JP2006012902A - ウエーハの加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 表面に格子状に形成された分割予定ライン21によって区画された領域に機能素子が形成されたウエーハ2を、個々のチップに分割するウエーハの加工方法であって、ウエーハ2の裏面側から分割予定ライン21に沿ってレーザー光線524を照射し、ウエーハ2の表面からチップの仕上がり厚さに相当する位置より裏面側に変質層210を形成する変質層形成工程と、ウエーハ2に外力を付与し、ウエーハ2を分割予定ライン21に沿って個々のチップに分割する分割工程と、個々のチップに分割されたウエーハの裏面を研削し、チップの仕上がり厚さに形成する裏面研削工程とを含む。
【選択図】 図7
Description
ウエーハの裏面側から分割予定ラインに沿ってウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射し、ウエーハの表面からチップの仕上がり厚さに相当する位置より裏面側に変質層を形成する変質層形成工程と、
分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハに外力を付与し、ウエーハを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割する分割工程と、
個々のチップに分割されたウエーハの裏面を研削し、チップの仕上がり厚さに形成する裏面研削工程と、を含む、
ことを特徴とするウエーハの加工方法が提供される。
上記分割工程は、変質層が形成された分割予定ラインを加熱することによりウエーハに熱応力を発生せしめる。
また、上記分割工程は変質層形成工程が実施されたウエーハの裏面を環状のフレームに装着された伸縮性を有する支持テープに貼着するフレーム支持工程と、ウエーハの裏面が貼着された支持テープを拡張するテープ拡張工程とを含み、上記裏面研削工程はテープ拡張工程を実施した後にウエーハを支持テープから剥離するウエーハ剥離工程を含み、ウエーハの表面に保護テープが貼着された状態でウエーハの裏面を研削する。
ウエーハの表面を環状のフレームに装着された支持テープに貼着するフレーム支持工程と、
環状のフレームに支持テープを介して支持されたウエーハの裏面側から分割予定ラインに沿ってウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射し、ウエーハの表面からチップの仕上がり厚さに相当する位置より裏面側に変質層を形成する変質層形成工程と、
分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハに外力を付与し、ウエーハを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割する分割工程と、
個々のチップに分割されたウエーハの裏面を研削し、チップの仕上がり厚さに形成する裏面研削工程と、を含む、
ことを特徴とするウエーハの加工方法が提供される。
上記分割工程は、変質層が形成された分割予定ラインを加熱することによりウエーハに熱応力を発生せしめる。
また、上記環状のフレームに装着された支持テープは伸張可能なテープからなっており、上記分割工程は支持テープを拡張する。
この変質層形成工程は、先ず上述した図4に示すレーザー加工装置5のチャックテーブル51上に裏面2bが研磨加工された半導体ウエーハ2の保護テープ3側を載置し(従って、半導体ウエーハ2は研磨加工された裏面2bが上側となる)、図示しない吸引手段によってチャックテーブル51上に半導体ウエーハ2を吸着保持する。半導体ウエーハ2を吸引保持したチャックテーブル51は、図示しない移動機構によって撮像手段53の直下に位置付けられる。
光源 ;LD励起QスイッチNd:YVO4スレーザー
波長 ;1064nmのパルスレーザー
パルス出力 :10μJ
集光スポット径 ;φ1μm
繰り返し周波数 :100kHz
加工送り速度 ;100mm/秒
分割工程の一実施形態について、図9を参照して説明する。図9に示す分割工程は、上記図4乃至図6に示したレーザー加工装置5と同様のレーザー加工装置を用いて実施する。即ち、図9に示すようにレーザー加工装置5のチャックテーブル51上に分割予定ライン21に沿って変質層210が形成された半導体ウエーハ2の保護テープ3側を載置し(従って、半導体ウエーハ2は裏面2bが上側となる)、図示しない吸引手段によって吸着保持する。次に、チャックテーブル51をレーザー光線照射手段の集光器524が位置するレーザー光線照射領域に移動し、所定の分割予定ライン21の一端(図9において左端)を集光器524の直下に位置付ける。そして、集光器524から半導体ウエーハ2に対して吸収性を有する連続波レーザー光線を照射しつつチャックテーブル51即ち半導体ウエーハ2を図9において矢印X1で示す方向に所定の加工送り速度で移動せしめ、所定の分割予定ライン21の他端(図9において右端)が集光器524の照射位置に達したら、レーザー光線の照射を停止するとともにチャックテーブル51即ち半導体ウエーハ2の移動を停止する。この分割工程においては、連続波レーザー光線の集光点Pを半導体ウエーハ2の裏面2b(上面)に合わせ、変質層210が形成された分割予定ライン21を加熱することにより熱応力を発生せしめ、ヒートショックを与える。この結果、半導体ウエーハ2は、変質層210が形成された分割予定ライン21に沿って割断部が形成され分割される。なお、分割工程において変質層210が形成された分割予定ライン21に沿って照射するレーザー光線は、半導体ウエーハ2を加熱して適度な温度勾配(100〜400°C)を与える程度の出力で十分であり、シリコンウエーハを溶融させることはない。
光源 ;LD励起Nd:YAG第二高調波レーザー(CW)
波長 ;532nm
出力 :10W
集光スポット径 :φ0.5mm(変質層110を含む比較的広い領域を加熱する)
加工送り速度 :100mm/秒
この実施形態においては、先ず半導体ウエーハ2の裏面2bを環状のフレームに装着された伸長可能な支持テープの表面に貼着するフレーム支持工程を実施する。即ち、図10に示すように環状のフレーム6に装着された支持テープ60の表面に半導体ウエーハ2の裏面2bを貼着する(従って、半導体ウエーハ2の表面2aに貼着されている保護テープ3が上側となる)。なお、上記支持テープ60は、図示の実施形態においては厚さが70μmのポリ塩化ビニル(PVC)からなるシート基材の表面にアクリル樹脂系の糊が厚さが5μm程度塗布されている。
即ち、支持テープ60に貼着された半導体ウエーハ2(分割予定ライン21に沿って変質層210が形成されている)を柔軟なゴムシート上に載置し、その上面をローラーによって押圧することによって、半導体ウエーハ2を変質層210が形成され強度が低下した分割予定ライン21に沿って割断する方法を用いることができる。また、変質層210が形成され強度が低下した分割予定ライン21に沿って例えば周波数が28kHz程度の縦波(疎密波)からなる超音波を作用せしめる方法や、変質層210が形成され強度が低下した分割予定ライン21に沿って押圧部材を作用せしめる方法等を用いることができる。
以上のようにして裏面研削工程が実施されたならば、個々の半導体チップ20に分割された半導体ウエーハ2は、半導体チップ20をピックアップするピックアップ工程に搬送される。
この実施形態においては、先ず半導体ウエーハの表面を環状のフレームに装着された支持テープの表面に貼着するフレーム支持工程を実施する。即ち、図17に示すように環状のフレーム6に装着された支持テープ60の表面に半導体ウエーハ2の表面2aを貼着する(従って、半導体ウエーハ2の裏面2bが上側となる)。なお、支持テープ60は、上記図10に示す実施形態における支持テープ60と同様のテープを用いることができる。
21:分割予定ライン
210:変質層
22:回路
20:半導体チップ
3:保持テープ
4:研磨装置
41:研磨装置のチャックテーブル
42:研磨砥石
5:レーザー加工装置
51:レーザー加工装置のチャックテーブル
52:レーザー光線照射手段
53:撮像手段
6:環状のフレーム
60:支持テープ
4:環状のフレーム
5:保持テープ
7:分割装置
71:フレーム保持手段
72:テープ拡張手段
73:支持手段
8:研削装置
81:研削装置のチャックテーブル
82:研削砥石
Claims (11)
- 表面に格子状に形成された分割予定ラインによって区画された領域に機能素子が形成されたウエーハを、分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するウエーハの加工方法であって、
ウエーハの裏面側から分割予定ラインに沿ってウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射し、ウエーハの表面からチップの仕上がり厚さに相当する位置より裏面側に変質層を形成する変質層形成工程と、
分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハに外力を付与し、ウエーハを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割する分割工程と、
個々のチップに分割されたウエーハの裏面を研削し、チップの仕上がり厚さに形成する裏面研削工程と、を含む、
ことを特徴とするウエーハの加工方法。 - 該変質層形成工程の前にウエーハの表面に保護テープを貼着する保護テープ貼着工程を実施する、請求項1記載のウエーハの加工方法。
- 該保護テープ貼着工程を実施した後、該変質層形成工程を実施する前にウエーハの裏面を研磨する研磨加工工程を実施する、請求項2記載のウエーハの加工方法。
- 該変質層形成工程によって形成される変質層の厚さは、ウエーハの厚さに対して50%以上に設定されている、請求項1から3のいずれかに記載のウエーハの加工方法。
- 該分割工程は、変質層が形成された分割予定ラインを加熱することによりウエーハに熱応力を発生せしめる、請求項1から4のいずれかに記載のウエーハの加工方法。
- 該分割工程は、該変質層形成工程が実施されたウエーハの裏面を環状のフレームに装着された伸張可能な支持テープに貼着するフレーム支持工程と、ウエーハの裏面が貼着された支持テープを拡張するテープ拡張工程とを含み、
該裏面研削工程は、該テープ拡張工程を実施した後にウエーハを支持テープから剥離するウエーハ剥離工程を含み、ウエーハの表面に保護テープが貼着された状態でウエーハの裏面を研削する、請求項2から4のいずれかに記載のウエーハの加工方法。 - 表面に格子状に形成された分割予定ラインによって区画された領域に機能素子が形成されたウエーハを、分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するウエーハの加工方法であって、
ウエーハの表面を環状のフレームに装着された支持テープに貼着するフレーム支持工程と、
環状のフレームに支持テープを介して支持されたウエーハの裏面側から分割予定ラインに沿ってウエーハに対して透過性を有するレーザー光線を照射し、ウエーハの表面からチップの仕上がり厚さに相当する位置より裏面側に変質層を形成する変質層形成工程と、
分割予定ラインに沿って変質層が形成されたウエーハに外力を付与し、ウエーハを分割予定ラインに沿って個々のチップに分割する分割工程と、
個々のチップに分割されたウエーハの裏面を研削し、チップの仕上がり厚さに形成する裏面研削工程と、を含む、
ことを特徴とするウエーハの加工方法。 - 該フレーム保持工程を実施した後、該変質層形成工程を実施する前にウエーハの裏面を研磨する研磨加工工程を実施する、請求項7記載のウエーハの加工方法。
- 該変質層形成工程によって形成される変質層の厚さは、ウエーハの厚さに対して50%以上に設定されている、請求項7又は8記載のウエーハの加工方法。
- 該分割工程は、変質層が形成された分割予定ラインを加熱することによりウエーハに熱応力を発生せしめる、請求項7から9のいずれかに記載のウエーハの加工方法。
- 環状のフレームに装着された支持テープは伸張可能なテープからなっており、該分割工程は支持テープを拡張する、請求項7から9のいずれかに記載のウエーハの加工方法。
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