JP2003500398A - テトラゾリノン誘導体 - Google Patents

テトラゾリノン誘導体

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JP2003500398A
JP2003500398A JP2000619784A JP2000619784A JP2003500398A JP 2003500398 A JP2003500398 A JP 2003500398A JP 2000619784 A JP2000619784 A JP 2000619784A JP 2000619784 A JP2000619784 A JP 2000619784A JP 2003500398 A JP2003500398 A JP 2003500398A
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幸喜 渡辺
敏男 五島
整志 伊藤
ちえこ 上野
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日本バイエルアグロケム株式会社
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D257/00Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D257/02Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
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    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01NPRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N47/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid
    • A01N47/08Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid the carbon atom having one or more single bonds to nitrogen atoms
    • A01N47/28Ureas or thioureas containing the groups >N—CO—N< or >N—CS—N<
    • A01N47/38Ureas or thioureas containing the groups >N—CO—N< or >N—CS—N< containing the group >N—CO—N< where at least one nitrogen atom is part of a heterocyclic ring; Thio analogues thereof

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Abstract

(57)【要約】 本発明により、式(I)[式中、R1はメチル又はエチルを示し、R2はハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、フェニル、フェノキシ、アルコキシカルボニル、ニトロ又はシアノを示し、そしてnは0、1、2、3、4又は5を示す]により表わされる新規なテトラゾリノン誘導体、それらの製造方法及び中間体並びに除草剤としてのそれらの使用が見いだされた。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、新規なテトラゾリノン誘導体、それらの製造法及び除草剤としての
利用に関する。
【0002】 日本特開平7−82258号、特開平7−97372号及び特開平7−118
246号公報には、ある種のテトラゾリノン誘導体の製造法及びそれらの中間体
である1−置換−5(4H)−テトラゾリノンの製造法が開示されている。また
、EP−A−146,279はある種のテトラゾリノン誘導体が除草活性を有す
ることを開示している。
【0003】 しかし、既知のテトラゾリノン誘導体はそれらの除草効果および作物に対する
それらの植物毒性の点で充分に満足できるものではなかった。
【0004】 本発明によると、今回、一般式(I)
【0005】
【化6】
【0006】 [式中、R1はメチル又はエチルを示し、 R2はハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アル
キルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、フ
ェニル、フェノキシ、アルコキシカルボニル、ニトロ又はシアノを示し、そして
nは0、1、2、3、4又は5を示す] の新規なテトラゾリノン誘導体が見出された。
【0007】 本発明に従う式(I)の化合物は、 a)一般式(II)
【0008】
【化7】
【0009】 [式中、 R1は前記と同義である] の化合物を、不活性溶媒の存在下にそして、適宜、塩基の存在下に、一般式(I
II)
【0010】
【化8】
【0011】 [式中、 R2及びnは前記と同義であり、そして Mは脱離基、例えばクロル、ブロムを示す] の化合物と反応させる 方法により得ることができる。
【0012】 本発明の式(I)の化合物は強力な除草活性を有しており、特に、式(I)の
化合物に類似する前記EP−A−146,279に記載の既知の化合物に比して
、非常に卓越した除草作用効果を示す。それにもかかわらず本発明の化合物は作
物に対して良好な親和性を示す。従って、本発明の化合物は農薬、殊に除草剤と
して効果的に使用することができる。
【0013】 前記の式において、 「ハロゲン」、「ハロアルキル」、「ハロアルコキシ」及び「ハロアルキルチ
オ」におけるハロゲンは、フルオル、クロル、ブロム又はヨード、そして好まし
くはフルオル、クロル又はブロムを示す。
【0014】 「アルキル」は直鎖状又は分岐鎖状であることができそして、例えば、メチル
、エチル、n−もしくはiso−プロピル、n−、iso−、sec−もしくは
tert−ブチル、n−もしくはiso−ペンチル、tert−アミル、ペンタ
ン−3−イル、ネオペンチル及びn−ヘキシルが挙げられる。
【0015】 「アルコキシ」は直鎖状又は分岐鎖状であることができそして、例えば、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−、iso−、sec−もし
くはtert−ブトキシ、n−ペンチルオキシ及びn−ヘキシルオキシが挙げら
れる。
【0016】 「アルキルチオ」は直鎖状又は分岐鎖状であることができそして、例えば、メ
チルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ及びn−ブチルチ
オが挙げられる。
【0017】 「アルキルスルフィニル」は直鎖状又は分岐鎖状であることができそして、例
えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、n−プロピルスルフィニル、
イソプロピルスルフィニル及びn−ブチルスルフィニルが挙げられる。
【0018】 「アルキルスルホニル」は直鎖状又は分岐鎖状であることができそして、例え
ば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n−プロピルスルホニル、イソプロ
ピルスルホニル及びn−ブチルスルホニルが挙げられる。
【0019】 「ハロアルキル」は直鎖状又は分岐鎖状であることができそして、例えば、ジ
フルオロメチル、トリフルオロメチル、2−フルオロエチル、2−クロロエチル
、2−ブロモエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、1,1,2,2−テト
ラフルオロエチル、1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル、2,2,3,
3,3−ペンタフルオロプロピル、3−クロロプロピル、1,3−ジフルオロプ
ロパン−2−イル、1,1,1−トリフルオロプロパン−2−イル、2,2,3
,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル及び3−ブロモプロピルが挙げられる
【0020】 「ハロアルコキシ」及び「ハロアルキルチオ」のハロアルキル部分は、上記「
ハロアルキル」と同義であることができる。
【0021】 「アルコキシカルボニル」としては、例えば、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、n−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、n−ブト
キシカルボニルが挙げられる。
【0022】 本発明の好適な群の化合物としては、 R1がメチル又はエチルを示し、 R2がフルオル、クロル、ブロム、C1-4アルキル、C1-4ハロアルキル、C1-4
ルコキシ、C1-4ハロアルコキシ、C1-4アルキルチオ、C1-4ハロアルキルチオ
、C1-4アルキルスルフィニル、C1-4アルキルスルホニル、フェニル、フェノキ
シ、C1-4アルコキシカルボニル、ニトロ又はシアノを示し、そして nが0、1、2、3又は4を示す、 前記式(I)の化合物が挙げられる。
【0023】 本発明の更に好適な群の化合物としては、 R1がメチルを示し、 R2がフルオル、クロル、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、te
rt−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ト
リフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ
、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、メチルスルフィニル、メチルス
ルホニル、フェニル、フェノキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
ニトロ又はシアノを示し、そして nが0、1、2又は3を示す、 前記式(I)の化合物が挙げられる。
【0024】 前記式(I)の化合物の中で、下記式
【0025】
【化9】
【0026】 [式中、*で表わされる炭素原子は不斉炭素原子を示しそしてR1及びR2は前記
と同義である] により示される化合物が特に注目される。このことに基づき、本発明の化合物は
純粋な光学活性エナンチオマーとして又は光学活性エナンチオマーの任意の混合
物の形態で存在することができる。したがって、本発明の前記式(I)の化合物
は光学活性体及びそれらの混合物を包含するものである。
【0027】 製法a)に従い、出発原料として、例えば、1−((S)−α−メチルベンジ
ル)−5(4H)−テトラゾリノン及びN−イソプロピル−N−フェニルカルバ
モイルクロライドを用いる場合、該製法は下記の反応式で表わすことができる:
【0028】
【化10】
【0029】 前記の製法a)において出発原料として用いられる式(II)の化合物は、文
献に未記載の新規化合物であり、そして、例えば、下記の製法により製造するこ
とができる: 製法b)により、一般式(IV)
【0030】
【化11】
【0031】 [式中、 R1は前記と同義である] の化合物をトリメチルシリルアジドと、触媒量の三フッ化ホウ素エーテル錯体の
存在下に反応させ、 又は 製法c)により、前記一般式(IV)の化合物をアジ化ナトリウムと極性溶媒中
で触媒量の塩化アルミニウムの存在下に反応させる。
【0032】 上記製法b)及びc)において出発原料として用いられる一般式(IV)の化
合物は有機化学の分野で知られたイソシアネート類を包含し、そして、例えば、
「新実験化学講座」第14巻、III、1490〜1496頁(丸善株式会社、
昭和53年2月20日発行)に記載の既知の方法に従い、一般式(V)
【0033】
【化12】
【0034】 [式中、 R1は前記と同義である] のアミンを、例えば、ホスゲンと反応させることにより容易に得ることができる
【0035】 上記式(V)の化合物は、例えば、「新実験化学講座」第14巻、III、1
332〜1398頁(丸善株式会社、昭和53年2月20日発行)又はOrga
nic Reactions, Vol.5、1949、301〜330(Jo
hn Wiley & Sons,INC.)に記載されている方法に準じて合
成することができる。
【0036】 前記式(II)の化合物として、下記の種を挙げることができる: 1−((S)−α−メチルベンジル)−5(4H)−テトラゾリノン、 1−((R)−α−メチルベンジル)−5(4H)−テトラゾリノン、 1−((S)−α−エチルベンジル)−5(4H)−テトラゾリノン、 1−((R)−α−エチルベンジル)−5(4H)−テトラゾリノン。
【0037】 上記式(II)の化合物と反応せしめられる式(III)の化合物には、有機
化学の分野でよく知られたN−イソプロピル−N−(置換)フェニルカルバモイ
ルハライドが包含される。それらの代表例として、下記の化合物を挙げることが
できる: N−イソプロピル−N−フェニルカルバモイルクロライド、 N−イソプロピル−N−(4−フルオロフェニル)カルバモイルクロライド、 N−イソプロピル−N−(3−メチルフェニル)カルバモイルクロライド、 N−イソプロピル−N−(4−トリフルオロメチルフェニル)カルバモイルクロ
ライド、 N−イソプロピル−N−(2−エトキシフェニル)カルバモイルクロライド、 N−イソプロピル−N−(4−ジフルオロメトキシフェニル)カルバモイルクロ
ライド、 N−イソプロピル−N−(4−イソプロピルチオフェニル)カルバモイルクロラ
イド、 N−イソプロピル−N−(4−メチルスルフィニルフェニル)カルバモイルクロ
ライド、 N−イソプロピル−N−(4−メチルスルホニルフェニル)カルバモイルクロラ
イド、 N−イソプロピル−N−(4−2,2,2−トリフルオロエチルチオフェニル)
カルバモイルクロライド、 N−イソプロピル−N−(4−フェニルフェニル)カルバモイルクロライド、 N−イソプロピル−N−(3−フェノキシフェニル)カルバモイルクロライド、
N−イソプロピル−N−(2−エトキシカルボニルフェニル)カルバモイルクロ
ライド、 N−イソプロピル−N−(4−ニトロフェニル)カルバモイルクロライド、 N−イソプロピル−N−(4−シアノフェニル)カルバモイルクロライド 並びにこれらクロライドに対応するブロマイド。
【0038】 製法a)の反応は、通常、反応に不活性な有機溶媒中で行われる。そのような
不活性有機溶媒の例としては、脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素類(これらは
場合によっては塩素化されてもよい)、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘ
キサン、石油エーテル、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩素炭素、1,2−ジクロロエタン、クロルベンゼン
、ジクロロベンゼン;エーテル類、例えば、ジエチルエーテル、メチルエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン、ジメトキシ
タン(DME)、テトラヒドロフラン(THF)、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル(DGM);ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル;酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトア
ミド(DMA)、N−メチルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジ
ノン、ヘキサメチルフオスフオリツクトリアミド(HMPA)を挙げることがで
きる。
【0039】 製法a)は塩基の存在下に、好ましくは塩基である4−ジメチルアミノピリジ
ン(DMAP)の存在下に行なうことができる。
【0040】 塩基としてDMAPを用いる場合、製法a)の反応は、通常、約−10〜約2
00℃、好ましくは約25〜約140℃の温度において常圧下で行なわれる。場
合によっては加圧下又は減圧下で行なうことも可能である。
【0041】 また、製法a)の反応はDMAP以外の塩基を用いて実施することも可能であ
る。そのような塩基としては、無機塩類(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム等)、アルキルアルコラート類(例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウム−tert−ブトキシド)、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、有機塩基類(例えば、トリエチルアミン、1,1,4
,4−テトラメチルエチレンジアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン等
)を挙げることができる。
【0042】 これらの塩基を用いて該反応を行なう場合、触媒としてDMAPを用いること
により選択的に式(I)の化合物を得ることができる。
【0043】 この場合の反応温度は、通常、約0〜約150℃、好ましくは約25〜約10
0℃の範囲内とすることができる。該反応は常圧下で行なうことが望ましい。し
かし、場合によっては加圧下又は減圧下で行なうことも可能である。
【0044】 本発明に従う式(I)の望ましい化合物は、例えば、式(II)の化合物1モ
ルを式(III)の化合物約1モル〜約1.5モルと、塩基としてDMAP約1
モル〜約1.5モルの存在下にそして前記の如き不活性溶媒中で反応させること
により得ることができる。式(I)の化合物は、また、式(II)の化合物1モ
ルを式(III)の化合物約1モル〜約1.5モルと、触媒としてDMAP約0
.01モル〜約0.3モル及び塩基として例えば炭酸カリウム約1モル〜約1.
5モルの存在下にそして前記の如き種類の不活性溶媒中で反応させることにより
製造することもできる。
【0045】 かくして得られる本発明の式(I)に従う化合物は、例えば、結晶化、クロマ
トグラフィー等の手段により単離及び精製することができる。
【0046】 前述の製法b)の反応は、触媒として三フッ化ホウ素エーテル錯体を用いて行
なうことができる。反応温度は、通常、約0〜約200℃、好ましくは約50〜
約150℃に保つことができる。反応は常圧下で行なうことが望ましい。しかし
、場合によっては加圧下又は減圧下で行なうことも可能である。
【0047】 製法b)は、通常、式(IV)の化合物1モルをトリメチルシリルアジド約1
モル〜約2モルと、触媒としての三フッ化ホウ素エーテル錯体約0.005モル
〜約0.01モルの存在下に反応させることにより行なわれる。
【0048】 製法c)の反応は、通常、極性溶媒中で行なわれる。そのような極性溶媒とし
ては、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の酸アミド類、
ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類を挙げることができる。
反応温度は、一般に、約0〜約200℃、好ましくは約20〜約150℃とする
ことができる。反応は常圧下で行なうことが望ましい。しかし、場合によっては
加圧下又は減圧下で行なうことも可能である。
【0049】 製法c)は、式(IV)の化合物1モルをアジ化ナトリウム約1モル〜約1.
5モルと、触媒としての塩化アルミニウム約0.05モル〜約1モルの存在下に
そして極性溶媒、例えばジメチルホルムアミド中で反応させることにより行なう
ことができる。
【0050】 本発明に従う式(I)の化合物は、後述する試験例に示すとおり、優れた除草
活性を有しており、雑草を防除するための除草剤として使用することができる。
ここで「雑草」とは広義に望ましくない場所に生育するすべての植物を意味する
【0051】 本発明の化合物は、使用濃度によって非選択性又は選択性除草剤として作用す
る。本発明の活性化合物は、例えば、以下に示す雑草と栽培植物との間で選択的
除草剤として使用することができる。
【0052】 双子葉雑草の属:カラシ(Sinapis)、 マメグンバイナズナ(Lepidium)、ヤエ
ムグラ・キヌタソウ(Galium)、ハコベ(Stellaria)、アカザ・アリタソウ(Che
nopodium)、イラクサ(Urtica)、ハンゴンソウ・ノボロギク・キオン(Senecio)
、ヒユ・ハゲイトウ(Amaranthus)、スベリヒユ・マツバボタン(Portulaca)、
オナモミ(Xanthium)、アサガオ(Ipomoea)、ミチヤナギ(Polygonum)、ブタク
サ(Ambrosia)、 ノアザミ・フジアザミ(Cirsium)、ノゲシ(Sonchus)、 ナス・
ジャガイモ(Solanum)、イヌガラシ(Rorippa)、 オドリコソウ(Lamium)、 クワ
ガタソウ・イヌノフグリ(Veronica)、チョウセンアサガオ(Datura)、 スミレ・
パンジー(Viola)、チシマオドロ(Galeopsis)、 ケシ(Papaver)、ヤグルマギク
(Centaurea)、ハキダメギク(Galinsoga)、キカシグサ(Rotala)、 アゼナ(Li
ndernia)等。
【0053】 双子葉栽培植物の属:ワタ(Gossypium)、 ダイズ(Glycine)、 フダンソウ・サ
トウダイコン(Beta)、 ニンジン(Daucus)、 インゲンマメ・アオイマダ (Phaseo
lus)、エンドウ(Pisum)、ナス・ジャガイモ(Solanum)、アマ(Linum)、サツマ
イモ・アサガオ(Ipomoe)、ソラマメ・ナンテンハギ(Vicia)、 タバコ(Nicotia
na)、トマト(Lycopersicon)、ナンキンマメ(Arachis)、 アブラナ・ハクサイ・
カブラ・キャベツ(Brassica)、アキノノゲシ(Lactuca)、キュウリ・メロン(C
ucumis)、 カボチャ(Cucurbita)等。
【0054】 単子葉雑草の属:ヒエ(Echinochloa)、 エノコロ・アワ(Setaria)、 キビ(Pa
nicum)、メヒシバ(Digitaria)、アワガエリ・チモシー(Phleum)、イチゴツナ
ギ・スズメノカタビラ(Poa)、ウシノケグサ・トボシガラ(Festuca)、 オヒシバ
・シコクビエ(Eleusine)、ドクムギ(Lolium)、キツネガヤ・イヌムギ(Bromus
)、カラスムギ・オートムギ(エンバク)(Avena)、 カヤツリグサ・パピルス・
シチトウイ・ハマスゲ(Cyperus)、モロコシ(Sorghum)、カモジグサ(Agropyro
n)、コナギ(Monochoria)、 テンツキ(Fimbristylis)、オモダカ・クワイ(Sagi
ttaria)、ハリイ・クログワイ(Eleocharis)、ホタルイ・ウキヤグラ・フトイ(S
cirpus)、 スズメノヒエ(Paspalum)、カモノハシ(Ischaemum)、ヌカボ(Agrost
is)、スズメノテッポウ(Alopecurus)、ギョウギシバ(Cynodon)等。
【0055】 単子葉栽培植物の属:イネ(Oryza)、トウモロコシ・ホップコーン(Zea)、コ
ムギ(Triticum)、オオムギ(Hordeum)、カラスムギ・オートムギ(エンパク)
(Avena)、ライムギ(Secale)、モロコシ(Sorghum)、キビ(Panicum)、サトウ
キビ・ワセオバナ(Saccharum)、パイナップル(Ananas)、 アスパラガス(Aspar
agus) 、ネギ・ニラ(Allium)等。
【0056】 本発明によると、全ての植物及び植物部分を処理することができる。植物とい
う用語は全ての植物及び植物集団、例えば望ましい又は望ましくない野生植物及
び栽培植物(自然発生栽培変種を包含する)を包含する。栽培植物は、従来の育
成及び最適化方法によりもしくはバイオテクノロジー及び遺伝子操作手段又はそ
のような方法及び手段の組み合わせにより得られた植物変種であることができ、
トランスジェニック植物を包含しそして植物特許又は植物品種権により保護され
得ない又は保護され得る植物変種を包含する。植物部分は土壌表面の上又は下に
生ずる植物の全ての部分及び器官、例えば枝、葉、針状葉、柄及び茎、幹、花、
果実及び種子並びに根、塊茎、鱗茎及び根茎である。植物部分という用語は収穫
された作物及び繁殖物質、例えば切穂、塊茎、鱗茎、根茎、若枝及び種子を包含
する。
【0057】 本発明によると、植物及び植物部分は一般的な方法を用いて、活性成分又はそ
れらを含有する組成物を植物もしくは組成物部分又はそれらの周辺(土壌を含む
)もしくは貯蔵室に、浸漬、噴霧、散布(dusting)、煙霧処理(fogging)、延
展(spreading)によりそして繁殖物質の場合には一層もしくは多層を用いる被
覆により直接適用することにより処理される。
【0058】 本発明に従う式(I)の化合物の使用は、上記の植物に限定されるものではな
く、他の植物に対しても同様に適用され得る。使用濃度によって、活性化合物は
雑草を非選択的に防除することができ、例えば、産業用地、鉄道軌道、道路、植
林地及び非植林地等において使用することができる。
【0059】 更に、本発明に従う式(I)の化合物は多年性植物栽培において雑草防除のた
めに使用することができ、そして、例えば、植林、観賞用植林、果樹園、ブドウ
園、カンキツ果樹園、ナッツ果樹園、バナナ栽培場、コーヒー栽培場、茶栽培場
、ゴム栽培場、ギネアアブラヤシ栽培場、ココア栽培場、小果樹園、ホップ栽培
地等に適用することができ、また、一年性植物栽培において選択的雑草防除のた
めに適用することができる。
【0060】 本発明の式(I)に従う化合物は、使用に際して通常の農薬製剤形態にするこ
とができる。かかる製剤の形態としては、例えば、液剤、エマルジョン、水和剤
、懸濁剤、粉剤、可溶性粉剤、粒剤、錠剤、懸濁エマルジョン濃厚物、重合体物
質中のマイクロカプセル、ジャンボ剤等を挙げることができる。
【0061】 これらの製剤は、それ自体既知の方法により製造することができ、例えば、本
発明の式(I)の化合物を、展開剤、即ち、液体希釈剤及び/又は固体希釈剤又
は担体、場合によっては界面活性剤、即ち、乳化剤及び/又は分散剤及び/又は
泡沫形成剤を用いて混合することによって製造することができる。展開剤として
水を用いる場合には、例えば、有機溶媒を補助溶媒として使用することができる
【0062】 液体希釈剤又は担体としては、芳香族炭化水素類(例えば、キシレン、トルエ
ン、アルキルナフタレン等)、クロル化芳香族又はクロル化脂肪族炭化水素類(
例えば、クロロベンゼン類、塩化エチレン類、塩化メチレン等)、脂肪族炭化水
素類[例えば、シクロヘキサン等、パラフィン類(例えば鉱油留分等)]、アル
コール類(例えば、ブタノール、グリコール及びそれらのエーテル、エステル等
)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等)、強極性溶媒(例えば、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド等)そして水を挙げることができる。
【0063】 固体希釈剤としては、例えば、粉砕天然鉱物(例えば、カオリン、クレー、タ
ルク、チョーク、石英、アタパルガイト、モンモリロナイト、珪藻土等)、粉砕
合成鉱物(例えば、高分散ケイ酸、アルミナ、ケイ酸塩等)を挙げることができ
る。
【0064】 粒剤のための固体担体としては、例えば、粉砕且つ分別された岩石(例えば、
方解石、大理石、軽石、海泡石、白雲石等)、無機及び有機物粉の合成粒、有機
物質(例えば、おがくず、ココやしの実のから、とうもろこしの穂軸、タバコの
茎等)の細粒体等を挙げることができる。
【0065】 乳化剤及び/又は発泡剤としては、非イオン及び陰イオン乳化剤[例えば、ポ
リオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸アルコールエーテ
ル(例えば、アルキルアリールポリグリコールエーテル、アルキルスルホン酸塩
、アルキル硫酸塩、アリールスルホン酸塩等)]、アルブミン加水分解生成物等
を挙げることができる。
【0066】 分散剤としては、例えば、リグニンサルファイト廃液及びメチルセルロースが
包含される。
【0067】 固着剤も、製剤(粉剤、粒剤、乳剤)に使用することができ、使用しうる固着
剤としては、例えば、カルボキシメチルセルロース、天然及び合成ポリマー(例
えば、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート等)などを
挙げることができる。
【0068】 着色剤を使用することもできる。該着色剤としては、例えば、無機顔料(例え
ば、酸化鉄、酸化チタン、プルシアンブルー等)、アリザリン染料、アゾ染料又
は金属フタロシアニン染料のような有機染料、及び更に、鉄、マンガン、ボロン
、銅、コバルト、モリブテン、亜鉛等の金属の塩のような微量要素を挙げること
ができる。
【0069】 該製剤は、一般には、前記式(I)の化合物を0.1〜95重量%、好ましく
は0.5〜90重量%の範囲内で含有することができる。
【0070】 本発明の式(I)の化合物はそれ自体で又はそれらの製剤形態で、雑草防除の
ために使用することができる。それらはまた既知の除草剤との混合剤としても使
用することができる。そのような混合剤は、予め最終製剤形態に調製しておくか
又は使用時にタンクミックスして調製することができる。
【0071】 また、本発明の式(I)の化合物は薬害軽減剤と併用することも可能であり、
そしてこの併用により選択性除草剤としての適用をより広くすることができる。
薬害軽減剤の一例として、1−(α、α−ジメチルベンジル)−3−p−トリル
ウレアを挙げることができる。
【0072】 本発明の式(I)の化合物と組み合わせることができる除草剤としては、例え
ば、下記の既知の除草剤を挙げることができる。 (例えば禾穀類栽培における雑草防除に対して)4−アミノ−6−(1,1−ジ
メチルエチル)−3−エチルチオ−1,2,4−トリアジン−−5(4H)−オ
ン、1−アミノ−6−エチルチオ−3−(2,2−ジメチルプロピル)−1,3
,5−トリアジン−2,4(1H,3H)−ジオン、又はN−(2−ベンゾチア
ゾリル)−N,N′−ジメチルウレア等; (さとうきび栽培における雑草防除に対して)4−アミノ−3−メチル−6−フ
ェニル−1,2,4−トリアジン−5(4H)−オン等; (大豆栽培における雑草防除に対して)4−アミノ−6−(1,1−ジメチルエ
チル)−3−メチルチオ−1,2,4−トリアジン−5(4H)−オン等; (水稲栽培における雑草防除に対して)メチルα−(4,6−ジメトキシピリミ
ジン−2−イルカルバモイルスルファモイル)−O−トルアート等。
【0073】 驚くべきことに、これらの除草剤と本発明の式(I)の化合物とのいくつかの
混合除草剤は相乗効果を示す。
【0074】 本発明の式(I)の化合物は、そのまま直接施用するか、又は散布用調製液、
乳剤、懸濁剤、粉剤、粒剤のような製剤形態で使用するか、又は更に希釈して調
製された使用形態で施用することができる。
【0075】 本発明の式(I)の化合物は、例えば、液剤散布、噴霧(spraying,atomizin
g)、散粉、散粒等の方法で施用することができる。
【0076】 本発明の式(I)の化合物は、植物の発芽前及び発芽後のいずれの段階におい
ても使用することができる。また、それらは播種前に、土壌中に混和することも
できる。
【0077】 本発明の式(I)の化合物の施用量は実質的範囲内で変えることができ、そし
て望むべき効果の性質によって基本的に異なる。除草剤として使用する場合、適
当な施用量としては、例えば、1ヘクタール当り、約0.01〜約5kg、好ま
しくは約0.1〜約3kgの範囲内の式(I)の化合物を挙げることができる。
【0078】 本発明の化合物の製造及び用途を下記の実施例によりさらに具体的に示す。し
かし、本発明はこれらのみに限定されるべきものではない。
【0079】 「部」は特にことわりのない限り「重量部」である。合成例1
【0080】
【化13】
【0081】 1−((S)−α−メチルベンジル)−5(4H)−テトラゾリノン(1.0
0g)、N,N−ジメチルアミノピリジン(0.77g)及びN−イソプロピル
−N−フェニルカルバモイルクロライド(1.25g)をトルエン(20ml)
に溶解し、そして80℃で8時間加熱撹拌した。放冷後、反応混合物を水(10
ml×2回)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥しそして次に溶媒を減圧下留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒 ヘキサン:酢
酸エチル=3:1)に付し、1−((S)−α−メチルベンジル)−4−(N−
イソプロピル−N−フェニルカルバモイル)−5(4H)−テトラゾリノン(1
.72g)を得た。mp:79〜81℃。
【0082】 上記合成例と同様の方法で得られた化合物を上記合成例1で得られた化合物と
共に下記第1表に示す。
【0083】
【表1】
【0084】
【表2】
【0085】
【表3】
【0086】
【表4】
【0087】
【表5】
【0088】
【表6】
【0089】
【表7】
【0090】
【表8】
【0091】
【表9】
【0092】
【表10】
【0093】
【表11】
【0094】
【表12】
【0095】
【表13】
【0096】
【表14】
【0097】合成例2 (中間体)
【0098】
【化14】
【0099】 (S)−α−メチルベンジルイソシアネート(8.00g)、トリメチルシリ
ルアジド(9.40g)及び触媒量の三フッ化ホウ素エーテル錯体とを混合し、
そして16時間加熱還流した。減圧下に過剰のトリメチルシリルアジドを留去し
、そして残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒 ヘキサン:酢
酸エチル=3:2)に付し、1−((S)−α−メチルベンジル)−5(4H)
−テトラゾリノン(8.18g)を得た。mp:102〜106℃。合成例3 (中間体)
【0100】
【化15】
【0101】 アジ化ナトリウム(1.95g)を無水ジメチルホルムアミド(18ml)に
懸濁し、そしてアルゴン気流中、氷冷下にて無水塩化アルミニウム(0.2g)
を加えそして15分間撹拌した。次に、(S)−α−メチルベンジルイソシアネ
ート(4.85g)を滴下し、そしてアルゴン気流中70〜75℃で3時間加熱
撹拌した。放冷後、反応物を亜硫酸ナトリウム(0.5g)、水(100ml)
及び氷(50g)の混合物中に撹拌しながら加え、10%塩酸で酸性とし、そし
て酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒
を留去し、そして残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒 ヘキ
サン:酢酸エチル=3:2)に付し、1−((S)−α−メチルベンジル)−5
(4H)−テトラゾリノン(3.20g)を得た。mp:102〜106℃。
【0102】 上記合成例2又は3と同様の方法に従い得られた化合物を合成例2及び3で得
られた化合物と共に下記第2表に示す。
【0103】
【表15】
【0104】試験例1 :水田雑草に対する除草効果試験 活性化合物の調合剤の調製 担体:アセトン 5重量部 乳化剤:ベンジルオキシポリグリコールエーテル 1重量部 活性化合物の調合剤は、1重量部の活性化合物と、上記の分量の担体及び乳化
剤とを混合することにより、乳剤として得られる。その調合剤の所定薬量を水で
希釈して試験用調合剤を調製する。 試験方法 温室内において、水田土壌を詰めた500cm2のポットに、2.5葉期(草丈
15cm)の水稲苗(品種:日本晴)を1ポット当り1株3本植えとして移植し
た。次いで、タイヌビエ、タマガヤツリ、ホタルイ、コナギ、広葉雑草(アゼナ
、キカシグサ、ミゾハコベ、ヒメミゾハギ、アブノメ等)の各種子を播種し、そ
して土壌に約2〜3cm湛水した。
【0105】 水稲移植5日後、前記調製法に従って調製した各活性化合物の調合剤で水面処
理した。3cmの湛水状態を保った。処理から3週間後に除草効果を調査した。
除草効果の評価は、完全枯死を100%とし、0%を除草効果なしとして行なっ
た。
【0106】 その結果、本発明の化合物番号2、3、11、12、42、88及び165の
化合物は、薬量0.5kg/haで、水田雑草に対し十分な除草効果を示し、そ
して移植水稲に対し安全性を示した。製剤例1 (粒剤) 5重量部の化合物No.165、30重量部のベントナイト(モンモリトナイ
ト)、58重量部のタルク(滑石)及び2重量部のリグニンスルホン酸塩の混合
物に、25重量部の水を加えた。混合物を良く捏化し、押し出し式造粒機により
10〜40メッシュの粒状とし、重量部の40〜50℃で乾燥して粒剤を得る。
製剤例2(粒剤) 0.2〜2mmに粒度分布を有する95重量部の粘土鉱物粒を回転混合機に入
れる。回転下、液体希釈剤とともに5重量部の化合物No.2を混合機中に噴霧
し、均等に湿らせ、重量部の40〜50℃で乾燥し粒剤を得る。製剤例3 (乳剤) 30重量部の化合物No.3、5重量部のキシレン、8重量部のポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル及び7重量部のアルキルベンゼンスルホン酸カ
ルシウムを混合撹拌して乳剤を得る。製剤例4 (水和剤) 15重量部の化合物No.42、80重量部のホワイトカーボン(含水無結晶
酸化ケイ素微粉末)と粉末クレーとの混合物(1:5)、2重量部のアルキルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウム及び3重量部のアルキルナフタレンスルホン酸ナト
リウムホルマリン重合物を粉末混合し、そして水和剤とする。製剤例5 (水和顆粒) 20重量部の化合物No.2、30重量部のリグニンスルホン酸ナトリウム、
15重量部のベントナイト及び35重量部の焼成ケイソウ土粉末を十分に混合し
、水を加え、次に0.3mmのスクリーンで押し出し混合機乾燥して、水和顆粒
を得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AT,AU, AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,C N,CR,CU,CZ,DE,DK,DM,DZ,EE ,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,HR, HU,ID,IL,IN,IS,JP,KE,KG,K P,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU ,LV,MA,MD,MG,MK,MN,MW,MX, NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,S G,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,TZ ,UA,UG,US,UZ,VN,YU,ZA,ZW Fターム(参考) 4H011 AB02 BA01 BA05 BB14 BC01 BC05 BC07 BC18 BC19 BC20 DA02 DA15 DA16 DC05 DC06 DC08 DD01 DH03

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 [式中、 R1はメチル又はエチルを示し、 R2はハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アル
    キルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、フ
    ェニル、フェノキシ、アルコキシカルボニル、ニトロ又はシアノを示し、そして
    nは0、1、2、3、4又は5を示す] に従う化合物。
  2. 【請求項2】 R1がメチル又はエチルを示し、 R2がフルオル、クロル、ブロム、C1-4アルキル、C1-4ハロアルキル、C1-4
    ルコキシ、C1-4ハロアルコキシ、C1-4アルキルチオ、C1-4ハロアルキルチオ
    、C1-4アルキルスルフィニル、C1-4アルキルスルホニル、フェニル、フェノキ
    シ、C1-4アルコキシカルボニル、ニトロ又はシアノを示し、そして nが0、1、2、3又は4を示す ことを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  3. 【請求項3】 R1がメチルを示し、 R2がフルオル、クロル、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、te
    rt−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ト
    リフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ
    、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、メチルスルフィニル、メチルス
    ルホニル、フェニル、フェノキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
    ニトロ又はシアノを示し、そして nが0、1、2又は3を示す ことを特徴とする請求項1に記載の化合物。
  4. 【請求項4】 a)一般式(II) 【化2】 [式中、 R1はメチル又はエチルを示す] の化合物を、不活性溶媒の存在下にそして、適宜、塩基の存在下に、一般式(I
    II) 【化3】 [式中、 R2はハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アル
    キルチオ、ハロアルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、フ
    ェニル、フェノキシ、アルコキシカルボニル、ニトロ又はシアノを示し、 nは0、1、2、3、4又は5を示し、そして Mは脱離基、例えばクロル、ブロムを示す] の化合物と反応させることを特徴とする式(I) 【化4】 [式中、 R1、R2およびnは上記と同義である] の化合物の製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項1に記載の一般式(I)の化合物の少なくとも1種を
    含有することを特徴とする除草剤組成物。
  6. 【請求項6】 請求項1に記載の一般式(I)の化合物を雑草及び/又はそ
    れらの生息地に作用させることを特徴とする雑草の防除方法。
  7. 【請求項7】 雑草を防除するための請求項1に記載の一般式(I)の化合
    物の使用。
  8. 【請求項8】 請求項1に記載の一般式(I)の化合物を展開剤及び/又は
    界面活性剤と混合することを特徴とする除草剤組成物の製造方法。
  9. 【請求項9】 一般式(II) 【化5】 [式中、 R1は請求項1に記載したと同義である] に従う化合物。
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