面の面方位が(1−100)面または(11−20)面であり、
前記チャネル層(6)は、前記トレンチ(5)の側壁面上よりも底面上の方が厚くなっていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記チャネル層(6)の膜厚は、前記トレンチ(5)の底面上に形成される部分が側壁面上に形成される部分の1〜5倍となっていることを特徴とする請求項5に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記チャネル層(6)における第1導電型不純物のドーパント濃度は、前記トレンチ(5)の側壁面上に形成される部分が底面上に形成される部分の1〜5倍となっていることを特徴とする請求項5または6に記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記炭化珪素基板(1)が第1導電型であり、該炭化珪素基板(1)の裏面から前記第1半導体層(2)に達する複数のトレンチ(40)が形成されていると共に、該複数のトレンチ(40)内が第2導電型の不純物層(41)で埋め込まれ、前記第2電極(19)が前記炭化珪素基板(1)および前記不純物層(41)と接した構成となっていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1つに記載の炭化珪素半導体装置。
- 前記炭化珪素基板(61)が第2導電型であり、該炭化珪素基板(61)の裏面から前記第1半導体層(2)に達する複数のトレンチ(50)が形成されていると共に、該複数のトレンチ(50)内が第1導電型の不純物層(51)で埋め込まれ、前記第2電極(19)が前記炭化珪素基板(61)および前記不純物層(51)と接した構成となっていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1つに記載の炭化珪素半導体装置。
- 第1導電型または第2導電型の炭化珪素基板(1、61)の上に、該炭化珪素基板(1、61)よりも低濃度な第1導電型の炭化珪素からなる第1半導体層(2)、第2導電型の炭化珪素からなる第2半導体層(3)、第1導電型の炭化珪素からなる第3半導体層(4)が順に形成された、前記炭化珪素基板(1、61)と前記第1〜第3半導体層(2〜4)とを有してなる半導体基板を用意する工程と、
前記半導体基板のセル領域において、前記第3、第2半導体層(4、3)を貫通して前記第1半導体層(2)まで達するトレンチ(5)を形成する工程と、
前記トレンチ(5)内に、エピタキシャル成長によって、前記トレンチ(5)における側壁面上よりも底面上の方が厚くなるように第1導電型の第4半導体層(31)を形成する工程と、
熱酸化により、前記トレンチ(5)の内壁に、前記第4半導体層(31)と接するゲート酸化膜として機能する部分を含む酸化膜(8)を形成し、前記第4半導体層(31)によってチャネル層(6)を構成する工程と、
前記トレンチ(5)内において、前記酸化膜(8)の表面にゲート電極(9)を形成する工程と、
前記第3半導体層(4)と電気的に接続される第1電極(14)を形成する工程と、
前記炭化珪素基板(1)に電気的に接続される第2電極(19)を形成する工程とを含み、
前記酸化膜(8)を形成する工程では、前記トレンチ(5)内における前記酸化膜(8)の最下方位置よりも前記第1半導体層(2)と前記第2半導体(3)との境界位置の方が下方に位置するように、前記熱酸化を行うことを特徴とする炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記トレンチ(5)の側壁面および底面上において、前記第4半導体層(31)の上に該第4半導体層(31)よりも第1導電型不純物のドーパント濃度が高い第5半導体層(32)を形成する工程を含み、
前記酸化膜(8)を形成する工程では、前記第5半導体層(32)のうちの前記トレンチ(5)の側壁面上に形成された部分が完全に酸化するまで熱酸化を行うことで、前記酸化膜(8)を形成し、これにより、前記トレンチ(5)の底面において、前記第5半導体層(32)を酸化させないまま残すことで前記酸化膜(8)の下方に第1導電型の低抵抗層(7)を形成するようになっていることを特徴とする請求項10に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記トレンチ(5)を形成する工程では、前記トレンチ(5)の側壁面の面方位を(1−100)面または(11−20)面とすることを特徴とする請求項10または11に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
- 前記第4半導体層(32)を形成する工程では、該第4半導体層(32)の膜厚のうち、前記トレンチ(5)の底面上に形成される部分を側壁面上に形成される部分の1〜5倍とすることを特徴とする請求項11または12に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
- 前記第4半導体層(32)を形成する工程では、前記トレンチ(5)の側壁面上に形成される部分が底面上に形成される部分の1〜5倍となるように、該第4半導体層(32)における第1導電型不純物のドーパント濃度を設定することを特徴とする請求項12または13に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
- 前記半導体基板を用意する工程において、前記炭化珪素基板(1)として第1導電型のものを用意した場合において、
前記炭化珪素基板(1)の裏面に、前記第1半導体層(2)に達する複数のトレンチ(40)を形成する工程と、
前記複数のトレンチ(40)内を第2導電型の不純物層(41)で埋め込む工程と、を含んでいることを特徴とする請求項10ないし14のいずれか1つに記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記半導体基板を用意する工程において、前記炭化珪素基板(61)として第2導電型のものを用意した場合において、
前記炭化珪素基板(61)の裏面に、前記第1半導体層(2)に達する複数のトレンチ(50)を形成する工程と、
前記複数のトレンチ(50)内を第1導電型の不純物層(51)で埋め込む工程と、を含んでいることを特徴とする請求項10ないし14のいずれか1つに記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
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